Avis juridique important

|

31994D0942

94/942/GBVB: Besluit van de Raad van 19 december 1994 betreffende het gemeenschappelijke optreden, zoals door de Raad vastgesteld op grond van artikel J.3 van het Verdrag betreffende de Europese Unie, ten aanzien van de controle op de uitvoer uit de Gemeenschap van goederen voor tweeërlei gebruik

Publicatieblad Nr. L 367 van 31/12/1994 blz. 0008 - 0163 Bijzondere uitgave in het Fins: Hoofdstuk 2 Deel 15 blz. 0090  Bijzondere uitgave in het Zweeds: Hoofdstuk 2 Deel 15 blz. 0090

BESLUIT VAN DE RAAD van 19 december 1994 betreffende het  gemeenschappelijk optreden, zoals door de Raad vastgesteld op grond van artikel J.3 van het Verdrag  betreffende de Europese Unie, ten aanzien van de controle op de uitvoer uit de Gemeenschap van  goederen voor tweeërlei gebruik (94/942/GBVB)DE RAAD VAN DE EUROPESE UNIE, Gelet op het Verdrag betreffende de Europese Unie, inzonderheid op artikel J.3, Gelet op de algemene richtsnoeren van de Europese Raad van 26 en 27 juni 1992, BESLUIT: Artikel 1 Er wordt een gemeenschappelijk optreden vastgesteld, ter bescherming  van de fundamentele veiligheidsbelangen van de Lid-Staten en ter nakoming van hun internationale  verbintenissen, met betrekking tot de controle op de uitvoer van goederen die zowel een civiele als  een militaire bestemming kunnen hebben en die "goederen voor tweeërlei gebruik" worden genoemd. Dit besluit en Verordening (EG) nr. 3381/94 van de Raad van 19 december 1994 tot instelling van een  communautaire regeling voor exportcontrole op goederen voor tweeërlei gebruik (1) vormen een  geïntegreerd systeem waaraan de Raad, de Commissie en alle Lid-Staten overeenkomstig hun specifieke  bevoegdheden meewerken. Artikel 2 De lijst van goederen voor tweeërlei gebruik staat in bijlage I. Deze lijst geldt ter  fine van artikel 3, lid 1, en artikel 19, leden 1, onder a), en 2, van Verordening (EG) nr.  3381/94. Artikel 3 De lijst van bestemmingen waarop het bepaalde in artikel 6, lid 1, onder a), van  Verordening (EG) nr. 3381/94 van toepassing is, staat in bijlage II. Artikel 4 De richtsnoeren waarmee in verband met artikel 8 van Verordening (EG) nr. 3381/94  rekening dient te worden gehouden, staan in bijlage III. Artikel 5 De lijst van goederen waarop het bepaalde in artikel 19, lid 1, onder b), van  Verordening (EG) nr. 3381/94 van toepassing is, staat in bijlage IV. Artikel 6 De lijst van de goederen en de Lid-Staten waarop artikel 20, lid 1, van Verordening  (EG) nr. 3381/94 van toepassing is, staat in bijlage V. Artikel 7 Dit besluit wordt op dezelfde dag als Verordening (EG) nr. 3381/94 bekendgemaakt in het  Publikatieblad van de Europese Gemeenschappen. Eventuele latere wijzigingen van dit besluit zullen eveneens in het Publikatieblad van de Europese  Gemeenschappen worden bekendgemaakt. Artikel 8 Dit besluit treedt in werking op de dag van zijn bekendmaking. Het is van toepassing vanaf 1 maart 1995. Gedaan te Brussel, 19 december 1994. Voor de Raad De Voorzitter K. KINKEL (1) Zie bladzijde 1 van dit Publikatieblad.  BIJLAGE I Lijst, bedoeld in artikel 2 van Besluit 94/942/GBVB en artikel 3, lid 1, van  Verordening (EG) nr. 3381/94 (Gemeenschappelijke lijst van goederen voor tweeërlei gebruik waarvan  de uitvoer uit de Gemeenschap aan controle onderworpen is) Deze lijst is een technische  implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei  gebruik, waaronder de Community Strategic Controls, MTCR, NSG en de Australiëgroep. Er is geen  rekening gehouden met eventuele posten die Lid-Staten op een "exclusion list" wensen te plaatsen.  Er is geen rekening gehouden met eventuele nationale vergunningsregelingen (niet onder deze  regeling vallende embargo's) die de Lid-Staten kunnen handhaven. ALGEMENE NOTEN BIJ BIJLAGE I 1. Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of  aangepast voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan  vergunningsplicht onderworpen militaire goederen van de afzonderlijke Lid-Staten. Verwijzingen in  deze bijlage naar de "Lijst van militaire goederen" hebben betrekking op deze lijsten. 2. De doelstelling van de controle op de uitvoer van de goederen, vermeld in deze bijlage, mag niet  worden omzeild door de uitvoer van niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen (met inbegrip  van fabrieken) die een of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze  onderdelen het voornaamste element van de goederen vormen en gemakkelijk kunnen worden verwijderd  of voor andere doeleinden worden aangewend. NB: Bij de beoordeling van de vraag of de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als  voornaamste element dienen te worden aangemerkt, dienen factoren als hoeveelheid, waarde en  technologische know-how alsmede andere bijzondere omstandigheden op grond waarvan de aan  vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element van de geleverde goederen kunnen  worden aangemerkt, een rol te spelen. 3. Wat de overdracht van technologie betreft, worden in deze bijlage alleen materiële vormen  bedoeld. 4. Met goederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikte goederen bedoeld. Nucleaire technologienoot (NTN) (Te lezen als onderdeel van sectie E van categorie 0.) De overdracht van "technologie" die rechtstreeks samenhangt met goederen bedoeld in categorie 0  wordt onderworpen aan dezelfde mate van toezicht en controle als de goederen zelf. "Technologie" voor de "ontwikkeling", de "produktie" of het "gebruik" van aan vergunningsplicht  onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast  op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen. Het verlenen van een uitvoervergunning voor goederen houdt tevens in dat de uitvoer naar dezelfde  eindgebruiker van de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en  reparatie van de goederen is toegestaan. Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die  "voor iedereen beschikbaar" is, en op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek". Algemene technologienoot (ATN) (Te lezen als onderdeel van sectie E van de categorieën 1 tot en  met 9.) De overdracht van "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", de "produktie" of het  "gebruik" van in de categorieën 1 tot en met 9 bedoelde goederen is onderworpen aan de op de  categorieën 1 tot en met 9 van toepassing zijnde bepalingen. "Technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", de "produktie" of het "gebruik" van aan  vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze  technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen. Het verlenen van een uitvoervergunning voor goederen houdt tevens in dat de uitvoer naar dezelfde  eindgebruiker van de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en  reparatie van de goederen is toegestaan. NB: Deze bepaling laat de embargostatus van de in 8E002.a bedoelde "technologie" voor herstellingen  onverlet. Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die  "voor iedereen beschikbaar" is, en op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek". Algemene programmatuurnoot (APN) (Deze noot heeft voorrang boven het bepaalde in sectie D van de  categorieën 0 tot en met 9.) De categorieën 0 tot en met 9 van deze lijst zijn niet van toepassing op programmatuur die: a) algemeen voor het publiek verkrijgbaar is doordat de "programmatuur": 1. via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via: a) winkelverkoop, b) postorderverkoop, c) telefonische verkoop, en 2. is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de  leverancier, of b) "voor iedereen beschikbaar" is. Definities van in deze bijlage gebruikte termen Na elke gedefinieerde term wordt tussen haakjes  verwezen naar de betrokken categorie(ën). 5. "Actieve pixel" (6 8) Het kleinste (afzonderlijke) element van de halfgeleider-"array" dat nog een foto-elektrische  overdrachtsfunctie vervult bij blootstelling aan elektromagnetische straling (licht). 4. "Actieve vluchtregelsystemen" (7) Actieve vluchtregelsystemen werken zodanig dat ongewenste bewegingen of structurele belastingen van  "vliegtuig" of raket kunnen worden voorkomen door de onafhankelijke verwerking van signalen van  verscheidene sensoren waarna preventieve commando's voor automatische regeling worden gegeven. 6. "Adaptieve besturing" (2) Een besturingssysteem dat de reactie aanpast op basis van tijdens de bewerking geconstateerde  omstandigheden. (Referentie: ISO 2806-1980) 185. "Aërodynamische vlakken met variabel profiel" (7) Deze worden verkregen door flappen aan de achterrand of aan de voorrand of door een naar beneden  knikkende voorrand, welke tijdens de vlucht bestuurd kunnen worden. 180. "Afstembaar" (6) Het vermogen van een "laser" om binnen een gebied van verschillende "laser"-overgangen bij elke  golflengte een continuvermogen op te wekken. Een "laser" die slechts kan werken op een beperkt  aantal vaste golflengten ("line selectable") wekt discrete golflengten op binnen één  "laser"-overgang en wordt niet beschouwd als "afstembaar". 116. "Andere splijtstoffen" (0) "Door opwerking verkregen" americium-242m, curium-245 en -247, californium-249 en -251, isotopen  van plutonium anders dan plutonium-238 en -239 en elk materiaal dat het voorgaande bevat. 9. "Asynchrone transfer modus" (ATM) (5) Een transfermodus waarbij de informatie is geordend in cellen; deze is asynchroon in die zin dat de  manier waarop de cellen zich herhalen afhankelijk is van de vereiste of momentele bitsnelheid.  (CCITT-aanbevelingen L.113) 124. "Automatische bedrijfsschakelcentrale" ("PABX") (5) Een automatische telefoonschakelcentrale, gewoonlijk voorzien van een werkplaats voor een  telefonist(e), ontworpen om telefoonaansluitingen binnen een organisatie, zoals een onderneming,  een openbare instelling of een overheids-of vergelijkbare instelling, te bedienen en om toegang tot  het openbare telefoonnet te krijgen. 10. "Automatisch volgen van het doel" (6) Een verwerkingstechniek waarbij automatisch en tijdgebonden een geëxtrapoleerde waarde van de meest  waarschijnlijke positie van het doel wordt bepaald en als uitgangssignaal afgegeven. 110. "Autonoom opereren" (8) Hieronder wordt verstaan geheel onder water, zonder ventilatiepijp, met alle systemen in werking en  zich voortbewegend met de minimumsnelheid waarbij het onderwatervoertuig uitsluitend door middel  van zijn diepteroeren zijn diepgang veilig en dynamisch kan regelen, zonder dat er een  ondersteuningsvaartuig of een ondersteunende basis aan de oppervlakte, op de zeebodem of aan wal  nodig is, en met een voortstuwingssysteem voor gebruik onder water of aan de oppervlakte. 16. "Axiale slag" (axiale verplaatsing) (2) Axiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de  stelplaat van de spil aan een punt dat grenst aan de omtrek van de stelplaat van de spil.  (Referentie: ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.63) 11. "Bandbreedte van een spraakkanaal" (5) Bij datacommunicatieapparatuur: ontworpen om te werken binnen een spraakkanaal van 3 100 Hz,  volgens de definitie in CCITT-aanbevelingen G.151. 14. "Beat length" (6) De afstand die twee orthogonaal gepolariseerde signalen, die aanvankelijk in fase zijn, moeten  afleggen teneinde 2 pi radiaal faseverschil te verkrijgen. 70. "Beeldverbetering" (4) Het verwerken van elders verkregen informatiedragende beelden met behulp van algoritmen, zoals  tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen  domeinen (b.v. de snelle Fourier-transformatie ("fast Fourier transform") of de Walsh-transformatie  ("Walsh transform")). Hieronder zijn niet begrepen algoritmen die slechts lineaire of draaiende  omzettingen op een enkel beeld toepassen, zoals verschuivingen, extractie van specifieke kenmerken,  registratie of het vals kleuren. 134. "Bereik" (8) De helft van de maximale afstand die een onderwatervoertuig kan afleggen. 15. "Bias" (versnellingsmeters) (7) Uitgangssignaal van een versnellingsmeter bij afwezigheid van versnelling. 78. "Binnenbekleding" (9) De hechtlaag tussen de vaste stuwstof en de omhulling of isolerende bekleding. Doorgaans een op  vloeibare polymeren gebaseerde dispersie van hittebestendige of isolerende materialen, bij  voorbeeld HTPB met koolstof als vulmateriaal of een andere polymeer waaraan hardingsmiddelen zijn  toegevoegd, waarmee het inwendige van een omhulling wordt gespoten of bestreken. 186. "Boorequivalent" (BE) BE = CF × concentratie van element Z in ppm. Hierin is de conversiefactor CF = ,sigmaZ × AB sigmaB × AZ zijn sigmaZ en sigmaB de doorsneden voor de vangst van thermische neutronen (in barn) voor  respectievelijk boor en element Z en zijn AB en AZ de atoommassa's van respectievelijk boor en  element Z. 148. "Broncode" (of brontaal) (4 5) Een geschikte expressie van een of meer processen, die door een programmeersysteem kan worden  omgezet in een door apparatuur uitvoerbare vorm ("objectcode" (of doeltaal)). 17. "CEP" (Circle of equal probability - 50 %-trefkanscirkel) (7) Een maat voor de nauwkeurigheid; de straal van de cirkel met het doel in het middelpunt, bij een  bepaald bereik, waarbinnen 50 % van de nuttige ladingen terechtkomen. 18. "Chemische laser" (6) Een "laser" waarin de geëxciteerde stof wordt geproduceerd door de door een chemische reactie  voortgebrachte energie. 189. "Civiele luchtvaartautoriteit" (7 9) De bevoegde autoriteit in Australië, België, Canada, Denemarken, Duitsland, Finland, Frankrijk,  Griekenland, Ierland, Italië, Japan, Luxemburg, Nederland, Noorwegen, Oostenrijk, Portugal, Spanje,  Turkije, het Verenigd Koninkrijk, de Verenigde Staten van Amerika en Zweden. 20. "Civiele vliegtuigen" (7 9) Die types "vliegtuigen" die als zodanig zijn aangeduid in gepubliceerde overzichten van  luchtwaardigheidsbewijzen van de civiele luchtvaartautoriteiten voor het vliegen van commerciële  binnenlandse en buitenlandse lijnen of voor wettig civiel, privé of zakelijk gebruik. NB: Zie ook "vliegtuigen". 24. "Communicatiekanaalbesturingseenheid" (5) De fysieke verbinding die de stroom synchrone of asynchrone digitale informatie bestuurt. Deze  bestaat uit een samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden  geïntegreerd teneinde toegang tot de communicatie te verschaffen. 25. "Composiet" (1 6 8 9) Een "matrix" en een of meer toegevoegde fasen bestaande uit deeltjes, whiskers, vezels of iedere  combinatie daarvan, aanwezig voor een specifiek doel of voor specifieke doelen. 29. "Contourbesturen" (2) Twee of meer "numeriek bestuurde" bewegingen volgens instructies die de eerstvolgende vereiste  positie en de vereiste voedingssnelheden naar die positie specificeren. Deze snelheden worden in  afhankelijkheid van elkaar gevarieerd, zodat een gewenste contour wordt verkregen. (Referentie:  ISO/DIS 2806-1980) 31. "Cryptografie" (5) De tak van wetenschap die zich bezighoudt met de grondbeginselen, instrumenten en methoden voor het  omzetten van gegevens teneinde de inhoud daarvan te verbergen, te voorkomen dat deze inhoud  ongemerkt wordt gewijzigd of zonder toestemming wordt gebruikt. "Cryptografie" is beperkt tot het  omzetten van gegevens met gebruikmaking van een of meer "geheime parameters" (b.v.  cryptovariabelen) of aanverwante sleutels. NB: Een "geheime parameter" is een constante of sleutel die voor anderen geheim wordt gehouden of  slechts binnen een groep bekend wordt gemaakt. 32. "Datagram" (4 5) Een op zichzelf staand, onafhankelijk gegevenspakket dat voldoende informatie bevat om van de  signaalapparatuur ("data terminal equipment") van oorsprong naar de signaalapparatuur van  bestemming te worden verzonden zonder dat het afhankelijk is van een voorafgaande uitwisseling van  gegevens tussen deze signaalapparatuur van oorsprong en van bestemming en het transporterende  netwerk. 37. "Diffusielassen" (1 2 9) Het in de vaste fase ("solid state") moleculair met elkaar verbinden van ten minste twee aparte  metalen tot één stuk met een bindingssterkte die ten minste gelijk is aan die van het zwakste  materiaal. 38. "Digitale computer" (4 5) Een apparaat dat, in de vorm van een of meer discrete variabelen: a) gegevens kan opnemen, b) gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare) geheugens kan opslaan, c) gegevens met behulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdrachten kan verwerken, en d) gegevens kan afgeven. NB: Onder veranderen van een opgeslagen reeks opdrachten wordt mede verstaan het vervangen van  onuitwisbare geheugenelementen, doch hieronder valt niet het in fysieke zin wijzigen van bedrading  of onderlinge verbindingen. 39. "Digitale overbrengsnelheid" (5) De totale bitsnelheid van de informatie die direct wordt overgebracht op ieder type medium. NB: Zie ook "totale digitale overbrengsnelheid". 40. "Direct hydraulisch persen" (2) Een vervormingsproces, waarbij gebruik wordt gemaakt van een flexibele, met vloeistof gevulde blaas  die in direct contact staat met het werkstuk. 122. "Door opwerking verkregen" (0) Het toepassen van ieder procédé dat tot doel heeft het gehalte van de betreffende isotoop te doen  toenemen. 