고효율 스핀 신소재 개발
- 차세대 자성메모리의 원천기술 개발-
3.연구 이야기 
□연구하면서 어려웠던 점이나 장애요소가 있었다면 무엇인지? 어떻게 극복(해결)하였는지?
수 나노미터 수준의 얇은 박막에서의 계면효과 및 스핀궤도토크 연구는 기존에 많은 연구가 수행되지 않는 분야이기 때문에 실험 결과의 올바른 해석과 예측을 위해서는 강자성, 전이금속 물질에 대한 깊은 이해와 이론적인 모델링 등의 연구가 동반되어야 했다. 특히 벌크효과와 계면효과의 경계가 모호한 나노미터 수준의 박막에서 이를 증명하기 위해서는 고성능 자성특성 측정기술과 정확한 분석이 요구되었다. 본 연구에서는 이러한 문제를 해결하기 위해서 국내외 관련분야 전문가 (한국과학기술원 김갑진 교수 연구팀, NIST M. D. Stile 박사 연구팀) 과 공동 연구를 수행하였다. 특히 미래소재디스커버리사업 스핀궤도소재연구단이 시작되면서 공동연구가 활성화되어 연구 수행에 큰 도움이 되었고, 이 기회를 통해 앞으로도 더 활발한 공동연구를 진행할 것을 기대하고 있다. 
□이번 성과, 무엇이 다른가?
최근 발견된 스핀궤도토크 현상을 반도체 소자와 융합하여 저전력 소모, 고집적이 가능한 자성메모리 기록 기술 개발을 위한 연구를 수행하였다. 이론적으로 예측만 되어오던 계면효과로부터 스핀전류를 생성하는 소재기술을 실제 실험으로 증명한데 큰 의미가 있다고 할 수 있다. 아직까지 연구가 미비한 계면효과에서의 스핀전류 생성에 대한 물리적인 이해를 제공할 수 있어 학문적 가치가 높다. 특히 차세대 메모리로 ㅍ주목받고 있는 자성메모리에 사용 할 수 있는 다양한 소재구조를 제시하였다. 마지막으로 본 연구팀이 2년 전 개발한 반강자성 스핀궤도토크 연구의 후속 연구로 스핀궤도토크 및 자성메모리 관련 연구가 연속성을 가지고 끊임없이 새로운 연구성과가 배출 되고 있다는 점에서 매우 큰 의미가 있다고 생각된다.
□꼭 이루고 싶은 목표와, 향후 연구계획은?
현재 국내 자성재료 연구 수준은 세계적으로도 인정받고 있고 국내 반도체 메모리 산업역시 세계 1위를 달리고 있다. 본 연구팀에서 개발한 소재기술의 지속적인 연구개발을 통해 자성메모리 연구개발을 선도하여 핵심기술 확보 및 자성메모리의 상용화에 앞장서고 싶다.
고효율 스핀신소재 개발
자성메모리기록 기술 개발을 위해 어떤 현상과 반도체소자를 융합하여 연구를 시행했니
스핀궤도토크