심결취소소송 정리집  결정계 사건을 중심으로 통권 제25호
선행발명 1은 반도체 제조용 마스크의 제조 프로세스나 디스플레이기 기판 제조 프로세스 등의 미세가공 분야에 적용되는 드라이 에칭에 관한 것으로서, 기판과 스테이지 사이에 기판의 냉각 혹은 가열을 촉진하기 위해 열전도용 가스를 도입하면서 드라이 에칭을 행하는 방법에 있어서, 스테이지를 몇 개의 영역으로 분할하여 각 영역마다 온도, 열전도용 가스유량 및 압력을 설정하여 유지되도록 함으로써, 기판의 온도분포를 제어하면서 드라이 에칭을 행할 수 있도록 하는 것인 바, 이 사건 출원발명과 기술분야가 동일하고 이 사건 출원발명의 목적을 포함하고 있다. 선행발명 2는 처리용기 내의 시료대에 재치된 반도체 기판 등의 처리대상의 시료를 상기 용기 내에 생성된 플라즈마를 이용해 처리하는 플라즈마 처리장치에 관한 것으로, 시료대를 볼록부에 의해 구획한 후 구획된 영역별로 열전달 가스가 각각 공급되도록 함으로써 시료의 온도분포를 조절하면서 시료를 처리할 수 있도록 한 것인 바, 이 사건 출원발명과 기술분야가 동일하고 이 사건 출원발명의 목적을 포함하고 있다.
스테이지와 기판 사이에 기판의 가열 혹은 냉각을 조장하기 위해 무엇을 도입하여 드라이 에칭을 할까