Liquid phase exfoliation
2008ರಲ್ಲಿ ಮೊದಲ ಬಾರಿಗೆ ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲಾದ ಲಿಕ್ವಿಡ್-ಫೇಸ್ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ (ಎಲ್ಪಿಇ) ಒಂದು ದ್ರಾವಣ-ಸಂಸ್ಕರಣಾ ವಿಧಾನವಾಗಿದ್ದು, ಇದನ್ನು ಲೇಯರ್ಡ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ 2-ಆಯಾಮದ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಪ್ರಸ್ತುತ 2ಡಿ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಆಧಾರಸ್ತಂಭ ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಐಡಿಟೆಕ್ಎಕ್ಸ್ ಪ್ರಕಾರ, ಎಲ್ಪಿಇಯಿಂದ ನೇರವಾಗಿ ಅಥವಾ ಪರೋಕ್ಷವಾಗಿ ಹೊರಹೊಮ್ಮಿದ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ತಂತ್ರಗಳ ಕುಟುಂಬವು ಈಗ ಜಾಗತಿಕ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಶೇಕಡಾ 60 ಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಭಾಗವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಈ ವಿಧಾನವು ಪುಡಿಮಾಡಿದ ಪದರದ ಹರಳುಗಳನ್ನು, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಅನ್ನು, ಸೂಕ್ತವಾದ ದ್ರಾವಕಗಳಿಗೆ ಸೇರಿಸುವುದು ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅಲ್ಟ್ರಾಸೋನಿಕೇಷನ್ ಮೂಲಕ, ಹೆಚ್ಚಿನ-ಕತ್ತರಿಸುವ ಮಿಶ್ರಣವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಶಕ್ತಿಯ ಸೇರ್ಪಡೆಯು ವಿಘಟನೆ ಮತ್ತು ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ನ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಪದರದ ಸ್ಫಟಿಕಗಳಿಂದ ಸಣ್ಣ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಅನ್ನು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಬಹುದು. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ಈ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳು ಕೆಲವು ಏಕ ಪದರಗಳ ದಪ್ಪವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಹತ್ತಾರು ನ್ಯಾನೊಮೀಟರ್ಗಳಿಂದ ಹಿಡಿದು ಅನೇಕ ಮೈಕ್ರಾನ್ಗಳವರೆಗಿನ ಪಾರ್ಶ್ವದ ಗಾತ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಬಳಸಿದ ದ್ರಾವಕಗಳು ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳಂತೆಯೇ ಮೇಲ್ಮೈ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವವರೆಗೆ ಈ ಚದುರಿದ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳು ಅರೆ ಸ್ಥಿರವಾದ ಅಮಾನತುಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ. ಪ್ರತಿ ಲೀಟರ್ಗೆ 1 ಗ್ರಾಂ ಕ್ರಮದ ಚದುರಿದ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು. ದ್ರಾವಕಗಳ ಜೊತೆಗೆ, ಆಣ್ವಿಕ ಸ್ಥಿರೀಕಾರಕಗಳನ್ನು ಸಹ ಬಳಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಸರ್ಫ್ಯಾಕ್ಟಂಟ್ಗಳು ಅಥವಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳನ್ನು ಲೇಪಿಸಲು ಮತ್ತು ಅವುಗಳನ್ನು ಮರುಸಂಗ್ರಹಣೆಗೆ ವಿರುದ್ಧವಾಗಿ ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸಲು. ಇದು ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳನ್ನು ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಗಿತಗೊಳಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುವ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಈ ವಿಧಾನವನ್ನು ಮೊದಲು ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಟ್ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದ್ದರೂ, ನಂತರ ಇದನ್ನು ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಡೈಸಲ್ಫೈಡ್, ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಡೈಸೆಲೀನೈಡ್, ಬೋರಾನ್ ನೈಟ್ರೈಡ್, ನಿಕೆಲ್ (II) ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸೈಡ್, ಜೆರ್ಮೇನಿಯಂ ಮೊನೊಸಲ್ಫೈಡ್, ಎಸ್. ಎನ್. ಪಿ. 