Fotolitograafia
Fotolitograafia ehk optiline litograafia on pooljuhttehnoloogia protsess, kus kujutis kantakse alusmaterjali ehk substraadi pinnale. Kasutatakse väga väikese lainepikkusega valgust (ultraviolettkiirgust), et kanda fotomaski kujutis alusel olevale valgustundlikule kemikaalile, s.o fotoresistile, millele järgneb söövitusprotsess. Fotolitograafia on olnud valdavaks tehnikaks integraallülituste litografeerimisel, näiteks CMOS-kiip läbib fotolitograafia tsükli kuni 50 korda.