Internal oxidation
ಲೋಹಗಳ ಸವೆತದಲ್ಲಿ ಆಂತರಿಕ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣವು ಸವೆತದ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ರಚನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ (ಉದಾಹರಣೆಗೆ. ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್) ಲೋಹದ ಬೃಹತ್ ಒಳಗೆ. ಬೇರೆ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ತುಕ್ಕು ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ಲೋಹದ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ದೂರದಲ್ಲಿ ರಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳನ್ನು ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಕೆಲವು ಘಟಕಗಳು ಬೃಹತ್ ಸಮತೋಲನಕ್ಕೆ ಆದ್ಯತೆ ನೀಡಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಂಡಾಗ ಆಂತರಿಕ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣವು ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ. ಆಕ್ಸಿಡೈಸರ್ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಇಂಟರ್ಫೇಸ್ನಿಂದ ಲೋಹದ ಬೃಹತ್ ಮೂಲಕ ಆಮ್ಲಜನಕವನ್ನು ಹರಡುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಮತ್ತೊಂದು ಅಂಶವೂ ಆಗಿರಬಹುದು (ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಗಂಧಕ ಅಥವಾ ಸಾರಜನಕ). ಆಂತರಿಕ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣವು 500 ರಿಂದ 1200 ಡಿಗ್ರಿ ಸೆಲ್ಸಿಯಸ್ ತಾಪಮಾನದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ನಿಕಲ್ ಆಧಾರಿತ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳ ಪ್ರಸಿದ್ಧ ತುಕ್ಕು ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವಾಗಿದೆ. ಆಂತರಿಕ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣವು ಆಯ್ದ ಸೋರಿಕೆಯಿಂದ ಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ. ಉಲ್ಲೇಖಗಳ ತುಕ್ಕು