종합 반도체 강국 실현을 위한 ｢K-반도체 전략｣ 수립
【 추진전략② : 반도체 제조 중심지 도약을 위한 인프라 투자 확대 】
➊ (세제지원) 핵심기술 확보, 양산시설 확충 촉진을 위해 (가칭)핵심전략기술을 신설하여 R&D·시설투자 세액공제 대폭 강화(2021.下~2024년 투자분 적용)
 * 상용화 전 양산시설 투자도 (가칭)핵심전략기술 투자에 포함하여 지원할 예정
ㅇ R&D 최대 40~50%, 시설투자 최대 10~20% 공제
➋ (금융지원) 8인치 파운드리 증설, 소부장 및 첨단 패키징 시설 투자 지원을
위해 1조원+α 규모의 ‘반도체 등 설비투자 특별자금’ 신설
* (우대금리) 1%p 감면, (대출기간) 5년 거치, 15년 분할상환
ㅇ 사업경쟁력 강화 지원자금 등의 지원규모를 최대한 확대하고 다양한 금융 프로그램도 적극 지원
➌ (규제완화) 화학물질, 고압가스, 온실가스, 전파응용설비 등 반도체 제조시설 관련 규제 합리화
▴화학물질 취급시설 인·허가 신속처리 패스트트랙 도입(인·허가 소요기간 50% 단축)
▴수입용기 검사면제 및 방호벽 설치기준 완화
▴최적가용기법(BAT; Best Available Techniques) 적용시 배출권 100% 할당
▴전파응용설비에 대한 운용시점(준공신고만으로 즉시 운용) 및 변경허가 규제 완화 추진
➍ (기반구축) ①용인·평택 등의 10년치 반도체 용수물량 확보, ②(가칭)핵심
전략기술 관련 반도체 제조시설의 전력 인프라 구축 시 정부·한전이 최대 50% 범위 내 공동분담 지원
ㅇ 반도체 폐수처리의 경우 폐수재활용 R&D 등 적극 지원
종합 반도체 강국 실현을 위한 ｢K-반도체 전략｣ 수립
K 반도체 전략에서 화학물질 취급시설 인허가를 신속처리하기 위해 도입한 건 뭐야
패스트트랙