시료의 전처리 과정 중 '회화에 의한 분해' 에 대한 설명으로 가장 적절한 것은?
목적성분이 400℃이상에서 쉽게 휘산 및 회화될 수 있는 시료에 적용된다.
목적성분이 400℃ 이상에서 쉽게 휘산되지 않고 쉽게 회화될 수 있는 시료에 적용된다.
목적성분이 600℃ 이상에서 쉽게 휘산 및 회화될 수 있는 시료에 적용된다.
목적성분이 600℃이상에서 휘산되지 않고 쉽게 회화 될 수 있는 시료에 적용된다.
시료의 전처리 과정 중 '회화에 의한 분해' 에 대한 설명으로 가장 적절한 것은?
A. 목적성분이 400℃이상에서 쉽게 휘산 및 회화될 수 있는 시료에 적용된다.
B. 목적성분이 400℃ 이상에서 쉽게 휘산되지 않고 쉽게 회화될 수 있는 시료에 적용된다.
C. 목적성분이 600℃ 이상에서 쉽게 휘산 및 회화될 수 있는 시료에 적용된다.
D. 목적성분이 600℃이상에서 휘산되지 않고 쉽게 회화 될 수 있는 시료에 적용된다.