원자흡광광도법에 의한 분석에서 일반적으로 일어나는 간섭과 가장 거리가 먼 것은?
장치나 불꽃의 성질에 기인하는 분광학적 간섭
시료용액의 점성이나 표면장력 등에 의한 물리적 간섭
시료 중에 포함된 유기물 함량, 성분 등에 의한 유기적 간섭
불꽃 중에서 원자가 이온화하거나 공존물질과 작용하여 해리하기 어려운 화합물을 생성, 기저상태 원자수가 감소되는 것과 같은 화학적 간섭
원자흡광광도법에 의한 분석에서 일반적으로 일어나는 간섭과 가장 거리가 먼 것은?
A. 장치나 불꽃의 성질에 기인하는 분광학적 간섭
B. 시료용액의 점성이나 표면장력 등에 의한 물리적 간섭
C. 시료 중에 포함된 유기물 함량, 성분 등에 의한 유기적 간섭
D. 불꽃 중에서 원자가 이온화하거나 공존물질과 작용하여 해리하기 어려운 화합물을 생성, 기저상태 원자수가 감소되는 것과 같은 화학적 간섭