3 ಮತ್ತು ಕಪ್ಪು ರಂಜಕ ಸೇರಿದಂತೆ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ 2ಡಿ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ದ್ರವ ಹಂತದ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ನಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ದ್ರವ ಅಮಾನತುಗಳನ್ನು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ರಚನೆಗಳ ಶ್ರೇಣಿಯನ್ನು ರಚಿಸಲು ಬಳಸಬಹುದು. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಇಂಕ್ ಜೆಟ್ ಮುದ್ರಣದಂತಹ ಪ್ರಮಾಣಿತ ತಂತ್ರಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಅವುಗಳನ್ನು ತೆಳುವಾದ ಪದರಗಳು ಮತ್ತು ಜಾಲಗಳಲ್ಲಿ ಮುದ್ರಿಸಬಹುದು. ಮುದ್ರಿತ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್, ಸಂವೇದಕಗಳು ಮತ್ತು ನ್ಯಾನೊ ಕಾಂಪೋಸಿಟ್ಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ ವಿವಿಧ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಮುದ್ರಿತ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ. ಸಂಬಂಧಿತ ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ವೆಟ್ ಬಾಲ್ ಮಿಲ್ಲಿಂಗ್, ಹೋಮೋಜೆನೈಸೇಶನ್, ಮೈಕ್ರೋಫ್ಲೂಯಿಡೈಸೇಶನ್ ಮತ್ತು ವೆಟ್ ಜೆಟ್ ಮಿಲ್ಲಿಂಗ್ ಮೂಲಕ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ಸೇರಿವೆ. ದ್ರವರೂಪದ ಹಂತದ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ಇತರ ದ್ರವರೂಪದ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ವಿಧಾನಗಳಿಗಿಂತ ಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಉತ್ಪಾದನೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಇದು ಕಡಿಮೆ ವಿನಾಶಕಾರಿಯಾಗಿದೆ, ಇದು ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳ ತಳದ ಸಮತಲಗಳಲ್ಲಿ ಕನಿಷ್ಠ ದೋಷಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ. ಪದರವಲ್ಲದ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ಅರೆ-2ಡಿ ನ್ಯಾನೊಪ್ಲೆಟ್ಲೆಟ್ಗಳಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಲು ಎಲ್ಪಿಇಯನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು ಎಂದು ಇತ್ತೀಚೆಗೆ ಹೊರಹೊಮ್ಮಿದೆ. ಒರಿಜಿನ್ಸ್ ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಹಂತದ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ಅನ್ನು ಮೊದಲ ಬಾರಿಗೆ 2008 ರಲ್ಲಿ ಐರ್ಲೆಂಡ್ನ ಸಂಶೋಧನಾ ತಂಡವು ಒಂದು ಪ್ರಬಂಧದಲ್ಲಿ ವಿವರವಾಗಿ ವಿವರಿಸಿದೆ, ಆದಾಗ್ಯೂ ಇದೇ ರೀತಿಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತ ವಿವರಣೆಯನ್ನು ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಮ್ಯಾಂಚೆಸ್ಟರ್ ಗುಂಪು ಪ್ರಕಟಿಸಿತು. ಇತರ ಪ್ರಬಂಧಗಳು ಈ ಹಿಂದೆ ದ್ರವಗಳಲ್ಲಿ ಲೇಯರ್ಡ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಟ್ ಮಾಡುವ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ವಿವರಿಸಿದ್ದರೂ, ಯಾವುದೇ ಹಿಂದಿನ ಅಯಾನು ಇಂಟರ್ಕ್ಯಾಲೇಷನ್ ಅಥವಾ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂಸ್ಕರಣೆಯಿಲ್ಲದೆ ದ್ರವಗಳಲ್ಲಿ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ಅನ್ನು ವಿವರಿಸಿದ ಮೊದಲ ಪ್ರಬಂಧಗಳು ಇವು. ಎಲ್ಪಿಇ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ವಿಧಾನಗಳು ಲೇಯರ್ಡ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ಸೂಕ್ತವಾದ ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸುವ ದ್ರವಗಳಲ್ಲಿ ಸೇರಿಸುವುದು ಮತ್ತು ನಂತರ ಲೇಯರ್ಡ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳಿಂದ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ದ್ರವಕ್ಕೆ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಪೂರೈಸಲು ಹಲವಾರು ವಿಭಿನ್ನ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ. ಅತ್ಯಂತ ಮುಂಚಿನ ಮತ್ತು ಅತ್ಯಂತ ಸಾಮಾನ್ಯವಾದದ್ದು ಅಲ್ಟ್ರಾಸೋನಿಕೇಷನ್ ಆಗಿದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಸಲುವಾಗಿ, 2014ರಲ್ಲಿ ಹೈ ಶಿಯರ್ ಮಿಕ್ಸಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸಲಾಯಿತು. ಈ ವಿಧಾನವು ಅತ್ಯಂತ ಉಪಯುಕ್ತವೆಂದು ಸಾಬೀತಾಯಿತು ಮತ್ತು ವೆಟ್ ಬಾಲ್ ಮಿಲ್ಲಿಂಗ್, ಹೋಮೋಜೆನೈಸೇಶನ್, ಮೈಕ್ರೋಫ್ಲೂಯಿಡೈಸೇಶನ್ ಮತ್ತು ವೆಟ್ ಜೆಟ್ ಮಿಲ್ಲಿಂಗ್ ಸೇರಿದಂತೆ ಸಸ್ಪೆನ್ಷನ್ನಲ್ಲಿ ಕತ್ತರಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಹಲವಾರು ಇತರ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಪ್ರೇರೇಪಿಸಿತು. ಸ್ಥಿರೀಕಾರಕಗಳು ಸರಳವಾದ ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸುವ ದ್ರವಗಳು ಪದರದ ಸ್ಫಟಿಕಕ್ಕೆ ಹತ್ತಿರವಿರುವ ಮೇಲ್ಮೈ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ದ್ರಾವಕಗಳಾಗಿವೆ. ಆಚರಣೆಯಲ್ಲಿ, 70 mJ/m2 ಗೆ ಹತ್ತಿರವಿರುವ ಮೇಲ್ಮೈ ಒತ್ತಡ ಹೊಂದಿರುವ ದ್ರವಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ ಜಲೀಯ ಸರ್ಫ್ಯಾಕ್ಟಂಟ್ ದ್ರಾವಣಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕಡಿಮೆ ಸಾಮಾನ್ಯವಾದ, ಆದರೆ ಕೆಲವು ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ ಉಪಯುಕ್ತವಾದದ್ದು, ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಟೆಡ್ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳನ್ನು ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸಲು ಆಣ್ವಿಕ ಅಥವಾ ಪಾಲಿಮರಿಕ್ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳನ್ನು ಬಳಸುವುದು. ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್ ಅನ್ನು ಮೀರಿದ 2ಡಿ ವಸ್ತುಗಳ ಎಲ್ಪಿಇಯನ್ನು ಎಲ್ಪಿಇ ಉತ್ಪಾದಿಸಿದೆ. 2008ರಲ್ಲಿ ಹೊರತೆಗೆಯಲಾದ ಮೊದಲ ಪದಾರ್ಥವೆಂದರೆ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್. ಇದರ ನಂತರ 2011ರಲ್ಲಿ ಬಿ. ಎನ್., ಎಂ. ಓ. ಎಸ್. 2 ಮತ್ತು ಡಬ್ಲ್ಯೂ. ಎಸ್. 2 ಅನ್ನು ಹೊರಹಾಕಲಾಯಿತು. ಅಂದಿನಿಂದ, ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಡೈಸೆಲೀನೈಡ್, ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಡೈಸೆಲೀನೈಡ್, ಗ್ಯಾಲಿಯಂ ಸಲ್ಫೈಡ್, ಮಾಲಿಬ್ಡಿಮಮ್ ಟ್ರೈಆಕ್ಸೈಡ್, ನಿಕೆಲ್ (II) ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸೈಡ್, ಜರ್ಮೇನಿಯಮ್ ಮೊನೊಸಲ್ಫೈಡ್, ಎಸ್. ಎನ್. ಪಿ. 