나프타를 접촉분해법에서 개질온도를 705℃로 유지하고 개질압력을 1기압에서 10기압으로 점진적으로 가압할 때 가스의 조성변화는?
H2와 CO2가 감소하고 CH4와 CO가 증가한다.
H2와 CO2가 증가하고 CH4와 CO가 감소한다.
H2와 CO가 감소하고 CH4와 CO2가 증가한다.
H2와 CO가 증가하고 CH4와 CO2가 감소한다.
나프타를 접촉분해법에서 개질온도를 705℃로 유지하고 개질압력을 1기압에서 10기압으로 점진적으로 가압할 때 가스의 조성변화는?
A. H2와 CO2가 감소하고 CH4와 CO가 증가한다.
B. H2와 CO2가 증가하고 CH4와 CO가 감소한다.
C. H2와 CO가 감소하고 CH4와 CO2가 증가한다.
D. H2와 CO가 증가하고 CH4와 CO2가 감소한다.