2. "Driedimensionale vectorsnelheid" (4) Het aantal per seconde gegenereerde vectoren met meerlijnige, "clip tested", willekeurig gerichte,  10-pixel-vectoren, met x-y-z-cooerdinaten met vaste dan wel drijvende komma (welke van de twee de  grootste snelheid oplevert). 42. "Dynamische adaptieve routebepaling" (5) Automatische aanpassing van de route van verkeer op basis van de waarneming en analyse van actuele  feitelijke netwerkomstandigheden. NB: Hieronder vallen niet de beslissingen ten aanzien van routebepaling aan de hand van vooraf  vastgelegde gegevens. 43. "Dynamische signaalanalysatoren" (3) "Signaalanalysatoren" waarbij gebruik wordt gemaakt van digitale bemonsterings- en  omzettingstechnieken ter verkrijging van een Fourier-spectrumafbeelding van een gegeven golfvorm  met inbegrip van gegevens betreffende amplitude en fase. NB: Zie ook "signaalanalysatoren". 23. "Eénkanaalssignalering" (5) Een methode van signalering, waarbij met behulp van berichten met label via een enkel kanaal  signaleringsinformatie die betrekking heeft op een veelheid van lijnen of oproepen alsmede andere  informatie, bij voorbeeld informatie gebruikt bij het beheer van netwerken, tussen schakelcentrales  wordt overgebracht. 146. "Eenvoudige apparatuur voor onderwijsdoeleinden" (3) Apparatuur ontworpen voor gebruik bij het onderwijzen van fundamentele wetenschappelijke principes  en het demonstreren van de werking van die principes in onderwijsinstellingen. 44. "Effectieve gram" (0) Onder "een effectieve gram" van speciale of andere splijtstoffen wordt verstaan: a) voor plutoniumisotopen en uraan-233: het gewicht van de isotoop in gram; b) voor uraan dat 1 % of meer verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in  gram vermenigvuldigd met het kwadraat van de verrijking, uitgedrukt in decimalen als  gewichtsverhouding; c) voor uraan dat minder dan 1 % verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element  in gram vermenigvuldigd met 0,0001; d) voor americium-242m, curium-245 en -247 en californium-249 en -251: het gewicht van de isotoop  in gram vermenigvuldigd met 10. 47. "Eindeffectors" (2) "Eindeffectors" omvatten grijpers, "actieve gereedschapseenheden" en alle andere gereedschappen die  zijn verbonden met de grondplaat aan het uiteinde van de manipulatiearmen van een "robot". NB: Een "actieve gereedschapseenheid" is een voorziening die beweegkracht of procesenergie op het  werkstuk overbrengt of waarnemingen daarvan verzorgt. 46. "Elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal  identieke antennes" ("phased array antenna") (6) Een antenne waarbij de bundel wordt gevormd door middel van fasekoppeling, d.w.z. de bundelrichting  wordt gestuurd door de complexe opwekkingscoëfficiënten van de uitstralende elementen en de  richting van die bundel kan in azimut of hellingshoek worden gewijzigd door toepassing van een  elektrisch signaal bij zowel uitzending als ontvangst. 48. "Equivalente dichtheid" (6) De massa van een optisch element per optische oppervlakte-eenheid geprojecteerd op het optisch  oppervlak. 49. "Expert systemen" (4) Systemen die hun resultaten verkrijgen door het toepassen van regels op onafhankelijk van het  "programma" opgeslagen gegevens en die een of meer van de volgende functies kunnen vervullen: a) automatisch wijzigen van de door de gebruiker ingevoerde "broncode"; b) verschaffen van kennis betreffende een categorie problemen in een quasi-natuurlijke taal; of  c) verwerven van de kennis die noodzakelijk is voor de ontwikkeling van het systeem (symbolische  training). 50. "Familie" (3) Een "familie" bestaat uit microprocessor- of microcomputer-microschakelingen met: a) dezelfde architectuur, b) dezelfde basisinstructieset, en c) dezelfde basistechnologie (b.v. uitsluitend NMOS of uitsluitend CMOS). 56. "Flexibele fabricage-eenheid (FMU) (2) (Ook wel "flexibel fabricagesysteem" (FMS) of "flexibel fabricage-element" (FMC) genoemd.) Een eenheid die minimaal een combinatie bevat van: a) een "digitale computer" met inbegrip van het eigen "werkgeheugen" en de eigen aanverwante  apparatuur daarvan, en  b) twee of meer van onderstaande elementen: 1. een gereedschapsmachine als omschreven in 2B001.c; 2. een meetmachine als omschreven in categorie 2, of een andere digitaal bestuurde inspectiemachine  als bedoeld in categorie 2; 3. een "robot" als bedoeld in categorie 2 of 8; 4. digitaal bestuurde apparatuur bedoeld in 1B003, 2B003 of 9B001; 5. "met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur bedoeld in 3B001.a; 6. digitaal bestuurde apparatuur bedoeld in 1B001; 7. digitaal bestuurde elektronische apparatuur bedoeld in 3A002.c. 57. "Fluoridevezels" (6) Vezels vervaardigd van bulk fluorideverbindingen. 190. "Focal plane array" (6) Een liniaire of tweedimensionale vlakke laag of combinatie van vlakke lagen met afzonderlijke  detectorelementen, met of zonder uitlees-elektronica, die in het brandvlak worden geplaatst. NB: Stapels afzonderlijke detectorelementen of detectoren met twee, drie of vier elementen vallen  hier niet onder, op voorwaarde dat in het element geen tijdvertraging en integratie plaatsvindt. 58. "Frequency agility" ("frequency hopping") (5) Een vorm van "spread spectrum" waarbij de zendfrequentie van één enkel communicatiekanaal wordt  verschoven met discrete stappen. 60. "Frequentiesynthesizer" (3) Elke soort frequentiebron of signaalgenerator, ongeacht de feitelijk daarin toegepaste techniek,  die een veelheid aan uitgangsfrequenties afgeeft, gelijktijdig of naar keuze, aan een of meer  uitgangen, en die worden bepaald door, afgeleid van of beheerst door een geringer aantal standaard-  (of basis)frequenties. 59. "Frequentiewisseltijd" (3 5) De maximale tijd (d.w.z. vertraging) welke bij het overschakelen van de ene gekozen  uitgangsfrequentie naar een andere benodigd is voor het bereiken van: a) een frequentie binnen 100 Hz van de uiteindelijke frequentie, of  b) een uitgangsniveau liggende binnen 1 dB van het uiteindelijke uitgangsniveau. 13. "Fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" (ATN NTN) Experimenteel of theoretisch werk dat hoofdzakelijk wordt gedaan om nieuwe kennis te verkrijgen  over de fundamentele beginselen van verschijnselen of waarneembare feiten, en dat in eerste  instantie niet is gericht op een bepaald praktisch doel of oogmerk. 182. "Gebruik" (ATN NTN Alle) Bediening, installatie (met inbegrip van installatie ter plaatse), onderhoud (controle), reparatie,  revisie en opknappen. 33. "Gegevensdebiet" (5) De zendsnelheid zoals gedefinieerd in aanbeveling 53-36 van de Internationale Telecommunicatie Unie  (ITU), ermee rekening houdend dat voor niet-binaire modulatie baud en bit per seconde niet  hetzelfde zijn. Bits voor codeer-, controle- en synchronisatiefuncties worden meegeteld. NB: 1. Bij het bepalen van het "gegevensdebiet" worden de kanalen ten behoeve van onderhoud en  beheer niet meegeteld. 2. Het betreft hier de maximale zendsnelheid in één richting, d.w.z. de maximale snelheid van of  wel zenden of wel ontvangen. 74. "Geïnstrumenteerd bereik" (6) Het gespecificeerde ondubbelzinnige beeldbereik van een radar. 54. "Geïntegreerde schakeling van het filmtype" (3) Een reeks "schakelelementen" en metallieke doorverbindingen, die gevormd zijn door afzetting van  een dikke of dunne laag op een isolerend "substraat". NB: Een "schakelelement" is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een  elektronische schakeling, bij voorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator,  enz. 191. "Geïsoleerde levende culturen" Hier onder vallen levende culturen waarvan de organismen zich in een ruststadium bevinden en  levende culturen in gedroogde preparaten. 150. "Gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" (3 6) Produkten die zijn ontworpen, vervaardigd en getest volgens speciale elektrische, mechanische en  omgevingseisen voor gebruik bij het lanceren en opstellen van satellieten of vluchtsystemen die  opereren op hoogten van 100 km of meer. 66. "Geleidingssysteem" (7) Systemen waarin de meting en berekening van de positie en snelheid van een voertuig (navigatie)  worden gecombineerd met de berekening en verzending van opdrachten naar de vluchtregelsystemen van  het voertuig om de baan te corrigeren. 63. "Generieke programmatuur" (5) Een reeks instructies voor een "met opgeslagen programma bestuurd" schakelsysteem, die gelijk is  voor alle centrales die gebruik maken van dat schakelsysteem. NB: Het gedeelte dat zich in het gegevensbestand bevindt wordt niet beschouwd als onderdeel van de  "generieke programmatuur". 64. "Geografisch gespreid" (6) Sensoren worden geacht "geografisch gespreid" te zijn wanneer elke sensor zich in alle richtingen  op een afstand van meer dan 1500 m van iedere andere sensor bevindt. Mobiele sensoren worden altijd  beschouwd als "geografisch gespreid". 65. "Globale onderbrekingswachttijd" (4) De tijd die een computersysteem nodig heeft om een door een gebeurtenis veroorzaakte onderbreking  te onderkennen, deze af te handelen en de processorinstelling tijdelijk over te schakelen naar een  subsidiaire taak die resident is in het geheugen in afwachting van een onderbreking. 113. "Halffabrikaten ("preforms") voor glasvezels" (5 6) Staven, ruwe gietstukken of stangen van glas, kunststof of andere materialen die speciaal zijn  bewerkt om te worden gebruikt bij de vervaardiging van glasvezels. De eigenschappen van het  halffabrikaat bepalen de basiseigenschappen van de daaruit getrokken glasvezels. 67. "Heet isostatisch verdichten" (2) Een proces waarbij op een gietstuk bij een temperatuur van meer dan 375 K (102 °C) in een gesloten  holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) in alle  richtingen gelijke druk wordt uitgeoefend, waardoor holten in het gietstuk worden verminderd of  geëlimineerd. 8. "Hoekafwijking" (2) Het maximale verschil tussen de aangegeven hoekpositie en de feitelijke, zeer nauwkeurig gemeten  hoekpositie nadat de houder van het werkstuk op de tafel uit zijn oorspronkelijke positie is  weggedraaid. (Referentie: VDI/VDE 2617, concept "Draaitafels op cooerdinaten-meetmachines") 68. "Hybride computer" (4) Apparatuur die: a) gegevens kan opnemen; b) gegevens kan verwerken, zowel analoge als digitale voorstelling, en c) gegevens kan afgeven. 69. "Hybride geïntegreerde schakeling" (3) Elke willekeurige combinatie van geïntegreerde schakelingen, "schakelelementen" of "discrete  onderdelen" die onderling verbonden zijn om een of meer specifieke functies te vervullen en met  alle volgende kenmerken: - met ten minste één niet-omhuld element, - onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende produktiemethoden voor geïntegreerde  schakelingen, - als eenheid vervangbaar, en - gewoonlijk niet demonteerbaar. NB: 1. Een "schakelelement" is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een  elektronische schakeling, bij voorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator,  enz. 2. Een "discreet onderdeel" is een afzonderlijk omhuld "schakelelement" met eigen uitwendige  aansluitingen. 129. "Impulscompressie" (6) Codering en verwerking van een radarsignaalimpuls met een lange duur tot een kortstondige impuls,  met behoud van de voordelen van een hoge impulsenergie. 72. "Informatiebeveiliging" (5) Alle middelen en functies ter verzekering van de toegankelijkheid, geheimhouding of integriteit van  gegevens of communicaties, zonder inbegrip van de middelen en functies die zijn bedoeld als  beveiliging tegen storingen. Het begrip omvat o. a. "cryptografie", "cryptanalyse", bescherming  tegen confidentiële uitstralingen en computerbeveiliging. NB: "Cryptanalyse" De analyse van een cryptografisch systeem of de in- en uitvoer daarvan om daaraan vertrouwelijke  variabelen of gevoelige gegevens te ontlenen, met inbegrip van niet-gecodeerde tekst. 76. "Integrated Services Digital Network" (ISDN) (5) Een samengebundeld eind-tot-eind-netwerk, waarin gegevens afkomstig van alle soorten communicatie  (b.v. spraak, tekst, stilstaande en bewegende beelden) van één poort (terminal) in de  telefoon(schakel)centrale via één toegangslijn naar en van de abonnee worden verzonden. 79. "Intrinsieke magnetische gradiëntmeter" (6) Eén enkel waarnemingselement voor de gradiënt van magnetische velden en bijbehorende elektronica  waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetische veld. NB: Zie ook "Magnetische gradiëntmeter". 75. "Isolatie" (9) De isolatie van de onderdelen van een raketmotor, d.w.z. omhulling, straalpijp, inlaten en  afdichtingen van de omhulling, waaronder gevulkaniseerd of halfgevulkaniseerd samengesteld rubber  plaatmateriaal dat een isolerend of hittebestendig materiaal bevat. Isolatie kan ook zijn  aangebracht in de vorm van moffen of flappen om spanningen te ontlasten. 80. "Isostatische persen" (2) Apparatuur geschikt voor het onder druk brengen van een gesloten holte door middel van een bepaalde  stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) teneinde te bereiken dat binnen de holte op een  werkstuk of materiaal gelijke druk in alle richtingen wordt uitgeoefend. 176. "Kantelspil" (2) Een spil met gereedschap die gedurende het bewerkingsproces de hoek van zijn hartlijn ten opzichte  van een andere as kan wijzigen. 108. "Kernreactor" (0) Een kernreactor omvat de delen in of rechtstreeks bevestigd aan het reactorvat, de uitrusting die  het vermogensniveau in de kern regelt, alsmede de onderdelen die gewoonlijk het primaire koelmiddel  van de reactorkern bevatten, daarmee in rechtstreeks contact komen of dit reguleren. 30. "Kritische temperatuur" (1 3 6) De "kritische temperatuur" (ook wel overgangstemperatuur genoemd) van een bepaald "supergeleidend"  materiaal is de temperatuur waarbij de gelijkstroomweerstand van het materiaal nul wordt. 81. "Laser" (0 2 3 5 6 9) Een samenstelling van componenten welke zowel in de ruimte als in de tijd coherent licht produceert  dat is versterkt door de gestimuleerde emissie van straling. NB: Zie ook "Chemische laser", "Q-switched laser", "Super High Power Laser", "Transfer laser". 82. "Lineariteit" (2) (Gewoonlijk gemeten als niet-lineariteit.) Dit is de maximale positieve of negatieve afwijking van  het feitelijke kenmerk (gemiddelde van naar boven en naar beneden gemeten waarden) van een rechte  lijn die zo is geplaatst dat de maximale afwijkingen gelijk worden gemaakt en geminimaliseerd. 83. "Lokaal netwerk" (4) Een datacommunicatiesysteem dat: a) een willekeurig aantal onafhankelijke "datatoestellen" in staat stelt, rechtstreeks met elkaar  in verbinding te staan, en b) beperkt is tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (b.v. een kantoorgebouw, een fabriek,  een universiteitscomplex of een magazijn). NB: Een "datatoestel" is een apparaat voor het zenden of ontvangen van reeksen digitale  informatie. 19. "Luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen" (7) Systemen die gebruik maken van lucht die over aërodynamische vlakken wordt geblazen om de door deze  oppervlakken gegenereerde krachten te verhogen en te beheersen. 84. "Magnetische gradiëntmeters" (6) Deze zijn ontworpen voor het opsporen van de ruimtelijke variaties van magnetische velden van  bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit verscheidene "magnetometers" en bijbehorende  elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetische veld. NB: Zie ook "intrinsieke magnetische gradiëntmeter". 85. "Magnetometers" (6) Deze zijn ontworpen voor het opsporen van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij  bestaan uit één enkel sensorelement voor het waarnemen van magnetische velden en bijbehorende  elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van het magnetische veld. 87. "Matrix" (1 6 8 9) Een in hoofdzaak continue fase die de ruimte tussen deeltjes, whiskers of vezels vult. 88. "Maximale bitsnelheid" a) Van een "MBTR" halfgeleider-geheugeneenheid: het aantal gegevensbits per seconde dat tussen de  geheugeneenheid en de besturingseenheid daarvan wordt overgebracht. b) Van een "disk drive": de interne gegevensoverbrengsnelheid berekend als B × R × T (bit per  seconde), waarin: B = maximaal aantal databits per spoor dat in één omwenteling kan worden gelezen of geschreven; R = omwentelingen per seconde, T = aantal sporen dat gelijktijdig kan worden gelezen of geschreven. 192. "MBTR" Zie "maximale bitsnelheid". 90. "Mechanische legering" (1) Een legeringsproces door middel van het binden, breken en opnieuw binden van elementaire of  moederlegeringspoeders met behulp van mechanische krachten. Niet-metaaldeeltjes kunnen in de  legering worden opgenomen door toevoeging van de geschikte poeders. 91. "Mediumtoegangseenheid" (5) Apparatuur die een of meer communicatie-interfaces bevat ("toegangsbesturingseenheid voor  netwerken", "communicatiekanaalbesturingseenheid", modem of computerhoofdlijn) voor het aansluiten  van eindapparatuur op een netwerk. 