3, ಕಪ್ಪು ರಂಜಕ ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ 2ಡಿ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಹೊರತೆಗೆಯಲಾಗಿದೆ. ಪದರಗಳಿಲ್ಲದ ವಸ್ತುಗಳ ಎಲ್ಪಿಇ ಇತ್ತೀಚಿನ ಸಂಶೋಧನೆಯು ಪದರಗಳಿಲ್ಲದ 3ಡಿ-ಬಲವಾದ ಬಂಧದ ಬೃಹತ್ ವಸ್ತುಗಳಿಂದ 2ಡಿ-ನ್ಯಾನೊಪ್ಲೆಟ್ಲೆಟ್ಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ದ್ರವ ಹಂತದ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು ಎಂದು ತೋರಿಸಿದೆ. ಈ 3ಡಿ-ಘನ ಬೃಹತ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳು ಎಲ್ಲಾ ಮೂರು-ದಿಕ್ಕುಗಳಲ್ಲಿ ಬಲವಾದ ಬಂಧಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವುದರಿಂದ ಇದು ಅಂತರ್ಬೋಧೆಯಿಂದ ಅನಿರೀಕ್ಷಿತವಾಗಿದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಬೋರಾನ್, ಸಿಲಿಕಾನ್, ಜರ್ಮೇನಿಯಂ, ಐರನ್ ಡೈಸಲ್ಫೈಡ್, ಐರನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್, ಐರನ್ ಟ್ರೈಫ್ಲೋರೈಡ್, ಮ್ಯಾಂಗನೀಸ್ ಟೆಲ್ಲುರೈಡ್ಗಳಂತಹ ಅನೇಕ ಪದರವಲ್ಲದ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಸೂಕ್ತ ದ್ರಾವಕಗಳಲ್ಲಿ ಸೋನಿಕ್ ಮಾಡಿದಾಗ 2ಡಿ ನ್ಯಾನೊಪ್ಲೇಟ್ಲೆಟ್ಗಳಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಲಾಗಿದೆ. ಇದು ದ್ರವ-ಹಂತದ ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನದ ಬಗ್ಗೆ ಅನೇಕ ಮುಕ್ತ ಪ್ರಶ್ನೆಗಳನ್ನು ಹುಟ್ಟುಹಾಕುತ್ತದೆ. ಪದರದ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ, ಅಂತರ-ಸಮತಲ (ಪ್ರಧಾನವಾಗಿ ವ್ಯಾನ್ ಡರ್ ವಾಲ್ಸ್) ಬಂಧಗಳ ಬಲಗಳನ್ನು ಮುರಿಯಲು ಬೇಕಾಗುವ ಶಕ್ತಿಯು ಸಮತಲದೊಳಗಿನ ಅಯಾನಿಕ್ ಅಥವಾ ಕೋವೆಲೆಂಟ್ ಬಂಧಗಳನ್ನು ಮುರಿಯಲು ಬೇಕಾಗುವ ಶಕ್ತಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ. ನಂತರ, ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಷನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು 2ಡಿ-ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್ಗಳ ರಚನೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಪದರವಿಲ್ಲದ 3ಡಿ-ಬಲವಾದ ಬಂಧದ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ, ವಿವಿಧ ಪರಮಾಣು ಸಮತಲಗಳ ನಡುವಿನ ಬಂಧದಲ್ಲಿ ಕನಿಷ್ಠ ವ್ಯತ್ಯಾಸದೊಂದಿಗೆ, ಯಾವುದೇ "ಸುಲಭವಾಗಿ ಹೊರತೆಗೆಯಲಾದ" ದಿಕ್ಕು ಇಲ್ಲ ಮತ್ತು ಸೋನಿಕೇಶನ್ ಅರೆ ಗೋಳಾಕಾರದ ಕಣಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ. ಅದೇನೇ ಇದ್ದರೂ, ಸಿಲಿಕಾನ್ನಂತಹ ಹತ್ತಿರದ ಐಸೊಟ್ರೊಪಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ ಆಕಾರ ಅನುಪಾತದ ಪ್ಲೇಟ್ಲೆಟ್ಗಳನ್ನು ನೀಡಲು ಎಕ್ಸ್ಫೋಲಿಯೇಟ್ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಪದರವಲ್ಲದ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಹೊರತೆಗೆಯುವ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳ ಬಗ್ಗೆ ತಿಳುವಳಿಕೆಯನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಅಂತಹ ಪದರವಿಲ್ಲದ 2ಡಿ-ನ್ಯಾನೊಪ್ಲೆಟ್ಲೆಟ್ಗಳ ಅನ್ವಯದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು ವಿಶಾಲವಾಗಿದೆ, ಬಯೋಮೆಡಿಕಲ್ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಂದ ಹಿಡಿದು ಶಕ್ತಿ ಸಂಗ್ರಹಣೆಯವರೆಗೆ ಆಪ್ಟೋ-ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್ ವರೆಗೆ. ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ರಾಸಾಯನಿಕ ಭೌತಶಾಸ್ತ್ರ ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ತಂತ್ರಗಳು