저비용·대면적·초고속 그래핀 나노리본 제조 기술 개발 - 웨어러블 전자소자나 플렉시블 디스플레이 상용화 앞당길 원천기술 개발-
용어 설명
1. 나노선
○ 나노 미터 수준의 지름과 수 마이크로 미터 이상의 길이를 갖는 1차원 형태의 나노 재료. 기존 재료에 비해서 뛰어난 전기적 특성과 유연성 등 차세대 전자 소자의 구현을 위한 다양한 이점을 가지고 있다.
2. 전자빔 리소그래피(Electron-Beam Lithography)
○ 가늘게 오므려 조인 전자빔에 의해서 선폭 1㎛ 전후 혹은 그 이하의 미세한 패턴을 정확하게 묘사하는 기술이다. 반도체 집적회로 제조과정에서의 회로 패턴의 기록방식을 말한다. 웨이퍼 면에 IC(집적회로)를 만들어 넣기 위한 인쇄 공정의 하나로, 빔을 웨이퍼 면에 선택적으로 조사(照射)하는 것으로, 광 조사 인쇄인 경우와 달리 마스크는 필요없다.
저비용, 대면적 그래핀 나노리본 제조
광 조사 인쇄와 달리 전자빔 리소그래피는 무엇이 불필요해
마스크