89. "Meetonzekerheid" (2) De kenmerkende parameter die specificeert binnen welk bereik rond de uitvoerwaarde de juiste waarde  van de te meten variabele ligt, met een betrouwbaarheidsniveau van 95 %. Deze omvat de  ongecorrigeerde systematische afwijkingen, de ongecorrigeerde speling en de willekeurige  afwijkingen. (Referentie: VDI/VDE 2617) 159. "Met opgeslagen programma bestuurd" (2 3 5) Een besturing die gebruik maakt van instructies die zijn opgeslagen in een elektronisch geheugen,  welke instructies door een processor kunnen worden uitgevoerd om de uitvoering van vooraf bepaalde  functies te sturen. NB: Apparatuur kan "met opgeslagen programma bestuurd" zijn, ook al bevindt het elektronische  geheugen zich niet in het apparaat zelf. 94. "Microcomputer-microschakeling" (3) Een "monolitische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een  logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een intern geheugen algemene opdrachten uit  te voeren op basis van gegevens opgeslagen in het interne geheugen. NB: Het interne geheugen kan worden uitgebreid met een extern geheugen. 187. "Micro-organismen" (1 2) Bacteriën, virussen, mycoplasma's, rickettsiae, chlamydiae of schimmels, natuurlijk, versterkt of  gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend  materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet. 95. "Microprocessor-microschakeling" (3) Een "monolitische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een  logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een extern geheugen een reeks algemene  opdrachten uit te voeren. NB: 1. De "microprocessor-microschakeling" bevat gewoonlijk geen toegankelijkheid van het interne  geheugen voor de gebruiker, hoewel op de "chip" aanwezig geheugen kan worden gebruikt voor  uitvoering van de logische functie. 2. Hieronder vallen tevens "chip sets" die zijn ontworpen om samen de functie van een  "microprocessor-microschakeling" te leveren. 96. "Microprogramma" Een reeks elementaire opdrachten die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de  uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het  opdrachtregister. 73. "Momentele bandbreedte" (3 5) De bandbreedte waarover het uitgangsvermogen binnen 3 dB constant blijft zonder bijstelling van  andere werkparameters. 98. "Monolitische geïntegreerde schakeling" (3) Een combinatie van passieve en/of actieve "schakelelementen" welke: a) wordt gevormd door middel van diffusie, implanteren of opdampen in of op één enkel halfgeleidend  stukje materiaal, een zogenaamde "chip"; b) wordt beschouwd als een ondeelbaar iets, en c) de functie(s) uitvoert van een schakeling. NB: Een "schakelelement" is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een  elektronische schakeling, bij voorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator,  enz. 100. "Multichip geïntegreerde schakeling" (3) Twee of meer "monolitische geïntegreerde schakelingen" verbonden op een gemeenschappelijk  "substraat". 103. "Multispectrale beeldsensoren" (6) Deze zijn geschikt voor het gelijktijdig of serieel vergaren van beeldgegevens van twee of meer  afzonderlijke spectrumbanden. Sensoren met meer dan 20 afzonderlijke spectrumbanden worden ook wel  hyperspectrale beeldsensoren genoemd. 104. "Natuurlijk uraan" (0) Uraan met dezelfde isotopensamenstelling als in de natuur voorkomt. 3. "Nauwkeurigheid" (2) (Gewoonlijk uitgedrukt in mate van onnauwkeurigheid.) De maximale positieve of negatieve afwijking  van een aangegeven waarde ten opzichte van een erkende norm of zuivere waarde. 105. "Netwerktoegangsbesturingseenheid" (4 5) Een fysieke verbinding met een gedistribueerd schakelnetwerk. Deze verbinding maakt gebruik van een  gemeenschappelijk medium dat steeds met dezelfde "digitale overbrengsnelheid" werkt en voor de  transmissie gebruik maakt van "arbitration" (b.v. "token" of "carrier sense"). (Dit houdt in dat  het systeem zelf zorg draagt voor de toegang tot het medium, zodanig dat de apparaten elkaar niet  hinderen, b.v. door onderlinge toewijzing van toegang of door aftasten of het kanaal vrij is.)  Geheel onafhankelijk selecteert de eenheid aan haar geadresseerde gegevenspakketten of  gegevensgroepen (b.v. IEEE 802). Het is een samenstelling die in computer- of  telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd om toegang tot de communicatie te verschaffen. 106. "Neurale computer" (4) Een rekentoestel dat is ontworpen of aangepast voor nabootsing van het gedrag van een neuron of een  verzameling neuronen, d.w.z. een rekentoestel dat zich onderscheidt door het vermogen van zijn  apparatuur ("hardware") om aan de hand van eerdere gegevens het gewicht en aantal van de onderlinge  verbindingen van een grote hoeveelheid rekencomponenten te wijzigen. 137. "Noodzakelijk" (ATN 1-9) Met betrekking tot "technologie" of "programmatuur" wordt hieronder verstaan uitsluitend dat deel  van de "technologie" of "programmatuur" dat in het bijzonder verantwoordelijk is voor het bereiken  of te boven gaan van de onder embargo vallende prestatieniveaus, kenmerken of functies.  Verschillende produkten kunnen dergelijke "noodzakelijke" "technologie" of "programmatuur" gemeen  hebben. 109. "Numerieke besturing" (2) De automatische besturing van een proces uitgevoerd door een apparaat dat gebruik maakt van  numerieke gegevens die gewoonlijk worden ingevoerd tijdens de voortgang van het proces. (Referentie  ISO 2382) 161. "Onafgewerkte substraten" (6) Monolitische verbindingen met afmetingen die geschikt zijn voor de produktie van optische elementen  zoals spiegels of optische vensters. 77. "Onderling verbonden radarsensoren" (6) Twee of meer radarsensoren zijn onderling verbonden wanneer zij tijdgebonden onderling gegevens  uitwisselen. 36. "Ontwikkeling" (ATN NTN Alle) Dit bestrijkt alle fasen voorafgaand aan serieproduktie, zoals ontwerp, ontwerponderzoek,  ontwerpanalyse, ontwerpideeën, assemblage en testen van prototypen, proefproduktieplannen,  ontwerpgegevens, het vertalen van ontwerpgegevens in een produkt, ontwerp van configuraties,  integratieontwerp, opmaak. 136. "Onvertraagde ("real time") verwerking" (2 4) Het verwerken van gegevens door een computersysteem als reactie op een daarbuiten plaatsvindende  gebeurtenis in overeenstemming met de door die gebeurtenis opgelegde tijdeisen. 112. "Optische computer" (4) Een computer ontworpen of aangepast voor het gebruik van licht voor de weergave van gegevens en  waarvan de logische rekenelementen zijn gebaseerd op direct gekoppelde optische elementen. 114. "Optische geïntegreerde schakeling" (3) Een "monolitische geïntegreerde schakeling" of een "hybride geïntegreerde schakeling" die een of  meer delen bevat die zijn ontworpen om als een fotosensor of foto-emitter te werken of om een of  meer optische of elektro-optische functies te vervullen. 111. "Optische versterking" (5) Een bij optische communicatie gebruikte versterkingstechniek die een versterking bewerkstelligt van  optische signalen die zijn voortgebracht door een afzonderlijke optische bron, zonder omzetting in  elektrische signalen, bij voorbeeld door gebruik te maken van halfgeleider optische versterkers, of  luminescerende versterkers van glasvezels. 115. "Optisch schakelen" (5) Bepaling van de route of schakelen van signalen in optische vorm zonder omzetting in elektrische  signalen. 120. "Persoonsgebonden "slimme kaart"" (5) Een "slimme kaart" die een microschakeling bevat, overeenkomstig ISO/IEC 781, die door de uitgever  is geprogrammeerd en die door de gebruiker niet kan worden gewijzigd. 119. "Piekvermogen" (6) Energie per impuls in joules gedeeld door de "pulsduur" in seconden. 62. "Poort" (5) De door iedere combinatie van apparatuur en "programmatuur" gerealiseerde functie van het uitvoeren  van de omzetting van standaardregels voor de weergave, verwerking of communicatie van gegevens die  in het ene systeem worden toegepast, in de overeenkomstige doch verschillende standaardregels die  worden toegepast in een ander systeem. 125. "Produktie" (ATN NTN Alle) Hieronder vallen alle produktiestadia, zoals bouw, produktie, "engineering", fabricage, integratie,  assemblage (monteren), inspectie, testen, kwaliteitsborging. 126. "Produktieapparatuur" (9) Gereedschap, mallen, kalibers, mandrellen, matrijzen, bevestigingsmiddelen, uitlijnmiddelen,  testapparatuur, andere apparatuur en componenten daarvoor, beperkt tot datgene dat speciaal is  ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "produktie". 127. "Produktiefaciliteiten" (9) Apparatuur en speciaal ontworpen "programmatuur" samengesteld tot installaties voor de  "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "produktie". 128. "Programma" (2 4 5) Een reeks opdrachten voor het volbrengen van een handeling in een vorm, of om om te zetten in een  vorm, die voor uitvoering door een elektronische computer geschikt is. 147. "Programmatuur" (APN Alle) Een verzameling van een of meer "programma's" of "microprogramma's" vastgelegd op enig tastbaar  medium. 130. "Pulsduur" (6) Duur van een "laser"-impuls gemeten over volle breedte bij halve intensiteit ("Full width half  intensity" (FWHI)). 131. "Q-switched laser" (6) Een "laser" waarbij de energie wordt opgeslagen in de populatie-inversie of in de optische  resonator en vervolgens wordt uitgezonden in een impuls. 132. "Radar "frequency agility"" (6) Iedere techniek waarbij de draaggolffrequentie van een gepulseerde radarzender in een  pseudo-willekeurige volgorde van impuls tot impuls of van de ene groep impulsen tot de volgende  groep kan veranderen met een hoeveelheid gelijk aan of groter dan de bandbreedte van de impuls.133. "Radar "spread spectrum"" (6) Iedere modulatietechniek voor het spreiden van energie afkomstig van een signaal met een relatief  smalle frequentieband over een veel bredere frequentieband, met gebruikmaking van willekeurige of  pseudo-willekeurige codering. 97. "Raketten" (1-7, 9) Complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een nuttige last van ten  minste 500 kg kunnen vervoeren over een bereik van ten minste 300 km. 177. "Reactietijdconstante" (6) De tijd vanaf het toepassen van een lichtprikkel totdat de stroomtoename een waarde heeft bereikt  van 1-1/e-maal de eindwaarde (d.w.z. 63 % van de eindwaarde). 28. "Rekenelement" (CE) (4) De kleinste rekeneenheid die een rekenkundig of logisch resultaat voortbrengt. 138. "Resolutie" (2)De kleinste stap van een meettoestel; op digitale instrumenten het minst  significante bit. (Referentie: ANSI B-89.1.12) 139. "Robot" (2 8) Een manipulatiemechanisme, dat kan zijn van een type dat een continu pad aflegt of van een type dat  van punt naar punt gaat, eventueel voorzien van "sensoren", en dat alle volgende kenmerken heeft: a) multifunctioneel, b) geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen, gereedschappen of  speciale elementen door middel van regelbare bewegingen in de driedimensionale ruimte, c) met drie of meer servomechanismen met open of gesloten lus waarbij inbegrepen kunnen zijn  stappenmotoren, en d) met "toegankelijkheid van het programma door de gebruiker" door middel van de  leer-en-terugspeel-methode (teach/playback) of door middel van een elektronische computer die een  programmeerbare logische regeleenheid kan zijn (PLC), d.w.z. zonder mechanische interventie. NB: Bovenstaande definitie slaat niet op de volgende toestellen: 1. manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een mechanisme voor afstandbediening te  regelen zijn; 2. manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en geautomatiseerde bewegende toestellen  zijn, die mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch  beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van  trajecten of hoeken mag niet op mechanische , elektronische of elektrische wijze beïnvloedbaar  zijn, 3. mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die  geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen  uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals  pennen en nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken kan binnen  het vaste programmapatroon worden gevarieerd. Variaties of wijzigingen in het programmapatroon  (b.v. verwisselen van pennen of uitwisselen van nokschijven) in een of meer bewegingsassen mogen  alleen langs mechanische weg bewerkstelligd worden, 4. niet van een servomechanisme voorziene manipulatie-mechanismen met een variabele volgorde van  bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde,  geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel zijn maar de volgorde mag slechts  op grond van het binaire signaal van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of  verplaatsbare aanslagen verlopen; 5. stapelkranen, waaronder te verstaan met Cartesische cooerdinaten werkende manipulatiesystemen,  verwaardigd als integraal onderdeel van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor  het bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen. 141. "Rondloopnauwkeurigheid" ("run out") (2) Radiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de  hartlijn van de spil aan een punt op het te testen uitwendige of inwendige omwentelingsoppervlak.  (Referentie ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.61). 140. "Roterend verstuiven" (1) Een proces voor het verdelen van een stroom of een plas gesmolten metaal tot druppeltjes met een  diameter van 500 micrometer of minder door middel van centrifugale kracht. 149. "Ruimtevaartuig" (7 9) Actieve en passieve satellieten en ruimtesondes. 107. "Ruisniveau" (6) Een elektrisch signaal uitgedrukt in spectrale vermogensdichtheid. De verhouding van "ruisniveau"  van piek-tot-piek wordt gegeven met S2pp = 8N0(f2-f1), waarbij Spp de piek-tot-piekwaarde is van  het signaal (b. v. nanotesla), N° de spectrale vermogensdichtheid (b. v. (nanotesla)2/Hz) en  (f2-f1) de desbetreffende bandbreedte definieert. 27. "Samengestelde draaitafel" (2) Een tafel waarop het werkstuk kan draaien en kantelen rond twee niet parallelle assen, die  tegelijkertijd kunnen samenwerken voor "contourbesturen". 45. "Samenstelling" (3 4) Een aantal elektronisch componenten (b.v. "schakelelementen", "discrete onderdelen", geïntegreerde  schakelingen, enz.) die onderling verbonden zijn om een of meer specifieke functies te vervullen en  die als een eenheid vervangbaar en gewoonlijk demonteerbaar is. NB: 1. Een "schakelelement" is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een  elektronische schakeling, bij voorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator,  enz. 2. Een "discreet onderdeel" is een afzonderlijk omhuld "schakelelement" met eigen uitwendige  aansluitingen. 142. "Schaalfactor" (gyroscoop of versnellingsmeter) (7) De verhouding tussen de uitvoerverandering en de te meten invoerverandering. De schaalfactor wordt  gewoonlijk gegeven als de hellingshoek van de rechte lijn die volgens de kleinste-kwadraten-methode  past bij de invoer-uitvoergegevens verkregen door cyclische variatie van de invoer over het  ingangstraject. 167. "Schakelsysteem" (5) Die apparatuur en bijbehorende "programmatuur" die de fysieke of virtuele verbindingsweg verschaft  voor onderweg zijnd berichtenverkeer dat wordt geschakeld. 144. "Signaalanalysatoren" (3) Instrumenten, geschikt voor het meten en afbeelden van de basiseigenschappen van de individuele  frequentiecomponenten van meervoudige-frequentiesignalen. 145. "Signaalverwerking" (4 5) Het verwerken van elders verkregen informatiedragende signalen met behulp van algoritmen, zoals  tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen  domeinen (b.v. de snelle Fourier-transformatie ("fast Fourier transform") of de Walsh-transformatie  ("Walsh transform")). 92. "Smeltextractie" (1) Een proces voor het "snel stollen" en extraheren van een lintvormig legeringsprodukt door een kort  segment van een ronddraaiend gekoeld blok in een bad met een gesmolten metaallegering te brengen. NB: "Snel stollen" is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000  K/sec. 51. "Snel selecteren" (4 5) Een faciliteit die kan worden toegepast bij virtuele oproepen, waardoor de mogelijkheid van  signaalapparatuur ("data terminal equipment") om gegevens te verzenden in gespreksopbouw- en  beëindigings"pakketten" groter wordt dan de basisspecificaties van een virtuele oproep. NB: Een "pakket" is een groep binaire cijfers die gegevens en oproepbesturingssignalen bevat en als  één samengesteld geheel wordt geschakeld. De gegevens, oproepbesturingssignalen en eventuele  foutenbesturingsgegevens zijn in een voorgeschreven opmaak gerangschikt. 151. "Speciale splijtstoffen" (0) Plutonium-239, uraan-233, "uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233" en elk materiaal dat het  voorgaande bevat. 152. "Specifieke modulus" (0 1) Youngs modulus in pascal, gelijk aan N/m² gedeeld door het soortelijke gewicht in N/m³, gemeten bij  een temperatuur van 296 ± 2 K (23 ± 2 °C) een relatieve vochtigheid van 50 ± 5 %. 