SU-8 fotoresist
SU-8 är ett vanligt epoxy-baserat negativt fotoresist. Det är en väldigt viskös polymer som kan spinnbeläggas eller fördelas med en tjocklek från <1 mikrometer upp till >300 mikrometer och därefter processas med hjälp av normal mikrolitografi. Det kan användas för att mönstra mikrostrukturer med hög aspektkvot (>20). Dess maximala ljus-absorption sker vid ultravioletta våglängder kring 365 nm (det är inte praktiskt att exponera SU-8 med g-linje-ultraviolett ljus). Vid exponering så korslänkas SU-8s långa molekylkedjor vilket leder till materialsolidifiering. Alla typer av SU-8 fotoresist använder vanligen gamma-butyrolakton som primärt lösningsmedel.

SU-8 utvecklades ursprungligen som ett fotoresist för att förse mikroelektronik-industrin med högupplösningsmasker för produktion av halvledarkomponenter. I dag används det i huvudsak inom mikrofluidik (framför allt via mjuklitografi, men också genom andra stämplingstekniker såsom nanoimprint litografi) och för delar av mikroelektromekaniska system. Materialet används ofta inom bio-MEMS.

SU-8 är i hög grad transparent för ultravioletta våglängder, vilket tillåter strukturering av relativt tjocka (hundratals mikrometer) strukturer med nästan vertikala sidoväggar. Efter exponering och framkallning, så ger materialets i hög grad korslänkade struktur hög kemisk stabilitet och robusthet mot strålningsskador. Härdat korslänkat SU-8 uppvisar en mycket låg mängd av utgasning under vakuumförhållanden. Materialet är dock mycket svårt att ta bort och tenderar att utgasa i sitt oexponerade tillstånd.

Vanliga framkallningsmedel för SU-8 är 1-metoxi-2-propanolacetat och propylenglykolmonometyleteracetat (PGMEA) följt av sköljning i isopropanol (IPA).

Nya rön
SU-8 2000 resist-serien använder cyklopentanon som primärt lösningsmedel och kan användas för att strukturera lager mellan 0,5 och 200 mikrometer i tjocklek. Denna sammansättning kan ge förbättrad vidhäftning på vissa substrat i jämförelse med tidigare kända sammansättningar.

SU-8 3000 resist-serien använder också cyklopentanon som primärt lösningsmedel och är sammansatt för att spinnbelägga tjockare lager från 4 till 150 mikrometer.

Se även
 Fotoresist

Referenser

Externa länkar
SU-8: Thick Photo-Resist for MEMS En webbsida med mycket materialdata och flera processknep.
SU-8 Forum
Microchem data sheet
SU 8 Information Ger information om hur man når rätt tjocklek när man arbetar med SU-8.
Distributörer: Microchem , Gersteltec 

Materialteknik
Polymerer
SU-8 är ett vanligt epoxy-baserat negativt fotoresist . Det är en väldigt viskös polymer som kan spinnbeläggas eller fördelas med en tjocklek från <1 mikrometer upp till >300 mikrometer och därefter processas med hjälp av normal mikrolitografi . Det kan användas för att mönstra mikrostrukturer med hög aspektkvot ( >20 ) . Dess maximala ljus-absorption sker vid ultravioletta våglängder kringnm ( det är inte praktiskt att exponera SU-8 med g-linje-ultraviolett ljus ) . Vid exponering så korslänkas SU-8s långa molekylkedjor vilket leder till materialsolidifiering . Alla typer av SU-8 fotoresist använder vanligen gamma-butyrolakton som primärt lösningsmedel . SU-8 utvecklades ursprungligen som ett fotoresist för att förse mikroelektronik-industrin med högupplösningsmasker för produktion av halvledarkomponenter . I dag används det i huvudsak inom mikrofluidik ( framför allt via mjuklitografi , men också genom andra stämplingstekniker såsom nanoimprint litografi ) och för delar av mikroelektromekaniska system . Materialet används ofta inom bio-MEMS . SU-8 är i hög grad transparent för ultravioletta våglängder , vilket tillåter strukturering av relativt tjocka ( hundratals mikrometer ) strukturer med nästan vertikala sidoväggar . Efter exponering och framkallning , så ger materialets i hög grad korslänkade struktur hög kemisk stabilitet och robusthet mot strålningsskador . Härdat korslänkat SU-8 uppvisar en mycket låg mängd av utgasning under vakuumförhållanden . Materialet är dock mycket svårt att ta bort och tenderar att utgasa i sitt oexponerade tillstånd . Vanliga framkallningsmedel för SU-8 ärmetoxi-2-propanolacetat och propylenglykolmonometyleteracetat ( PGMEA ) följt av sköljning i isopropanol ( IPA ) . Nya rön SU-8resist-serien använder cyklopentanon som primärt lösningsmedel och kan användas för att strukturera lager mellan5 ochmikrometer i tjocklek . Denna sammansättning kan ge förbättrad vidhäftning på vissa substrat i jämförelse med tidigare kända sammansättningar . SU-8resist-serien använder också cyklopentanon som primärt lösningsmedel och är sammansatt för att spinnbelägga tjockare lager fråntillmikrometer . Se även Fotoresist Referenser Externa länkar SU-8 : Thick Photo-Resist for MEMS En webbsida med mycket materialdata och flera processknep . SU-8 Forum Microchem data sheet SUInformation Ger information om hur man når rätt tjocklek när man arbetar med SU-8 . Distributörer : Microchem , Gersteltec Materialteknik Polymerer