Cross-polarized wave generation
ಕ್ರಾಸ್-ಪೋಲರೈಸ್ಡ್ ತರಂಗ (XPW) ಉತ್ಪಾದನೆಯು ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದ್ದು, ಇದನ್ನು ಆವರ್ತನ ಕ್ಷೀಣಗೊಳ್ಳುವ (ನಾಲ್ಕು-ತರಂಗ ಮಿಶ್ರಣ) ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ಗುಂಪಿನಲ್ಲಿ ವರ್ಗೀಕರಿಸಬಹುದು. ಇದು ಮೂರನೇ ಕ್ರಮಾಂಕದ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಅನಿಸೊಟ್ರೊಪಿ ಹೊಂದಿರುವ ಮಾಧ್ಯಮಗಳಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ ನಡೆಯುತ್ತದೆ. ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಸ್ಫಟಿಕದ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ ಅಂತಹ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, ಇದು ಅದೇ ಆವರ್ತನದಲ್ಲಿ ಹೊಸ ರೇಖಾತ್ಮಕ ಧ್ರುವೀಕೃತ ತರಂಗವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಧ್ರುವೀಕರಣವು ಇನ್ಪುಟ್ ತರಂಗದ ಧ್ರುವೀಕರಣಕ್ಕೆ ಲಂಬವಾಗಿ ಆಧಾರಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ. XPW ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಸರಳೀಕೃತ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಯೋಜನೆಯನ್ನು ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. 1. ಇದು ಎರಡು ಅಡ್ಡ ಧ್ರುವೀಕರಣಗಳ ನಡುವೆ ಸ್ಯಾಂಡ್ವಿಚ್ ಮಾಡಲಾದ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಸ್ಫಟಿಕ ಫಲಕವನ್ನು (ದಪ್ಪ 1-2 ಮಿಮೀ) ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾದ XPWನ ತೀವ್ರತೆಯು ಇನ್ಪುಟ್ ತರಂಗದ ತೀವ್ರತೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಘನ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ವಾಸ್ತವವಾಗಿ, ಫೆಮ್ಟೊಸೆಕೆಂಡ್ ದ್ವಿದಳ ಧಾನ್ಯಗಳ ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ಮತ್ತು ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಪ್ರೊಫೈಲ್ಗಳ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಈ ಪರಿಣಾಮವು ಯಶಸ್ವಿಯಾಗಲು ಇದು ಮುಖ್ಯ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ. ಘನ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಮಾಧ್ಯಮವಾಗಿ ಬಳಸುವುದರಿಂದ ಅವು ರೇಖೀಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಐಸೊಟ್ರೊಪಿಕ್ ಆಗಿರುತ್ತವೆ (ಯಾವುದೇ ಬೈರ್ಫ್ರಿಂಗೆನ್ಸ್ ಇಲ್ಲ) ಮತ್ತು ಆ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ XPW ಮತ್ತು ಮೂಲಭೂತ ತರಂಗ (FW) ಎರಡೂ ತರಂಗಗಳ ಹಂತ ಮತ್ತು ಗುಂಪು ವೇಗಗಳು ಸಮಾನವಾಗಿರುತ್ತವೆಃ VXPW = VFW ಮತ್ತು Vgr, XPW = Vgr, FW. ಅದರ ಪರಿಣಾಮವು ಸ್ಫಟಿಕದ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಹರಡುವ ಎರಡು ತರಂಗಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಹಂತ ಮತ್ತು ಗುಂಪು ವೇಗ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯಾಗಿದೆ. ಈ ಗುಣವು ನಾಡಿ ಆಕಾರ ಮತ್ತು ವರ್ಣಪಟಲದ ಕನಿಷ್ಠ ವಿರೂಪಗಳೊಂದಿಗೆ XPW ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಉತ್ತಮ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಿವರಣೆ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಮಾಧ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಎರಡು ಲಂಬ ಧ್ರುವೀಕೃತ ತರಂಗಗಳ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಪ್ರಕರಣವನ್ನು ಪರಿಗಣಿಸಿ. ಮೂಲಭೂತ ತರಂಗ A ಯ ಸ್ವಯಂ ಹಂತದ ಸಮನ್ವಯವನ್ನು ವಿವರಿಸುವ ಸಮೀಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಹೊಸ ತರಂಗವು ಲಂಬವಾಗಿ ಧ್ರುವೀಕರಿಸಿದ ತರಂಗ B ಯ ಉತ್ಪಾದನೆಯು |B | <|A | (ಅಂದರೆ. ಮೂಲಭೂತ ತರಂಗದ ಸವಕಳಿಯನ್ನು ನಿರ್ಲಕ್ಷಿಸಿದಾಗ, ತರಂಗ ಬಿ ಯ ಸ್ವಯಂ ಮತ್ತು ಅಡ್ಡ ಹಂತದ ಸಮನ್ವಯವನ್ನು ಈ ಕೆಳಗಿನ ರೂಪದಲ್ಲಿ ಬರೆಯಬಹುದುಃ,, ಎಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಅವು (i) ಸ್ಫಟಿಕ ಅಕ್ಷಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಮಾದರಿಯ ದೃಷ್ಟಿಕೋನವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುವ ಗುಣಾಂಕಗಳಾಗಿವೆ (ಎರಡು ಜನಪ್ರಿಯ ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳ ಅಭಿವ್ಯಕ್ತಿಗಳಿಗಾಗಿ ನೋಡಿಃ ಝಡ್-ಕಟ್ ಮತ್ತು ಹೊಲೊಗ್ರಾಫಿಕ್ ಕಟ್); (ii) ಘಟಕ ಮತ್ತು (iii) ಟೆನ್ಸರ್ನ ಅನಿಸೊಟ್ರೊಪಿ. ಆರಂಭಿಕ ಷರತ್ತುಗಳಾದ A (0) = A0 ಮತ್ತು B (0) = 0 ಹೊಂದಿರುವ ಈ ಸರಳೀಕೃತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಪರಿಹಾರವೆಂದರೆಃ, ಇಲ್ಲಿ L ಎಂಬುದು ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಮಾಧ್ಯಮದ ಉದ್ದವಾಗಿದೆ. ಸಿ. ಡಬ್ಲ್ಯೂ. ಪಂಪ್ನ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು, ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಮಾಧ್ಯಮದ ಔಟ್ಪುಟ್ನಲ್ಲಿ XPW ತೀವ್ರತೆಯ Iout ಅನುಪಾತ ಮತ್ತು ಇನ್ಪುಟ್ ತರಂಗ Iinನ ತೀವ್ರತೆಯ ಅನುಪಾತ ಎಂದು ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದನ್ನು ಇನ್ಪುಟ್ ತೀವ್ರತೆ × ಉದ್ದದ ಉತ್ಪನ್ನದ sin2 ಕಾರ್ಯದಿಂದ ವಿವರಿಸಬಹುದುಃ (1). ಸ್ವಯಂ ಹಂತದ ಸಮನ್ವಯವು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದ್ದರೆಃ (2). ಕೊನೆಯ ಅಭಿವ್ಯಕ್ತಿ (2) ಮೂಲಭೂತ ತರಂಗದ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಹಂತದ ಬದಲಾವಣೆಯು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದ್ದಾಗ ದಕ್ಷತೆಯು ಇನ್ಪುಟ್ ತೀವ್ರತೆಯ ವರ್ಗವಾಗಿ ಬೆಳೆಯುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. 3ಕ್ಕಿಂತ ಮೇಲಿನ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಹಂತದ ಬದಲಾವಣೆಯ ಹೆಚ್ಚಳವು XPW ಸಂಕೇತದ ಸುಸಂಬದ್ಧ ಬೆಳವಣಿಗೆಯನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತಾತ್ವಿಕವಾಗಿ ಇನ್ಪುಟ್ ತೀವ್ರತೆಯ ಕಾರ್ಯವಾಗಿ ದಕ್ಷತೆಯ ನಿಯತಕಾಲಿಕ ಅವಲಂಬನೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಎರಡು ಸ್ಫಟಿಕ ಯೋಜನೆಯ ಬಳಕೆಯು ಈ ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ನಿವಾರಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ಮತ್ತು ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಆಕಾರಗಳನ್ನು ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕುವುದು ಅಭಿವ್ಯಕ್ತಿಯ ಮೂಲಕ ಊಹಿಸಲಾದ (1) ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಇದನ್ನು ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ. 2 ಅಲ್ಲಿ XPW ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಗಣನೆಗೆ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುವ ಎಲ್ಲಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳೊಂದಿಗೆ ನಿಖರವಾದ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ನೀಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಸಿಂಗಲ್ ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ ಸ್ಕೀಮ್ನೊಂದಿಗೆ ಪಡೆದ ಗರಿಷ್ಠ ಎಕ್ಸ್ಪಿಡಬ್ಲ್ಯೂ ದಕ್ಷತೆಯು ಬಾಹ್ಯಾಕಾಶದಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಗಾಸಿಯನ್ಗೆ ಶೇಕಡಾ 12 ರಷ್ಟನ್ನು ತಲುಪುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಟಾಪ್-ಹ್ಯಾಟ್ ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಪ್ರೊಫೈಲ್ ಮತ್ತು ಗಾಸಿಯನ್ಗೆ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸಾಧಿಸಿದ ಗರಿಷ್ಠ ದಕ್ಷತೆಯು ಶೇಕಡಾ 29 ಆಗಿದೆ. ಈ ನಡವಳಿಕೆಯು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಾನ್ಲೀನಿಯಾರಿಟಿಯ ನೇರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿದೆ. ಬಿಎಎಫ್2 ಸ್ಫಟಿಕದಲ್ಲಿ ಎಕ್ಸ್ಪಿಡಬ್ಲ್ಯೂನ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ವಿಶಿಷ್ಟ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. 3. ಏಕ ಸ್ಫಟಿಕ ಯೋಜನೆಯಲ್ಲಿ XPW ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ದಕ್ಷತೆಯು ಸುಮಾರು 10 ಪ್ರತಿಶತದಷ್ಟು ಸ್ಯಾಚುರೇಟ್ ಆಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಎರಡು ಸ್ಫಟಿಕ ಯೋಜನೆಯಿಂದ XPW ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ 20-30% ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು. XPW ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಪರಿಣಾಮವು ಫೆಮ್ಟೊಸೆಕೆಂಡ್ ದ್ವಿದಳ ಧಾನ್ಯಗಳ [4] ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ ಮತ್ತು ನಿಯಂತ್ರಣಕ್ಕಾಗಿ ಅನ್ವಯವನ್ನು ಕಂಡುಕೊಳ್ಳುತ್ತಿದೆ. ಎಕ್ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಲೈಟ್ ಇನ್ಫ್ರಾಸ್ಟ್ರಕ್ಚರ್ ಯುರೋಪಿಯನ್ ಯೋಜನೆಯಲ್ಲಿ ಫೆಮ್ಟೊಸೆಕೆಂಡ್ ಬೇಳೆಕಾಳುಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಎಕ್ಸ್ಪಿಡಬ್ಲ್ಯೂ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ಕ್ರಾಸ್ ಪೋಲರೈಸ್ಡ್ ತರಂಗ ಉತ್ಪಾದನೆ