153. "Specifieke treksterkte" (0 1) De breeksterkte in pascal, gelijk aan N/m² gedeeld door het soortelijk gewicht in N/m², gemeten bij  een temperatuur van 296 ± 2 K (23 ± 2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ± 5 %. 154. "Spectrumrendement" (5) Een prestatiegetal waarvan de parameters zodanig zijn bepaald dat zij kenmerkend zijn voor het  rendement van een transmissiesysteem dat gebruik maakt van complexe modulatieschema's, bij  voorbeeld QAM (kwadratuuramplitudemodulatie), Trellis codering, QSPK ("Q-phased shift key"), enz.  Het getal wordt berekend volgens onderstaande formule: Spectrumrendement = "Digitale overbrengsnelheid" (bit/s) 6 db spectrale bandbreedte (Hz) 93. "Spinnen uit de smelt" (1) Een proces voor het "snel stollen" van een stroom gesmolten metaal die botst op een ronddraaiend  gekoeld blok, waardoor een schilfer-, lint- of staafvormig produkt ontstaat. NB: "Snel stollen" is het stollen van gesmolten materiaal bij een koeslnelheid van meer dan 1000  K/sec. 156. "Spread spectrum" (5) De techniek waarbij de energie in een communicatiekanaal met een relatief smalle band wordt  gespreid over een veel breder energiespectrum. 157. "Sputteren" (4) Een deklaagbekledingsprocédé waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch  veld naar het oppervlak van een trefplaat (bekledingsmateriaal). De kinetische energie van de  botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat  vrijkomen en worden afgezet op het substraat. NB: "Sputteren" met trioden, magnetron of radiofrequentie teneinde de hechting van de bekleding en  de afzetsnelheid te vergroten, zijn gebruikelijke aanpassingen van het procédé. 143. "Stabilisatietijd" ("settling time") (3) De tijd die nodig is om binnen een halve bit van de uitgangseindwaarde te komen bij het schakelen  tussen twee willekeurige niveaus van de omzetter. 158. "Stabiliteit" (7) Standaardafwijking (1 sigma) van de miswijzing van een bepaalde parameter van de ijkwaarde gemeten  bij stabiele temperatuuromstandigheden. Deze kan worden uitgedrukt als een functie van de tijd. 53. "Stapel- en continuvezelmateriaal" (0 2 8) Dit omvat: a) continumonofilamenten; b) continugarens en "rovings"; c) banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden; d) op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens; e) whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte; f) aromatisch polyamidepulp. 52. "Storingstolerantie" (4) Het vermogen van een computersysteem om, na een storing in een onderdeel van zijn apparatuur of  "programmatuur", zonder ingrijpen van de mens te blijven functioneren op een bepaald niveau  waardoor de ononderbroken werking, gegevensintegriteit en herstel van alle functies binnen een  bepaalde tijd worden gegarandeerd. 160. "Substraat" (3) Een laag basismateriaal met of zonder een onderlinge verbindingsstructuur waarop of waarin  "discrete onderdelen" geïntegreerde schakelingen of beide aanwezig kunnen zijn. NB: Een "discreet onderdeel" is een afzonderlijk omhuld "schakelelement" met eigen uitwendige  aansluitingen. 163. "Supergeleidend" (1 3 6 8) Materialen, d.w.z. metalen, legeringen of verbindingen waarvan de elektrische weerstand nul kan  worden, d.w.z. dat zij een oneindige elektrische geleidbaarheid kunnen bereiken en zeer grote  stromen kunnen geleiden zonder joule-opwarming. NB: De "supergeleidende" toestand van elk afzonderlijk materiaal wordt gekenmerkt door een  "kritische temperatuur", een kritisch magnetisch veld, dat een functie is van de temperatuur, en  een kritische stroomdichtheid, die echter een functie is van zowel het magnetisch veld als de  temperatuur. 164. "Super High Power Laser" (SHPL) (6) Een "laser" die geschikt is voor het afgeven van (het totaal of een gedeelte van) de  uitgangsenergie van meer dan 1 kJ binnen 50 ms of met een gemiddeld of CW-(continugolf)-vermogen  van meer dan 20 kW. 162. "Superlegeringen" (2 9) Legeringen op basis van nikkel, kobalt of ijzer, met sterkten hoger dan de standaardwaarden volgens  de AISI 300 bij temperaturen boven 922 K (649 °C) onder zware omgevings- en  gebruiksomstandigheden. 165. "Superplastisch vormen" (1 2) Een vervormingsproces waarbij warmte wordt gebruikt om voor metalen die gewoonlijk weinig rek  (minder dan 20 %) hebben bij de breeksterktegrens als bepaald bij kamertemperatuur door middel van  een conventionele trekproef, tijdens het verwerken minstens tweemaal hogere rekwaarden te bereiken  dan genoemde waarden. 166. "Swept frequency" netwerkanalysatoren" (3) Voor het automatisch meten van equivalente parameters van de schakeling over een frequentiebereik,  waarbij "swept frequency" meettechnieken te pas komen doch geen continugolf-(CW)-metingen van  punt-tot-punt. 168. "Synchrone digitale hiërarchie" (SDH) (5) Een digitale hiërarchie die een middel verschaft voor het beheren, multiplexen en benaderen van  verschillende vormen van digitaal verkeer door gebruik te maken van een synchrone transmissieopmaak  op verschillende soorten media. De opmaak is gebaseerd op de Synchrone Transport Module (STM) die  is gedefinieerd in CCITT-aanbevelingen G.703, G.707, G.708, G.709 en nog te publiceren andere  aanbevelingen. De snelheid van de eerste orde van "SDH" is 155,52 Mbit/s. 169. "Synchroon glasvezelnetwerk" (Sonet) (5) Een netwerk dat een middel verschaft voor het beheren, multiplexen en benaderen van verschillende  vormen van digitaal verkeer door gebruik te maken van een synchrone transmissieopmaak op  glasvezels. De opmaak is de Noordamerikaanse versie van "SDH" en maakt eveneens gebruik van de  Synchrone Transport Module (STM). Sonet hanteert echter het Synchrone Transport Signaal (STS) als  de basistransportmodule met een snelheid van de eerste orde van 51,81 Mbit/s. De Sonet-standaarden  worden momenteel geïntegreerd in die van "SDH". 170. "Systeemsporen" (6) Verwerkt, gecorrelleerd (samenvoeging van radardoelgegevens en vliegplanpositie) en met de laatste  informatie bijgewerkt rapport dat ter beschikking staat van de verkeersleiders van het  Luchtverkeersleidingscentrum. 171. ""Systolic array" computer" (4) Een computer waarbij de gegevensstroom en wijziging van de gegevens dynamisch kan worden bestuurd  door de gebruiker op het niveau van de logische poort. 172. "Technische bijstand" (ATN NTN) Dit kan zijn in de vorm van instructie, vaardigheden, opleiding, praktijkkennis, advisering, e.d.  en kan gepaard gaan met de overdracht van "technische gegevens". 173. "Technische gegevens" (ATN NTN) Deze kunnen onder meer bestaan uit blauwdrukken, tekeningen, schema's, modellen, formules,  tabellen, technische ontwerpen en specificaties, handboeken en instructies, in geschreven vorm of  vastgelegd op andere media of apparaten zoals diskette, magneetband, leesgeheugens (ROM's). 174. "Technologie" (ATN NTN Alle) Specifieke informatie die nodig is voor de "ontwikkeling", "produktie" of het "gebruik" van een  produkt. De informatie is in de vorm van "technische gegevens" of "technische bijstand". 175. "Terminal interfaceapparatuur" (4) Apparatuur waar informatie het telecommunicatiesysteem binnenkomt of verlaat, bij voorbeeld  telefoon, datamachine, computer, faxtoestel. 135. "Tijdgebonden ("real time") bandbreedte"(3) Voor "dynamische signaalanalysatoren" is dit het grootste frequentiebereik dat de analysator kan  uitvoeren naar beeldscherm of massageheugen zonder dat daardoor de analyse van de invoergegevens  wordt onderbroken. Bij analysatoren met meer dan één kanaal dient bij de berekening die  kanaalconfiguratie te worden gehanteerd die de breedste "tijdgebonden bandbreedte" oplevert. 183. "Toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" (5 6) De mogelijkheid voor de gebruiker om "programma's" in te voegen, te veranderen of te vervangen  anders dan door middel van: a) een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen, of b) het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij inbegrepen. 178. "Totale digitale overbrengsnelheid" (5) Het aantal bits, met inbegrip van regelcodering, organisatorische bits enz., dat per tijdseenheid  wordt overgebracht tussen overeenkomstige apparatuur in een digitaal transmissiesysteem. NB: Zie ook "digitale overbrengsnelheid". 117. "Totale stroomdichtheid" (3) Het totale aantal ampèrewikkelingen in de spoel (d.w.z. de som van het aantal wikkelingen  vermenigvuldigd met de maximale stroom die door elke wikkeling wordt gevoerd), gedeeld door de  totale doorsnede van de spoel (met inbegrip van de supergeleidende draden, de metalen matrix waarin  de supergeleidende draden zijn ingebed, het omgevende materiaal, eventuele koelkanalen, enz.).26. "Totale theoretische prestatie" (CTP) (4) Een maat voor de rekenprestatie in miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops), berekend  door samenvoeging van de "rekenelementen" ("computing elements" (CE)). NB: Zie categorie 4, technische noot. 188. "Toxinen" (1 2) Toxinen in de vorm van opzettelijk geïsoleerde preparaten of mengsels, ongeacht de wijze van  bereiding, anders dan toxinen die als contaminant aanwezig zijn in andere materialen zoals  pathologische monsters, gewassen, levensmiddelen of culturen van micro-organismen. 179. "Transfer laser" (6) Een "laser" waarbij het lasermedium wordt geëxciteerd door de overdracht van energie door middel  van botsing van een niet-stralend atoom of molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling  uitzendt.  1. "Tweedimensionale vectorsnelheid" (4) Het aantal per seconde gegenereerde vectoren met meerlijnige, "clip tested", willekeurig gerichte,  10-pixel-vectoren, met x-y-cooerdinaten met vaste dan wel drijvende komma (welke van de twee de  grootste snelheid oplevert). 181. "Uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233" (0) Uraan dat de isotoop 235, 233 of beide bevat in een zodanige hoeveelheid dat de verhouding tussen  de som van de hoeveelheden van deze isotopen en de hoeveelheid van de isotoop 238 groter is dan de  in natuurlijk uraan voorkomende verhouding tussen de hoeveelheden van de isotoop 235 en de isotoop  238 (isotoopverhouding: 0,72 %). 55. "Vast" (5) Het coderings- of comprimeringsalgoritme kan geen parameters van buitenaf ontvangen (b.v.  cryptografische of sleutelvariabelen) noch gewijzigd worden door de gebruiker. 102. "Veiligheid op verscheidene niveaus" (5) Een soort systeem dat gegevens bevat van uiteenlopende gevoeligheid, dat gelijktijdig toegang  verleent aan gebruikers met verschillende classificatieniveaus en informatietoegang, maar dat het  gebruikers onmogelijk maakt toegang te verkrijgen tot gegevens waartoe zij niet bevoegd zijn. NB: "Veiligheid op verscheidene niveaus" is een computerbeveiliging en niet een  computerbetrouwbaarheid; dit laatste heeft betrekking op het voorkomen van storingen in de  apparatuur of van menselijke fouten in het algemeen. 35. "Verarmd uraan" (0) Uraan met een gehalte aan het uraan-235-isotoop dat lager is dan in de natuur voorkomt. 22. "Vergruizing" (1) Een procédé voor het tot deeltjes verdelen van materiaal door stampen of malen. 41. "Verloopsnelheid" (gyroscopen) (7) De snelheid waarmee de afwijking van de uitvoer ten opzichte van de gewenste uitvoer verandert.  Deze bestaat uit willekeurige en systematische componenten en wordt uitgedrukt als een equivalente  invoer-hoekverplaatsing per eenheid tijd ten opzichte van de inerte ruimte. 21. "Vermengd" (commingled) (1) Het mengen van filamenten van thermoplastische vezels en versterkingsvezels voor de produktie van  een vezelversterking/-"matrix"-mengsel in totaalvezelvorm. 121. "Vermogensaanpassing" (7) Een zodanige aanpassing van het uitgezonden vermogen van het hoogtemetersignaal dat het ontvangen  signaal op "vliegtuig"-hoogte altijd het minimale vermogen heeft dat nodig is om de hoogte te  bepalen. 99. "Verplaatsingsbesturingskaart" (2) Een elektronische "samenstelling" speciaal ontworpen om een computersysteem in staat te stellen tot  het gelijktijdig cooerdineren van de bewegingen van assen van gereedschapsmachines voor  "contourbesturen". 155. "Versplintering door snelle afkoeling" ("splat quenching") (1) Een proces voor het "snel stollen" van een gesmolten stroom metaal die botst op een gekoeld blok,  waardoor "flakes" worden gevormd. NB: "Snel stollen" is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1000  K/sec. 61. "Verstuiving in gas" (1) Een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaallegering tot druppeltjes met een  diameter van 500 micrometer of minder door middel van een onder hoge druk staande gasstroom. 184. "Verstuiving in vacuuem" (1) Een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van  500 micrometer of minder door middel van de zeer snelle uitzetting van een opgelost gas bij  blootstelling aan een vacuuem. 34. "Vervormbare spiegels" (6) (ook bekend als adaptieve optische spiegels) Spiegels met: a) één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt vervormd door afzonderlijke  momenten of krachten uit te oefenen om de vervormingen van de op de spiegel invallende optische  golfvorm te compenseren, of b) verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch kunnen worden  verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om vervormingen van de op de spiegel invallende  optische golfvorm te compenseren. 101. "Verwerking van meervoudige stromen van gegevens" (4) De op "microprogramma's" of op de architectuur van apparatuur gebaseerde technieken, die het  verwerken van twee of meer datareeksen bestuurd door een of meer opdrachtreeksen mogelijk maken bij  voorbeeld door middel van: a) "single instruction multiple data"-(SIMD)-architecturen zoals vector- of "array"  verwerkingseenheden; b) "multiple single instruction multiple data"-(MSIMD)-architecturen; c) "multiple instruction multiple data"-(MIMD)-architecturen, met inbegrip van die welke  hechtgekoppeld, kortgekoppeld of niet-hechtgekoppeld zijn, of d) gestructureerde "arrays" verwerkingselementen, met inbegrip van systolische "arrays". 7. "Vliegtuigen" (7 9) Luchtvoertuigen met vaste, draaibare of roterende (hefschroefvliegtuig) vleugel en verticaal  opstijgende luchtvoertuigen (met kantelende rotor of vleugel). NB: Zie ook "civiele vliegtuigen". 12. "Voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" (3) De waarde van de voortplantingsvertragingstijd die overeenkomt met die van de basispoort binnen een  "familie" van "monolitische geïntegreerde schakelingen". Deze kan voor een bepaalde "familie"  gespecificeerd zijn als de voortplantingsvertragingstijd per typerende poort of als typerende  voortplantingsvertragingstijd per poort. NB: De "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" moet niet worden verward met de  in/uitgangsvertragingstijd van een complexe "monolotische geïntegreerde schakeling". 71. "Voor iedereen beschikbaar" (ATN NTN APN) "Technologie" of "programmatuur" die zonder beperkingen aan de verdere verspreiding daarvan  beschikbaar zijn gesteld. (Auteursrechtelijke beperkingen hebben niet tot gevolg dat "technologie"  of "programmatuur" niet langer "voor iedereen beschikbaar" is.) 123. "Voornaamste deel" (4) Een deel is een "voornaamste deel" wanneer de vervangingswaarde hoger is dan 35 % van de totale  waarde van het systeem waarvan het deel uitmaakt. De waarde van een deel is de prijs die door de  fabrikant of door degene die het systeem heeft geïntegreerd voor het deel is betaald. De totale  waarde is de normale internationale verkoopprijs bij verkoop aan een niet-gelieerde partij af  fabriek of bij bevestiging van de verzending. 86. "Werkgeheugen" (4) Het primaire geheugen voor gegevens of opdrachten, dat voor de centrale verwerkingseenheid snel  toegankelijk is. Het bestaat uit het interne geheugen van een "digitale computer" en elke  hiërarchische uitbreiding daarvan, zoals "cache"-geheugens of niet-sequentieel toegankelijke  geheugenuitbreidingen. 