Etching & Edge Isolation: Untuk menghilangkan jalur listrik yang tidak diinginkan yang dibentuk oleh fosfor tipe-n yang berdifusi di sekitar tepi wafer dan bagian belakang.
Tegak lurus mautsaha antuk vertikalitas miwah katiadakan antuk garis maliku-liku gaya Curvilinear sane ngadukung tiang lurus sane nenten kapegat saking baduur ka beten, kalintasin olih transom miwah palang horizontal.