118. "Werkstukprogramma" (2) Een geordende verzameling opdrachten in een taal en een formaat die het mogelijk maken om onder  geautomatiseerde besturing bewerkingen te laten uitvoeren. Het heeft de vorm van een  machineprogramma op een invoermedium of van invoergegevens die in een computer worden bewerkt om  een machineprogramma te verkrijgen (Referentie: ISO 2806-1980). CATEGORIE 0 NUCLEAIRE GOEDEREN 0A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 0A001 "Kernreactoren", d. w. z. reactoren met een zodanige werking dat zij een beheerste zichzelf  onderhoudende kettingreactie van kernsplijting handhaven, en uitrusting en onderdelen, speciaal  ontworpen of vervaardigd voor gebruik met een "kernreactor", met inbegrip van a. drukvaten, d. w. z. metalen vaten, hetzij als complete eenheden, hetzij als onderdelen daarvan,  die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel van de kern van een "kernreactor" en die  bestand zijn tegen de werkdruk van het primaire koelmiddel, met inbegrip van het deksel van een  reactordrukvat; b. voorzieningen voor het hanteren van de splijtstofelelementen, met inbegrip van laad- en  losinrichtingen voor reactorbrandstof; c. regelstaven, d. w. z. staven die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de beheersing van  de reactiesnelheid in een "kernreactor", met inbegrip van het deel voor de neutronenabsorptie en de  draag- of ophangconstructies daarvoor en buizen voor het geleiden van de regelstaven; d. elektronische besturingssystemen voor het regelen van vermogensniveaus van "kernreactoren", met  inbegrip van mechanismen voor het besturen van regelstaven en instrumenten voor het waarnemen en  meten van straling ter bepaling van de niveaus van de neutronenflux; e. drukpijpen, d. w. z. buizen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd om dienst te doen als  houder van de splijtstofelementen en het primaire koelmiddel in een "kernreactor" bij een werkdruk  van meer dan 5,1 MPa; f. buizen of samenstellingen van buizen, vervaardigd van zirkoniummetaal of een legering waarin de  gewichtsverhouding tussen hafnium en zirkonium minder is dan 1:500, speciaal ontworpen of  vervaardigd voor gebruik in een "kernreactor"; g. koelpompen, d. w. z. pompen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het doen circuleren  van het primaire koelmiddel van "kernreactoren"; h. inwendige delen die speciaal ontworpen of vervaardigd zijn voor de werking van een  "kernreactor", met inbegrip van, doch niet beperkt tot draagconstructies voor de reactorkern,  hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de reactorkern en diffusorplaten; i. warmtewisselaars. 0A002 Uitrusting voor het opwekken van energie of voortstuwingsinstallaties, speciaal ontworpen  voor gebruik met militaire, mobiele, scheeps- of ruimtekernreactoren. NB: Zie ook de lijst van militaire goederen. Noot: Deze post is niet bedoeld voor conventionele uitrusting voor energieopwekking die, hoewel  ontworpen voor gebruik in een bepaalde kerncentrale, in principe te zamen met conventionele  systemen kan worden gebruikt. 0B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 0B001 Fabrieken voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan", "speciale  splijtstoffen" en "andere splijtstoffen" en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting  en onderdelen, zoals: a. installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd  uraan", "speciale splijtstoffen" en "andere splijtstoffen" zoals: 1. gasdiffusiescheidingsinstallaties; 2. gascentrifuges; 3. aërodynamische scheidingsinstallaties; 4. scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisselaars; 5. scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars; 6. isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp-"lasers" (Avlis); 7. isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire "lasers" (MLIS); 8. plasmascheidingsinstallaties, 9. elektromagnetische scheidingsinstallaties; b. speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of vervaardigde uitrusting en  onderdelen, zoals: 1.  balgafsluiters met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm, vervaardigd van of beschermd met  materiaal dat bestand is tegen UF6 (b. v. aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of een legering  die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat), met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm; 2. a. compressoren (verdringer, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een  aanzuigcapaciteit van 1 m3/min. of meer UF6 en een werkdruk van maximaal 666,7 kPa, vervaardigd van  of beschermd met materiaal dat bestand is tegen UF6 (b. v. aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel  of een legering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat); b. asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in 0B001.b.2.a, ontworpen op een  inleksnelheid van het buffergas van minder dan 1 000 cm3/min.; 3. membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metallisch, polymeer of keramisch materiaal  dat bestand is tegen corrosie door UF6, met een poriegrootte van 10 tot 100 nm, een dikte van 5 mm  of minder en, voor buisvormige membranen, met een diameter van 25 mm of minder; 4. gasdiffusorvaten vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen corrosie door  UF6; 5. warmtewisselaars vervaardigd van aluminium, koper, nikkel of legeringen die meer dan 60  gewichtspercenten nikkel bevatten of combinaties van deze metalen, in de vorm van beklede buizen,  ontworpen voor gebruik bij drukken lager dan de atmosferische druk, met een leksnelheid die een  drukstijging van minder dan 10 Pa/uur veroorzaakt bij een drukverschil van 100 kPa; c. uitrusting en onderdelen, speciaal ontworpen voor gebruik in gascentrifuges, zoals: 1. gascentrifuges; 2. complete rotoren bestaande uit een of meer rotorbuiscilinders; 3. rotorbuiscilinders met een dikte van 12 mm of minder, een diameter tussen 75 en 400 mm en  vervaardigd van een van de volgende materialen met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding: a. "maraging" staal met een maximale treksterkte van 2 050 MPa of, b. aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 460 MPa of, c. "stapel- en continuvezelmateriaal" met een "specifieke modulus" van meer dan 3,18×106 m en een  "specifieke treksterkte" van meer dan 76,2×103 m; 4. magnetische lagers bestaande uit een ringvormige magneet in een huis vervaardigd van materiaal  dat bestand is tegen UF6 (b. v. aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of een legering die 60  gewichtspercenten of meer nikkel bevat), die een dempend medium bevat en waarvan de magneet is  gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet die aan het bovendeksel is bevestigd; 5. speciaal ontworpen lagers bestaande uit een taats/lagerkom-samenstel, gemonteerd op een demper; 6. ringen of balgen met een wanddikte van 3 mm of minder en een diameter tussen 75 mm en 400 mm,  speciaal ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te verstevigen of om een aantal  rotorbuizen samen te voegen, vervaardigd van een materiaal met een hoge  sterkte/dichtheidsverhouding zoals beschreven in de volgende noot; 7. keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd  te worden en vervaardigd van materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding zoals beschreven  in de volgende noot; 8. onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om op de  uiteinden van een rotorbuis te passen en vervaardigd van een van de volgende materialen met een  hoge sterkte/dichtheidsverhouding: a. "maraging" staal met een maximale treksterkte van 2 050 MPa of, b. aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 460 MPa of, c. "stapel- en continuvezelmateriaal" met een "specifieke modulus" van meer dan 3,18×106 m en een  "specifieke treksterkte " van meer dan 76,2×103 m; 9. turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met inwendige, machinaal vervaardigde of  geëxtrudeerde langwerpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal vervaardigde boorgaten; 10. ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hysteresis-motoren  (magnetische-weerstandsmotoren) voor synchrone werking in vacuuem, met een frequentiebereik van 600  Hz tot 2 000 Hz en een vermogensbereik van 50 VA tot 1 000 VA; 11. frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal ontworpen of vervaardigd voor de  voeding van motorstators van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen onderdelen hiervoor, die  aan alle hieronderstaande specificaties voldoen: a. een meerfasige elektrische spanning van 600 Hz tot 2 000 Hz, b. frequentieafwijkingen van minder dan 0,1 %, c. een harmonische vervorming van minder dan 2 %, d. een rendement hoger dan 80 %; 12. centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de rotorbuis van een gascentrifuge te  bevatten, bestaande uit een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met nauwkeurig afgewerkte  uiteinden en vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen UF6; 13. inlaatstukken bestaande uit buizen met een binnendiameter tot 12 mm voor de extractie van  UF6-gas uit de rotorbuis van een gascentrifuge volgens het principe van een Pitot-buis, vervaardigd  van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen UF6; d. speciaal voor aërodynamische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en  onderdelen zoals: 1. scheidingsstraalpijpen bestaande uit spleetvormige, gebogen kanalen met een kromtestraal van  minder dan 1 mm met in de straalpijp een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën deelt; 2. tangentiële instroombuizen (cilindrisch of conisch) (vortexbuizen), vervaardigd van of beschermd  met materiaal dat bestand is tegen UF6, met een diameter tussen 0,5 cm en 4 cm en een  lengte/diameterverhouding gelijk aan of kleiner dan 20 : 1 en met een of meer tangentiële inlaten; 3. compressoren (verdringer-, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit  van 2 m3/min., vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen UF6 (b. v.  aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of een legering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel  bevat) en asafdichtingen daarvoor; 4. behuizingen van aërodynamische scheidingselementen, vervaardigd van of beschermd met materiaal  dat bestand is tegen UF6, speciaal ontworpen om vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te  bevatten; 5. warmtewisselaars vervaardigd van aluminium, koper, nikkel of een nikkellegering die meer dan 60  gewichtspercenten nikkel bevat, of combinaties van deze metalen als beklede buizen, en speciaal  ontworpen voor een werkdruk van 600 kPa of minder; 6. balgafsluiters vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen UF6, met een  diameter van 40 tot 1 500 mm; 7. processystemen om UF6 van het dragergas (waterstof of helium) te scheiden tot een gehalte van 1  ppm UF6 of minder, met inbegrip van: a. cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van -120 °C  of lager; b. cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van -120 °C of lager; c. scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding van UF6 van het dragergas; d. koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van -20 °C of lager; e. speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van chemische uitwisselaars ontworpen of  vervaardigde uitrusting en onderdelen zoals: 1. centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per  trap van 30 sec. of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (b. v. vervaardigd van of  bekleed met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren, of bekleed met glas); 2. pulskolomcontactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap  van 30 sec. of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (b. v. vervaardigd van of bekleed  met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren, of bekleed met glas); 3. elektrochemische reductiecellen, ontworpen om uraan in valentie te veranderen; 4. voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen, ontworpen om U+4 uit de organische  stroom te verwijderen en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact komen, vervaardigd  van of beschermd met geschikte materialen (b. v. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren,  polyfenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd grafiet); 5. systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal, ontworpen om een zeer zuivere  uraanchlorideoplossing te produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplossing brengen,  voor vloeistofextractie en/of voor ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen voor  de reductie van U+6 of U+4 tot U+3; 6. oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3 te oxideren tot U+4; f. speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van ionenwisselaars ontworpen of vervaardigde  uitrusting en onderdelen, zoals: 1. ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of poreuze harsen met een macroscopische  vernetting, waarin de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in een oppervlaktelaag op  een inactieve poreuze ondersteunende structuur en andere composiete structuren met een geschikte  vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen  geconcentreerd zoutzuur en zijn ontworpen op een uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 sec.  en die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 100 °C tot 200 °C; 2. ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter dan 1 000 mm, vervaardigd van of  beschermd met materiaal dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (b. v. titaan of kunststoffen  op basis van fluorkoolwaterstof), die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 100 °C  tot 200 °C en werkdrukken boven 0,7 MPa; 3. ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische oxidatie- of reductiesystemen) voor het  regenereren van de chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwisselverrijkingscascades  worden gebruikt; g. speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met atomaire-damp-"lasers" ontworpen of vervaardigde  uitrusting en onderdelen, zoals: 1. krachtige elektronenkanonnen met een totaal vermogen van meer dan 50 kW en  scanning-elektronenkanonnen met een afgegeven vermogen van meer dan 2,5 kW/cm, die worden gebruikt  in een systeem om uraan te verdampen; 2. trogvormige smeltkroezen en koelapparatuur vervaardigd van of beschermd met materiaal dat  bestand is tegen de warmte en corrosie van gesmolten uraan of uraanlegeringen (b. v. tantaal, met  yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan), NB: Zie ook 2A225, 3. opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan vervaardigd van of bekleed met materialen die  bestand zijn tegen de hitte en de corrosie van uraandamp zoals bij voorbeeld met yttriumoxide  bedekt grafiet of tantaal; 4. behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of rechthoekige vaten) die zijn ontworpen om de  uraandampbron, het elektronenkanon en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te  bevatten; 5. lasers of lasersystemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het  frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn; h. speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met moleculaire "lasers" ontworpen of vervaardigde  uitrusting en onderdelen, zoals: 1. supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van mengsels van UF6 en transportgas tot 150 K  of minder en vervaardigd van materiaal dat bestand is tegen UF6; 2. produktopvangsystemen voor uraanfluoride (UF5), bestaande uit collectoren van het filter-,  impact- of cycloontype of combinaties daarvan en vervaardigd van materiaal dat bestand is tegen  UF5/UF6 (b.v. aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of legeringen die 60 gewichtspercenten nikkel  bevatten en volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren die bestand zijn tegen UF6); 3. uitrusting om UF5 te fluoreren tot UF6; 4. compressoren vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen UF6 (b. v.  aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of legeringen die 60 gewichtspercenten of meer nikkel  bevatten) en asafdichtingen daarvoor; 5. processystemen voor het scheiden van UF6 van het transportgas (b. v. stikstof of argon) met  inbegrip van: a. cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van -120 °C  of lager; b. cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van -120 °C of lager; c. koelvallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van -20 °C of lager; 6. lasers of lasersystemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het  frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn; i. speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen,  zoals: 1. opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat  bestand is tegen de hitte en de corrosie van uraandamp, zoals bij voorbeeld met yttriumoxide bedekt  grafiet of tantaal; 2. RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz en met een gemiddeld vermogen van meer  dan 40 kW; 3. microgolfbronnen en antennes voor het produceren of versnellen van ionen, met een  uitgangsfrequentie hoger dan 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 kW; 4. systemen voor het genereren van een uraanplasma; 5. systemen voor het hanteren van vloeibaar uraanmetaal, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd  van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (b. v. tantaal, met  yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels  daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen; NB: Zie ook 2A225. 6. behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch), ontworpen om de uraan-plasmabron, de  radiofrequente spoel en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten en vervaardigd  van een geschikt niet-magnetisch materiaal (b. v. roestvrij staal), k. speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en  onderdelen, zoals: 1. enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een dampbron, ionisator en bundelversneller,  vervaardigd van geschikte materialen (b. v. grafiet, roestvrij staal of koper) en geschikt om een  totale ionenbundelstroom te leveren van 50 mA of meer; 2. ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels met verrijkt of verarmd uraan, bestaande  uit twee of meer spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte (niet-magnetische ???)  materialen (b. v. grafiet of roestvrij staal); 3. vacuuembehuizingen voor elektromagnetische uraanscheiders, vervaardigd van niet-magnetische  materialen (b. v. grafiet of roestvrij staal) en ontworpen op een werkdruk van 0,1 Pa of lager; 4. magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan 2 m; 5. hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onderstaande eigenschappen hebben: a. geschikt voor continubedrijf; b. uitgangsspanning 20 000 V of meer; c. uitgangsstroom 1 A of meer; d. spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van acht uur; 6. voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom), die alle onderstaande eigenschappen  hebben: a. geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van 500 A of meer en een spanning van 100 V  of meer; b. stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van acht uur. 0B002 Speciaal voor isotoopscheidingsinstallaties als bedoeld in 0B001, ontworpen of vervaardigde  hulpsystemen, uitrusting en onderdelen, zoals hieronder vermeld, vervaardigd van of beschermd met  materiaal dat tegen UF6 bestand is: a. voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren van UF6 naar het verrijkingsproces; b. desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6 uit het verrijkingsproces te  verwijderen voor verder transport na verhitting; c. opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6 in containers op te slaan, d. liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6 uit het verrijkingsproces te  verwijderen door UF6 samen te persen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm; e. speciaal ontworpen stelsels van pijpen en "headers" om het UF6 te hanteren binnen de  gasdiffusie-, centrifuge- of aërodynamische cascades vervaardigd van of beschermd met materiaal dat  bestand is tegen UF6; f. 1. speciaal ontworpen vacuuemspruitstukken en "headers" met een afzuigcapaciteit van 5 m3/min. of  meer, of 2. vacuuempompen speciaal ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat; g. UF6-massaspectrometers/ionenbronnen, speciaal ontworpen of vervaardigd om "on line" monsters te  kunnen nemen van de UF6-voedingsstroom, van verarmde en van verrijkte UF6-gasstromen en die alle  onderstaande eigenschappen hebben: 1. oplossend vermogen 1 a. m. e. voor massa's groter dan 320 a. m. e.; 2. ionenbronnen vervaardigd van of bekleed met nichroom of monel of vervaardigd van vernikkelde  onderdelen; 3. ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting, en 4. collectorsysteem geschikt voor isotoopanalyse. 0B003 Fabrieken voor de produktie van uraanhexafluoride (UF6) en speciaal daarvoor ontworpen of  vervaardigde uitrusting en onderdelen, zoals: a. installaties voor de produktie van UF6; b. uitrusting en onderdelen, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor de produktie van  UF6: 1. fluoreer- en hydrofluoreer-schroef- en wervelbedreactoren en vlamtorens; 2. destillatieapparatuur voor zuivering van UF6. 0B004 Fabrieken voor de produktie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen en speciaal  hiervoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, zoals: a. Installaties voor de produktie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen zoals: 1. zwavelwaterstof-water-wisselinstallaties; 2. ammoniak-waterstof-wisselinstallaties; 3. waterstofdestillatie-installaties; b. uitrusting en onderdelen, zoals hieronder vermeld, ontworpen voor: 1. zwavelwaterstof-water-wisselproces: a. schotel-wisseltorens; b. zwavelwaterstofgas-compressoren; 2. ammoniak-waterstof-wisselproces: a. hogedruk-ammoniak-waterstof-wisseltorens; b. contactors met hoge efficiëntie per trap; c. onderdompelbare getrapte recirculatiepompen; d. ammoniak-kraakinstallaties ontworpen voor een druk hoger dan 2 Mpa; 3. waterstofdestillatieproces:a. cryogene waterstofdestillatietorens en koudekamers ontworpen voor een bedrijfstemperatuur lager  dan 35 K (-238 °C); b. "turbo expanders" of turbo expansie/compressiesets ontworpen voor een bedrijfstemperatuur lager  dan 35 K (-238 °C); 4. concentratieproces voor zwaar water tot een percentage dat bruikbaar is in kernreactoren (99,75  gewichtspercenten deuteriumoxide): a. waterdestillatietorens die speciaal ontworpen pakkingen bevatten; b. ammoniakdestillatietorens die speciaal ontworpen pakkingen bevatten; c. katalytische branders voor de omzetting van volledig verrijkt deuterium in zwaar water; d. infraroodabsorptieanalyseapparatuur die "on-line" waterstof-deuteriumverhoudingen kan meten  waarbij de deuteriumconcentratie 90 gewichtspercenten of meer is. 0B005 Fabrieken speciaal ontworpen voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor  "kernreactoren" en speciaal ontworpen uitrusting daarvoor. Noot: Een fabriek voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor "kernreactoren" omvat  uitrusting die: a. in de regel in rechtstreeks contact komt met de produktiestroom van nucleair materiaal of deze  rechtstreeks verwerkt of reguleert; b. zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal in de splijtstofstaaf, c. de goede staat van de bekleding of van de afdichting van de splijtstofstaaf controleert, en d. de eindbehandeling van de vaste splijtstof controleert. 0B006 Fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen en speciaal daarvoor ontworpen  of vervaardigde uitrusting en onderdelen, met inbegrip van: a. hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofelementen, d. w. z. op afstand bediende uitrusting  voor het snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstofpakketten, -bundels of -staven voor  "kernreactoren"; b. oplostanks, d. w. z. kritisch veilige tanks (b. v. ring- of plaattanks met een kleine diameter),  speciaal ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van bestraalde splijtstof van "kernreactoren",  die bestand zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op afstand gevuld en onderhouden  kunnen worden; c. tegenstroom-vloeistofextractors en ionenwisselapparatuur speciaal ontworpen of vervaardigd voor  gebruik in een fabriek voor het opwerken van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan",  "speciale splijtstoffen" en "andere splijtstoffen"; d. instrumenten voor de regeling van processen, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bewaken  of het regelen van de opwerking van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan", "speciale  splijtstoffen" en "andere splijtstoffen"; e. voorraad- en opslagvaten speciaal ontworpen om kritisch veilig te zijn en bestand tegen de  corrosieve werking van salpeterzuur; Noot: Kritisch veilige tanks kunnen de volgende kenmerken bezitten: 1. wanden of inwendige structuren met een boorequivalent van ten minste 2 %, of 2. een maximale diameter van 175 mm voor cilindrische vaten, of 3. een maximale breedte van 75 mm voor rechthoekige of ringvormige vaten. f. complete systemen speciaal ontworpen of vervaardigd voor de omzetting van plutoniumnitraat in  plutoniumoxide; g. complete systemen speciaal ontworpen of vervaardigd voor de produktie van plutoniummetaal. Noot: Een fabriek voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor "kernreactoren" omvat  uitrusting en bestanddelen, die in de regel rechtstreeks in aanraking komen met de bestraalde  splijtstof, met de voornaamste processtromen van nucleair materiaal en splijtingsprodukten en deze  rechtstreeks regelen. 0B007 Uitrusting, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen of vervaardigd voor de scheiding van  lithiumisotopen: a. gestapelde vloeistof-vloeistofwisselkolommen speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen; b. amalgaampompen; c. amalgaam-elektrolysecellen; d. verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxydeoplossingen. 0B008 Uitrusting voor "kernreactoren"; a. simulatoren, speciaal ontworpen voor "kernreactoren"; b. ultrasone of wervelstroomtestapparatuur, speciaal ontworpen voor "kernreactoren". 0B009 Fabrieken voor de omzetting van uraan en speciaal hiervoor ontworpen of hiervoor vervaardigde  uitrusting, zoals: a. systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3; b. systemen voor de omzetting van UO3 in UF6; c. systemen voor de omzetting van UO3 in UO2; d. systemen voor de omzetting van UO2 in UF4; e. systemen voor de omzetting van UF4 in UF6; f. systemen voor de omzetting van UF4 in uraan; g. systemen voor de omzetting van UF6 in UO2; h. systemen voor de omzetting van UF6 in UF4. 0C MATERIALEN 0C001 "Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm van metaal, legering, chemische  verbinding of concentraat en elk materiaal dat het voorgaande bevat, met uitzondering van: a. 4 g of minder "natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" indien in een afgesloten gedeelte van een  meetelement in instrumenten; b. "verarmd uraan" als dat speciaal is vervaardigd voor de volgende civiele en niet-nucleaire  toepassingen: 1. afschermingsmateriaal; 2. verpakkingsmateriaal; 3. ballast; 4. contragewichten. 0C002 "Speciale splijtstoffen" en "andere splijtstoffen" met uitzondering van 4 "effectieve g" of  minder indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten. 0C003 Materialen voor nucleaire warmtebronnen, zoals: a. plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte aan plutonium-238 van meer dan 50 %  met uitzondering van 3 g of minder indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in  instrumenten; b. "door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm met uitzondering van leveranties die 1 g  neptunium-237 bevatten of minder. 0C004 Deuterium, zwaar water, gedeutereerde paraffines en andere deuteriumverbindingen, en mengsels  en oplossingen die deuterium bevatten, waarin de isotoopverhouding van deuterium tot waterstof  groter is dan 1:5 000. 0C005 Grafiet, geschikt voor toepassing in kernreactoren, d. w. z. met een zuiverheidsgraad beter  dan vijf delen per miljoen (ppm) "boorequivalent" en met een dichtheid groter dan 1,5 g/cm3. 0C006 Nikkelpoeder en poreus nikkelmetaal, zoals: a. poeder met een nikkelgehalte van 99,9 gewichtspercenten of meer en een gemiddelde korrelgrootte  kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens de ASTM B-30-standaard (American Society for Testing and  Materials) en met een zeer uniforme deeltjesgrootte; b. poreus nikkelmetaal gemaakt van materiaal bedoeld onder a, met uitzondering van enkelvoudige  platen van poreus nikkel, met een oppervlakte van niet meer dan 930 cm2, bestemd voor gebruik in  batterijen voor civiele toepassingen. 0C201 Speciaal vervaardigde verbindingen of poeders, andere dan nikkel, die bestand zijn tegen  corrosie door UF6 (b. v. aluminiumoxide en volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren), ter  fabricage van membranen voor gasdiffusie, met een zuiverheidsgraad van 99,9 gewichtspercenten of  meer, met een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens de ASTM  B-330-standaard (American Society foor Testing and Materials) en met een zeer uniforme  deeltjesgrootte. OD PROGRAMMATUUR 0D001 Programmatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", "produktie" of het  "gebruik" van goederen bedoeld in deze categorie. 0E TECHNOLOGIE 0E001 "Technologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor de "ontwikkeling", "produktie"  of het "gebruik" van goederen bedoeld in deze categorie. CATEGORIE 1 MATERIALEN, CHEMICALIËN, "MICRO-ORGANISMEN", "TOXINES" 1A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 1A001 Onderdelen vervaardigd van gefluoreerde verbindingen, zoals: a. afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele brandstoftanks ("fuel bladders"),  welke voor meer dan 50 % bestaan uit enig materiaal als bedoeld in 1C009.b of c, speciaal ontworpen  voor gebruik in de ruimte of in vliegtuigen; b. piëzo-elektrische polymeren en copolymeren gemaakt van vinylideenfluoride: 1. in plaat- of folievorm, en 2. met een dikte van meer dan 200 micrometer; c) afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele brandstoftanks ("fuel bladders") of membranen  bestaande uit fluorelastomeren welke ten minste één vinylether-monomeer bevatten, speciaal  ontworpen voor gebruik in de ruimte, in raketten of in vliegtuigen. In 1A001.c worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande  luchtvaartuigen verstaan. 1A002 "Composieten" of laminaten, zoals: NB: Zie ook 1A202, 9A010 en 9A110. a. met een organische "matrix" en gemaakt van materialen als bedoeld in 1C010.c, d of e, of b. met een metaal-"matrix" of koolstof-"matrix" en gemaakt van: 1. koolstof-"stapel- en continuvezelmateriaal" met: a. een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m, en b. een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m, of 2. materialen als bedoeld in 1C010.c. Noot: 1A002 is niet van toepassing op composieten of laminaten gemaakt van met epoxyhars  geïmpregneerd koolstof-"stapel of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van vliegtuigcasco's of  laminaten, met een maximale grootte van 1 m2. 1A003 Produkten vervaardigd van niet-gefluoreerde polymere stoffen als bedoeld in 1C008.a, in de  vorm van film, vellen, band of lint: a. met een dikte groter dan 0,254 mm, of b. bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of magnetische substanties. 1A102 Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-materialen bestemd voor  systemen als bedoeld in 9A004 of 9A104. 1A202 "Composieten" in buisvorm met een binnendiameter van 75-400 mm vervaardigd van "stapel- en  continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a of b of 1C210. NB: Zie ook 9A110. 1A225 Geplatineerde katalysatoren speciaal ontworpen of geprepareerd voor het bevorderen van de  waterstofisotoop-uitwisseling tussen waterstof en water voor het terugwinnen van tritium uit zwaar  water of voor de produktie van zwaar water. 1A226 Specifieke pakkingen voor gebruik bij de scheiding van zwaar water van gewoon water,  vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons of koper (beide chemisch behandeld ter verbetering van de  bevochtigingsgraad) en ontworpen voor gebruik in vacuuem-distillatietorens. 1A227 Stralingafschermende ramen (van loodglas of ander materiaal) groter dan 0,3 m gemeten lange  één zijde en met een dichtheid groter dan 3 g/cm3 en met een dikte van 100 mm of meer, en speciaal  ontworpen kozijnen daarvoor. 1B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 1B001 Apparatuur voor de vervaardiging van vezels, geïmpregneerde vezels ("prepregs"), beklede  vezels ("preforms") of "composieten" zoals bedoeld in 1A002 of 1C010, zoals hieronder vermeld, en  speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor: NB: Zie ook 1B101 en 1B201. a. draadwindmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van  vezelmateriaal in drie of meer richtingen zijn gecooerdineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen  voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezels"; b. band- of lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden,  linten of vellen in twee of meer richtingen zijn gecooerdineerd en geprogrammeerd, speciaal  ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en raketten. In 1B001.b worden  onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan; c. weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en dimensies kunnen werken met inbegrip  van aanpassings- of wijzigingsuitrustingen, voor het weven, dooreenvlechten of omvlechten van  vezelmateriaal ter vervaardiging van "composieten", met uitzondering van textielmachines, die niet  voor bovengenoemde eindtoepassingen zijn aangepast; d. apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van versterkingsvezels, zoals: 1. apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen  of polycarbosilaan) in koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met inbegrip van  speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting; 2. apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde  continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide; 3. apparatuur voor het natspinnen van vuurvaste keramische materialen (b.v. aluminiumoxide); 4. apparatuur voor het omzetten van aluminium dat voorlopervezelmaterialen bevat, in  aluminiumoxidevezels door middel van warmtebehandeling; e. apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode vervaardigen van de "prepregs" bedoeld  in 1C010.e; f. inspectieapparatuur welke gebruik maakt van niet destructieve technieken (NDT), geschikt voor  het driedimensionaal opsporen van gebreken, welke gebruik maakt van ultrasone of roentgentomografie  en speciaal is ontworpen voor "composieten". 1B002 Systemen en onderdelen daarvoor, die speciaal zijn ontworpen voor het vervaardigen van de  metaallegeringen, poedermetaallegeringen of gelegeerde materialen bedoeld in 1C002.a.2, 1C002.b of  1C002.c. 1B003 Gereedschap, matrijzen, stempels of klemmen voor het "superplastisch vormen" of  "diffusielassen" van titaan of aluminium of legeringen daarvan, speciaal ontworpen voor het  vervaardigen van: a. constructies voor vliegtuigen of ruimtevaartuigen, b. motoren voor vliegtuigen of ruimtevaartuigen, of c. speciaal ontworpen onderdelen voor bedoelde constructies en motoren. 1B101 Apparatuur, met uitzondering van de onder 1B001 bedoelde apparatuur voor de vervaardiging van  composieten, zoals hieronder vermeld, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor: NB: zie ook 1B201. Noot: De hier bedoelde onderdelen en toebehoren omvatten onder meer matrijzen, doornen, stempels,  klemmen en gereedschappen voor het persen van voorvormstrukken, of het harden, gieten, sinteren of  binden van composieten, laminaten en produkten daarvan. a. draadwindmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van  vezelmateriaal in drie of meer richtingen kunnen worden gecooerdineerd en geprogrammeerd, speciaal  ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit stapel- of continuvezels,  alsmede de besturingseenheden voor het cooerdineren en het programmeren daarvan; b. bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden en vellen  in twee of meer richtingen kunnen worden gecooerdineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor  de vervaardiging van "composieten" voor casco's en andere delen van vliegtuigen en "raketten"; c. apparatuur, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van  stapel- of continuvezels; 1. apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals van polyacrylonitryl, rayon, of  polycarbosilaan) met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens  verhitting; 2. apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verhitte  continuvezelsubstraten, en 3. apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (b. v. aluminiumoxide),  en d. apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor speciale oppervlaktebehandeling van vezels, of  apparatuur voor het vervaardigen van de "prepregs" en "preforms" als bedoeld in 9A110. Noot: De hier bedoelde apparatuur omvat onder meer rollen, strektoestellen, apparatuur voor het  aanbrengen van deklagen, snijapparatuur en stansvormen. 1B115 Apparatuur voor het vervaardigen, hanteren en keuren van goederen als bedoeld in 1C115 of in  de lijst van militaire goederen en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. Noot: 1. De enige mengers die hieronder vallen zijn mengers welke geschikt zijn voor het mengen onder  vacuuem bij een druk van nul tot 13,326 kPa en met de mogelijkheid om de temperatuur van de  mengkamer te regelen: a. niet-continue mengers met een totale inhoud van 110 l of meer en ten minste één excentrisch  geplaatste meng- of kneedas; b. continue mengers met twee of meer meng- of kneedassen en de mogelijkheid om de mengkamer te  openen. 2. Zie de lijst militaire goederen voor apparatuur speciaal ontworpen voor de produktie van  militaire goederen. 1B116 Speciaal ontworpen spuitmonden voor het vervaardigen van pyrolytisch gevormde materialen op  een as, mal of ander substraat van gassen die ontleden bij temperaturen van 1573 K (1300 °C) tot  3173 K (2900 °C) en drukken van 130 Pa tot 20 kPa. 1B201 Draadwindmachines, uitgezonderd machines als bedoeld in 1B001 of 1B101, waarvan de bewegingen  voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in twee of meer richtingen zijn  gecooerdineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of  laminaten uit "stapel- of continuvezels" en geschikt voor het winden van cilindrische rotoren met  een diameter van 75 mm tot 400 mm en een lengte van 600 mm of meer en besturingseenheden voor het  cooerdineren en programmeren daarvan en zeer nauwkeurige spillen daarvoor. 1B225 Elektrolytische cellen voor de produktie van fluor met een produktiecapaciteit groter dan 250  g fluor per uur. 1B226 Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitgerust met enkelvoudige of  meervoudige ionenbronnen die een totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren. Noot: 1B226 omvat tevens scheiders: a. geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen; b. waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij  deze zich buiten het veld bevinden. 1B227 Convertors voor ammoniaksynthese of ammoniaksynthese-eenheden waarin het synthesegas  (stikstof en waterstof) wordt onttrokken uit een hoge-drukkolom voor de uitwisseling van ammoniak  en waterstof en de gevormde ammoniak naar deze kolom wordt teruggevoerd. 1B228 Kolommen voor de cryogene distillatie van waterstof met alle volgende kenmerken: a. ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K (-238 °C) of lager; b. ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa (5-50 atm.); c. vervaardigd van fijnkorrelige roestvrij-staalsoorten van de 300-serie met een laag zwavelgehalte  of van gelijkwaardige cryogene materialen die H2 verdragen, en d. met een binnendiameter van 1 m of meer en een nuttige lengte van 5 m of meer. 1B229 Schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling, vervaardigd van gezuiverd  koolstofstaal met een diameter van 1,8 m of groter voor werking bij een nominale druk van 2 MPa of  meer. Noten: 1. Voor kolommen die speciaal zijn ontworpen of geprepareerd voor de produktie van zwaar water zie  0B004. 2. 1B229 omvat tevens de interne contactorganen van de kolommen welke bestaan uit gesegmenteerde  schotels met een effectieve gezamenlijke diameter van 1,8 m of meer, bij voorbeeld zeefschotels,  klepschotels, borrelklokjesschotels en turboroosterschotels, ontworpen voor het in tegenstroom met  elkaar in contact brengen en vervaardigd van materialen die bestand zijn tegen corrosie door  mengsels van zwavelwaterstof en water, bij voorbeeld 304L of 316 roestvrij staal. 3. Onder gezuiverd koolstofstaal worden onder meer staalsoorten verstaan als gespecificeerd in ASTM  A-516. 1B230 Pompen voor de circulatie van verdunde of geconcentreerde oplossingen van de katalysator  kaliumamide in vloeibare ammoniak (KNH2/NH3), met alle volgende kenmerken: a. luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten); b. voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of meer): met een werkdruk van 1,5-60 MPa  (15-600 atm.); voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan 1 %): met een werkdruk van  20-60 MPa (200-600 atm.), en c. met een capaciteit van meer dan 8,5 m3/uur. 1B231 Installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of  behandelen van tritium en apparatuur, zoals: a. waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (-250 °C) of lager, met een  warmteafvoercapaciteit groter dan 150 W; b. opslag- en zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruik maken van metaalhydriden als  opslag- of zuiveringsmedium. 1C MATERIALEN 1C001 Materialen speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van  elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren, zoals: NB: Zie ook 1C101. a. materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 2 × 108 Hz doch lager dan 3 × 1012 Hz,  met uitzondering van onderstaande materialen: Noot: 1C001.a levert geen uitzondering op voor magnetische materialen in verf voor het verkrijgen  van absorptie. 1. absorberende materialen van het haartype, ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke of  synthetische vezels, welke niet-magnetische stoffen bevatten voor de absorptie; 2. absorberende materialen waarin geen magnetisch verlies optreedt en waarvan het invallend  oppervlak niet vlak is, zoals pyramiden, kegels, wiggen en gedraaide oppervlakken; 3. vlakke absorberende materialen: a. gemaakt van: 1. kunststof schuimmaterialen (al dan niet buigzaam) welke koolstof bevatten, of organische  materialen, met inbegrip van binders, met meer dan 5 % echo vergeleken met metaal over een  bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet  bestand tegen temperaturen hoger dan 450 K (177 °C) of 2. keramische materialen met meer dan 20 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter  dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen  temperaturen hoger dan 800 K (527 °C); Technische noot: Monsters voor het testen van de absorptie ten behoeve van 1C001.a.3.a dienen een vierkant te zijn  van ten minste vijf golflengten (van de middenfrequentie) aan één zijde en geplaatst in het verre  veld van het stralingselement. b. met een treksterkte minder dan 7 × 106 N/m2, en c. met een druksterkte minder dan 14 × 106/m2; 4. vlakke absorberende materialen gemaakt van gesinterd ferriet, met: a. een relatieve dichtheid groter dan 4,4, en b. een maximale werktemperatuur van 548 K (278 °C); b. materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 1,5 × 1014 Hz doch lager dan 3,7 × 1014  Hz welke geen zichtbaar licht doorlaten; c. intrinsiek geleidende polymere materialen met een specifieke elektrische volumegeleidbaarheid  groter dan 10 000 S/m (Siemens per meter) of een specifieke oppervlakteweerstand kleiner dan 100  ohm/vierkant, op basis van een of meer van de volgende polymeren: 1. polyaniline; 2. polypyrrool; 3. polythiofeen; 4. polyfenyleen-vinyleen; 5. polythienyleen-vinyleen. Technische noot: De specifieke elektrische volumegeleidbaarheid en de oppervlakteweerstand dienen te worden bepaald  met behulp van ASTM D-257 of gelijkwaardige nationale equivalenten. 1C002 Metaallegeringen, poedermetaallegeringen of gelegeerde materialen, zoals: NB: Zie ook 1C202. Noot: In 1C002 worden niet bedoeld: metaallegeringen, poeder-metaallegeringen of gelegeerde  materialen, voor het bekleden van substraten. a. metaallegeringen, zoals: 1. legeringen op nikkel- of titaanbasis in de vorm van aluminiden, zoals hieronder vermeld, in ruwe  vorm of als halffabrikaat: a. nikkelaluminiden met 10 of meer gewichtpercenten aluminium; b. titaanaluminiden met 12 of meer gewichtpercenten aluminium; 2. metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van metaal-legeringspoeder of materiaal bestaande uit  afzonderlijke deeltjes, als bedoeld in 1C002.b: a. nikkellegeringen met: 1. een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, van 10 000 uur of meer bij 923 K (650 °C) en een  spanning van 550 MPa, of 2. een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000 of meer belastingscyclussen  met een maximale spanning van 700 MPa bij 823 K (550 °C); b. niobiumlegeringen met: 1. een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, van 10 000 uur of meer bij 1 073 K (800 °C) en  een spanning van 400 MPa, of 2. een levensduur bij laagfrequente vermoeid-heidsbelasting van 10 000 of meer belastingscyclussen  met een maximale spanning van 700 MPa bij 973 K (700 °C); c. titaanlegeringen met: 1. een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, van 10 000 uur of meer bij 723 K /450 °C) en een  spanning van 200 MPa, of 2. met een levensduur bij laagfrequente vermoeid-heidsbelasting van 10 000 of meer  belastingscyclussen met een maximale spanning van 400 MPa bij 723 K (450 °C); d. aluminiumlegeringen met een treksterkte van: 1. 240 MPa of meer bij 473 K (200 °C), of 2. 415 MPa of meer bij 298 K (25 °C); e. magnesiumlegeringen met een treksterkte van 345 MPa of meer en een corrosiesnelheid lager dan 1  mm/jaar in een 3 %-natriumchlorideoplossing in water gemeten volgens de norm ASTM G-31 of  gelijkwaardige nationale equivalenten; Technische noten: 1. De metaallegeringen bedoeld in 1C002.a zijn die legeringen waarin het genoemde metaal een hoger  gewichtspercentage heeft dan enig ander element. 2. De levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, dient te worden gemeten volgens de norm ASTM  E-139 of gelijkwaardige nationale equivalenten. 3. De levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting dient te worden gemeten volgens de  "Recommended practice for constant-amplitude low-cycle fatigue testing"-norm ASTM E-606 of  gelijkwaardige nationale equivalenten. Het testen dient axiaal te geschieden met een gemiddelde  belastingsverhouding gelijk aan 1 en een krachten-concentratiefactor (K1) gelijk aan 1. De  gemiddelde belastingsverhouding wordt gedefinieerd als de maximale belasting min de minimale  belasting gedeeld door de maximale belasting. b. poedermetaallegeringen of uit deeltjes bestaand materiaal voor materialen als bedoeld in  1C002.a, zoals 1. gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen: Technische noot: X staat voor een of meer legeringselementen. a. nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor onderdelen of elementen voor  turbinemotoren, d. w. z. met minder dan drie niet-metallieke deeltjes (verontreinigingen van het  fabricageproces) groter dan 100 micrometer op 109 legeringsdeeltjes, b. niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti), c. titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al), d. aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe), of e. magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al); en 2. vervaardigd in een beheerst milieu door middel van één van onderstaande procédés: a. "verstuiving in vacuuem", b. "verstuiving in gas", c. "roterend verstuiven", d. "spatten met snelle afkoeling uit de smeltstraal" ("splat quenching"), e. "spinnen uit de smelt" en "vergruizing", f. "smeltextractie" en "vergruizing", of g. "mechanisch legeren"; c. gelegeerde materialen, in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne staven  vervaardigd in een beheerst milieu door middel van "spatten met snelle afkoeling uit de  smeltstraal", "spinnen uit de smelt" of "smeltextractie", die worden gebruikt bij de fabricage van  de poedermetaallegeringen of het uit deeltjes bestaande materiaal bedoeld in 1C002.b. 1C003 Magnetische metalen van alle soorten, ongeacht de vorm, met een of meer van de volgende  kenmerken: a. een relatieve beginpermeabiliteit van 120 000 of meer en een dikte van 0,05 mm of minder; Technische noot: De beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde materiaal dat volledig ontlaten is. b. magnetostrictieve legeringen met: 1. een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10-4, of 2. een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan 0,8, of c. strips van amorfe legeringen met: 1. een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer, kobalt of nikkel, en 2. een magnetische verzadigingsinductie (BS) van 1,6 tesla of meer, en a. een stripdikte van 0,02 mm of minder, of b. een elektrische soortelijke weerstand van 2.10-4 ohm cm of meer. 1C004 Uraan-titaanlegeringen of wolfraamlegeringen met een "matrix" op basis van ijzer, nikkel of  koper, met: a. een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3, b. een elastische rekgrens groter dan 1 250 MPa, c. een breukspanning groter dan 1 270 MPa, en d. een rek groter dan 8 %. 1C005 "Supergeleidende" "composiet"-geleiders in lengtes groter dan 100 m of met een massa groter  dan 100 g, zoals: a. "supergeleidende" "composiet"-geleiders met verscheidene filamenten welke een of meer  niobium-titaanvezels bevatten: 1. ingebed in een "matrix" anders dan een koper-"matrix" of in een op koper gebaseerd  "matrix"-mengsel, of 2. met een doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10-4 mm² (d. w. z. 6 micrometer diameter voor  ronde draad); b. "supergeleidene" "composiet"-geleiders bestaande uit een of meer "supergeleidende" filamenten  anders dan van niobium-titaan: 1. met een "kritische temperatuur" bij afwezigheid van magnetische inductie hoger dan 9,85 K  (-263,31 °C) doch lager dan 24 K (-249,16 °C), 2. met een doorsnedeoppervlakte kleiner dan 0,28 × 10-4 mm², en 3. die in een "supergeleidende" toestand blijven bij een temperatuur van 4,2 K (-268,96 °C) bij  blootstelling aan een magnetisch veld gelijk aan een magnetische inductie van 12 T. 1C006 Vloeistoffen en smeermiddelen, zoals: a. hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende  verbindingen of materialen: 1. oliën van synthetische koolwaterstoffen of oliën van silakoolwaterstoffen met: a. een vlampunt hoger dan 477 K (204 °C), b. een vloeipunt bij 239 K (-34 °C) of lager, c. een viscositeitsindex van 75 of hoger, en d. een thermische stabiliteit bij 616 K (343 °C) of hoger, of Noot: Voor de toepassing van 1C006.a.1 bevatten oliën van silakoolwaterstoffen uitsluitend  silicium, waterstof en koolstof. 2. chloorfluorkoolstoffen met: a. geen vlampunt; b. een autogene ontbrandingstemperatuur hoger dan 977 K (704 °C); c. een vloeipunt bij 219 K (-54 °C) of lager; d. een viscositeitsindex van 80 of hoger, en e. een kookpunt bij 473 K (200 °C) of hoger; Noot: Voor de toepassing van 1C006.a.2 bevatten chloorfluorkoolstoffen uitsluitend koolstof, fluor  en chloor. b. smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende verbindingen of  materialen: 1. fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels daarvan, welke meer dan twee ether-  of thio-ethergroepen bevatten of combinaties daarvan, of 2. gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische viscositeit hebben van minder dan 5 000  mm2/s (5 000 centistokes) gemeten bij 298 K (25 °C); c. dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met een zuiverheid groter dan 99,8 % en met minder  dan 25 deeltjes van 200 micrometer of groter per 100 ml, gemaakt van ten minste 85 % van een of  meer van onderstaande verbindingen of materialen: 1. dibroomtetrafluorethaan,2. polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodificaties), of 3. polybroomtrifluoretheen. Technische noot: Voor de toepassing van 1C006: a. wordt het vlampunt bepaald door gebruik te maken van de "Cleveland Open Cup Methode" volgens  ASTM D-92 of gelijkwaardige nationale equivalenten; b. wordt het vloeipunt bepaald volgens de methode beschreven in ASTM D-97 of gelijkwaardige  nationale equivalenten; c. wordt de viscositeitsindex bepaald volgens de methode beschreven in ASTM D-2270 of  gelijkwaardige nationale equivalenten; d. wordt de thermische stabiliteit bepaald volgens onderstaande testprocedure of gelijkwaardige  nationale equivalenten: 20 ml van de te testen vloeistof wordt gebracht in een roestvrij stalen  kamer (type 317) van 46 ml, die de volgende kogels met een (nominale) diameter van 12,5 mm bevat:  één van M-10 gereedschapsstaal, één van 52100-staal en één van bronstobin (60 % Cu, 39 % Zn, 0,75 %  Sn). De kamer wordt gespoeld met stikstofgas, bij atmosferische druk luchtdicht afgesloten en  verhit tot 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) en gedurende zes uur op deze temperatuur gehouden. Het monster wordt geacht thermisch stabiel te zijn indien bij het beëindigen van bovengenoemde  procedure aan alle volgende voorwaarden wordt voldaan: 1. het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/mm2 van het oppervlak van de kogel, 2. de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals vastgesteld bij 311 K (38 °C) is minder  dan 25 %, en 3. het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40; e. wordt de autogene ontbrandingstemperatuur bepaald volgens de methode beschreven in ASTM E-659 of  nationale equivalenten daarvan. 1C007 Keramische basismaterialen, keramische materialen die geen "composieten" zijn, "composieten"  met een keramische "matrix", en voorlopermaterialen, zoals: NB: Zie ook 1C107, a. basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige boriden van titaan met een totale  hoeveelheid aan metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan 5  000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte minder dan of gelijk aan 5 micrometer, terwijl niet  meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer; b. keramische materialen die geen "composieten" zijn in ruwe vorm of als halffabrikaat, met  uitzondering van slijpmiddelen, samengesteld uit boriden van titaan met een dichtheid van 98 % van  de theoretische dichtheid of hoger; c. keramisch-keramische "composieten" met een glas- of oxide-"matrix" en versterkt met vezels van  een of meer van de volgende systemen: 1. Si-N, 2. Si-C, 3. Si-Al-O-N, of 4. Si-O-N; d. keramisch-keramische "composieten", met of zonder continue metallische fase, die fijn verdeelde  deeltjes of fasen bevatten van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij carbiden  of nitriden van silicium, zirkoon of boor de "matrix" vormen; e. voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde polymere of  organometaalverbindingen) voor het vervaardigen van welke fase of fasen dan ook van de materialen  bedoeld in 1C007.c, zoals: 1. polydiorganosilanen (voor het vervaardigen van siliciumcarbide), 2. polysilazanen (voor het vervaardigen van siliciumnitride), of 3. polycarbosilazanen (voor het vervaardigen van keramische materialen met silicium-, koolstof- en  stikstofcomponenten).1C008 Niet-gefluoreerde polymeren, zoals: a. 1. bismaleimiden; 2. aromatische polyamidimides; 3. aromatische polyimiden; 4. aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 503 K (230 °C) gemeten  volgens de natte methode; Noot: In 1C008.a zijn niet bedoeld onsmeltbare perspoeders of gevormde (eind)produkten. b. thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warmte-vervormingstemperatuur hoger dan  523 K (250 °C), gemeten volgens ASTM D-648, methode A, of gelijkwaardige nationale equivalenten,  bij een belasting van 1,82 N/mm2 en samengesteld uit: 1. één van beide volgende groepen materialen: a. fenyleen, bifenyleen of naftaleen, of b. fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair butyl- of fenylsubstitutie, en 2. één van de volgende zuren: a. tereftaalzuur; b. 6-hydroxy-2-naftoëzuur, of c. 4-hydroxybenzoëzuur; c. polyaryleenetherketonen, zoals 1. polyetheretherketonen (PEEK), 2. polyetherketonketonen (PEKK), 3. polyetherketonen (PEK), 4. polyetherketonenetherketonketonen (PEKEKK); d. polyaryleenketonen; e. polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit befenyleen, trifenyleen of combinaties  daarvan; f. polybifenyleenethersulfonen. 1C009 Onbewerkte fluorverbindingen, zoals: a. copolymeren van vinylideenfluoride met 75 % of meer bèta kristallijnstructuur zonder strekken; b. gefluoreerde polyimiden die 30 % of meer gebonden fluor bevatten; c. gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 % of meer gebonden fluor bevatten. 1C010 "Stapel- en continuvezelmateriaal" dat gebruikt kan worden in "composieten" of laminaten met  een organische "matrix", metallische "matrix" of koolstof-"matrix", zoals: NB: Zie ook 1C210. a. organisch "stapel- en continuvezelmateriaal", met uitzondering van polyetheen, met: 1. een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 10 6 m, en 2. een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m; b. "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met: 1. een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en 2. een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m; Technische noot: De eigenschappen van materialen als bedoeld in 1C010.b dienen te worden bepaald met gebruik van  aanbevolen methoden SRM 12 t/m 17 van Suppliers of Advanced Composite Materials Association (SACMA)  of gelijkwaardige nationale trektests, zoals de Japanse industriestandaard JIS-R-7601, paragraaf  6.6.2, en dienen te zijn gebaseerd op de gemiddelde waarden van een partij. Noot: 1C010.b is niet van toepassing op weefsels gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal"  voor de reparatie van vliegtuigcasco's of laminaten, als de afzonderlijke vellen niet groter zijn  dan 50 cm × 90 cm. c. anorganisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met: 1. een "specifieke modulus" groter dan 2,5 × 106 m, en 2. een smelt-, ontledings- of sublimatiepunt hoger dan 1 922 K (1 649 °C) in een inerte atmosfeer; Noot: in 1C010.c zijn niet bedoeld: 1. discontinue, meerfasige, polykristallijne aluminiumoxide-vezels als stapelvezels of als  onregelmatig gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtspercenten siliciumdioxide bevatten, met een  "specifieke modulus" kleiner dan 10 × 106 m; 2. vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen; 3. boorvezels; 4. discontinue keramische vezels met een smelt-, ontledings- of sublimatiepunt lager dan 2 043 K (1  770 °C) in een inerte atmosfeer. d. "stapel- of continuvezelmateriaal": 1. samengesteld uit een of meer van de volgende materialen: a. polyetherimiden bedoeld in 1C008.a, of b. materialen bedoeld in 1C008.b, c, d, e of f, of 2. bedoeld in 1C010.d.1.a of b en "vermengd" ("commingled") met andere vezels bedoeld in 1C010.a, b  of c; e. met hars of asfaltbitumen geïmpregneerde vezels ("prepregs"), met metaal of koolstof beklede  vezels ("preforms") of koolstofvezel-"preforms", zoals: NB: Zie ook 9A010. 1. gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" bedoeld in 1C010.a, b of c, of 2. gemaakt van organisch "stapel- of continuvezelmateriaal" of "stapel- of continuvezelmateriaal"  van koolstof: a. met een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m, b. met een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m, c. niet bedoeld in 1C010.a of b, en d. wanneer geïmpregneerd met materialen bedoeld in 1C008 of 1C009,b of met fenol- of epoxyharsen  met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 383 K (110 °C). Noot: 1C010.e is niet van toepassing op met epoxyhars geïmpregneerd koolstof-"stapel -of  -vezelmateriaal" ("prepregs") voor de reparatie van vliegtuigcasco's of laminaten als de  afzonderlijke "prepreg"-vellen niet groter zijn dan 50 cm × 90 cm. 1C101 Materialen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het  ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt  voor gebruik in "raketten" en subsystemen daarvan. Noten: 1. 1C101 omvat: a. constructiematerialen en deklagen speciaal ontworpen om de radarreflectie te beperken; b. deklagen, inclusief verven speciaal ontworpen om de reflectie of de uitstraling in het  microgolf-, infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te passen. 2. 1C101 omvat niet deklagen die speciaal bedoeld zijn om de thermische stabiliteit van satellieten  te regelen. 1C107 Grafiet en keramische materialen, zoals a. geherkristalliseerd grafiet met een kleine korrelgrootte en met een volumedichtheid van ten  minste 1,72 g/cm3 gemeten bij 288 K (15 °C), met een deeltjesgrootte van 100 micrometer of minder,  pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor raketstraalpijpen of neuskegels van  terugkeervoertuigen; b. keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6 bij frequenties van 100 Hz tot 10  000 MHz), tevens geschikt voor radarkoepels en "groene" bewerkbare, met siliciumcarbide versterkte  keramiek, geschikt voor neuskegels. 1C115 Stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen, zoals: a. stoffen die stuwkracht leveren: 1. sferisch aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de lijst van militaire goederen, met deeltjes  met een uniforme diameter kleiner dan 500 micrometer en een aluminiumgehalte van 97  gewichtspercenten of meer; 2. metallieke brandstoffen, anders dan bedoeld in de lijst van militaire goederen, met een  deeltjesgrootte kleiner dan 500 micrometer, sferisch, verneveld, sferoïdaal, schilfers of  fijngemalen, welke 97 gewichtspercenten of meer van één van onderstaande stoffen bevatten: a. zirkonium, b. beryllium, c. boor, d. magnesium, e. zink, f. legeringen van de onder a tot e genoemde metalen, of g. mischmetaal; 3. de volgende vloeibare oxidatoren: a. distikstoftrioxide, b. stikstofdioxide/distikstoftetraoxide, c. distikstofpentoxide; b. polymeren: 1. polybutadieen met carboxy-eindgroep (CTPB); 2. polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB), anders dan bedoeld in de lijst van militaire  goederen; 3. polybutadieen-acrylzuur (PBAA); 4. polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN); c. andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen: 1. butaceen; 2. triethyleenglycoldinitraat (TEGDN); 3. 2-nitrodifenylamine. Noot: Zie voor andere hier niet vermelde stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van  stuwstoffen de lijst van militaire goederen. 1C116 Maragingstaal (staalsoorten die gewoonlijk door een hoog nikkelgehalte, een erg laag  koolstofgehalte en het gebruik van vervangende elementen of precipitaten voor het tijdharden worden  gekenmerkt) met een eindtreksterkte (UTS) van 1 500 MPa of meer bij 293 K (20 °C) in de vorm van  plaat of buis met een wand- of plaatdikte van 5 mm of minder. NB: Zie ook 1C216. 1C117 Wolfraam, molybdeen en legeringen daarvan in de vorm van vernevelde of uniforme bolvormige  deeltjes met een diameter van 800 micrometer of minder en met een zuiverheid van 97 % of meer voor  de produktie van raketmotoronderdelen, d. w. z. hitteschilden, straalpijpsubstraten,  straalpijpkelen en regeloppervlakken voor de stuwstraal. 1C202 Legeringen, anders dan bedoeld in 1C002.a.2.c of d, zoals: a. aluminiumlegeringen geschikt voor een treksterkte van 460 MPa of meer bij 293 K (20 °C),  buisvormig of massief (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm; b. titaanlegeringen geschikt voor een treksterkte van 900 MPa of meer bij 293 K (20 °C), buisvormig  of massief (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm. Technische noot: De zinsnede "legeringen geschikt voor" omvat legeringen zowel voor als na warmtebehandeling. 1C210 Stapel- en continuvezelmateriaal, anders dan bedoeld in 1C010.a of b, zoals a. van koolstof of aramide met een "specifieke modulus" van 12,7 × 10 6 m of groter of een  "specifieke treksterkte" van 23,5 × 104 m of meer, of b. van glas met een "specifieke modulus" van 3,18 × 106 m of meer en een "specifieke treksterkte"  van 7,62 × 104 m of meer. 1C216 Maragingstaal, anders dan bedoeld in 1C116, geschikt voor een treksterkte van 2 050 MPa of  meer bij 293 K (20 °C), met uitzondering van maragingstaal in een vorm waarin geen enkele lineaire  maat groter is dan 75 mm. Technische noot: De zinsnede "maragingstaal geschikt voor" omvat maragingstaal zowel voor als na warmtebehandeling. 1C225 Boor en boorverbindingen, boormengsels en gevulde materialen waarin het boor-10-isotoop meer  dan 20 gewichtspercenten van het totale boorgehalte uitmaakt. 1C226 Wolfraam, zoals: onderdelen vervaardigd van wolfraam, wolfraamcarbide of wolfraamlegeringen  (meer dan 90 % wolfraam) met een massa groter dan 20 kg en met holle cilindersymmetrie (daaronder  mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter groter dan 100 mm doch kleiner dan 300 mm,  met uitzondering van onderdelen die speciaal zijn ontworpen voor gebruik als gewicht of als  collimator voor gammastralen. 1C227 Hoogzuiver calcium, dat zowel minder dan 1 000 gewichtsdelen per miljoen aan metallische  verontreiniging anders dan magnesium bevat, als minder dan tien delen per miljoen boor. 1C228 Hoogzuiver magnesium, dat zowel minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metallische  verontreiniging anders dan calcium bevat, als minder dan tien delen per miljoen boor. 1C229 Hoogzuiver (99,99 % of hoger) bismut met een zeer laag zilvergehalte (minder dan tien delen  per miljoen). 1C230 Beryllium, zoals: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten beryllium bevatten,  verbindingen die beryllium bevatten, alsmede fabrikaten daarvan, met uitzondering van: a. vensters voor roentgentoestellen van berylliummetaal; b. vormstukken van berylliumoxide als eindprodukt of halffabrikaat, speciaal ontworpen voor  elektronische onderdelen of als substraat voor elektronische schakelingen. Noot: In deze post wordt mede bedoeld afval en schroot dat beryllium volgens bovenstaande definitie  bevat. 1C231 Hafnium, zoals: metaal, legeringen en verbindingen van hafnium die meer dan 60  gewichtspercenten hafnium bevatten, alsmede fabrikaten daarvan. 1C232 Helium in elke vorm en verrijkt in de helium-3-isotoop, al dan niet gemengd met andere  materialen of verwerkt in apparatuur of elementen, met uitzondering van produkten of elementen die  minder dan 1 g helium-3 bevatten. 1C233 Lithium, zoals: a. metaalhydriden of legeringen die lithium bevatten, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot  een contratie die hoger is dan de in de natuur voorkomende (7,5 % op atomaire basis); b. elk ander materiaal dat lithium verrijkt in de lithium-6-isotoop bevat (met inbegrip van  verbindingen, mengsels of concentraten), met uitzondering van 6Li indien verwerkt in  thermoluminescentie-stralingsmeters. 1C234 Zirkonium, zoals: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten zirkonium bevatten, en  verbindingen waarin de gewichtsverhouding van het hafniumgehalte tot het zirkoniumgehalte kleiner  is dan 1:500, en produkten die geheel daarvan zijn vervaardigd, met uitzondering van zirkonium in  de vorm van folie met een dikte van niet meer dan 0,10 mm. Noot: In deze post wordt mede bedoeld afval en schroot dat zirkonium volgens bovenstaande definitie  bevat. 1C235 Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten, waarin de verhouding van het  aantal tritiumatomen tot het aantal waterstofatomen groter is dan 1:1 000, met uitzondering van  produkten of toestellen die niet meer dan 40 Ci tritium in welke chemische of fysische vorm dan ook  bevatten. 1C236 Alfastralers met een alfahalveringstijd van tien dagen of langer doch korter dan 200 jaar,  met inbegrip van apparatuur, verbindingen en mengsels die dergelijke radionucliden bevatten met een  totale alfa-activiteit van 1 curie per kilogram (37 GBq/kg) of hoger, met uitzondering van  elementen die minder dan 100 millicurie (3,7 GBq) alfa-activiteit per toestel bevatten. 1C237 Radium-226, met uitzondering van radium in medische middelen. 1C238 Chloortrifluoride (ClF3). 1C239 Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de lijst van militaire goederen, of stoffen of  mengsels met een gehalte van meer dan 2 % aan deze springstoffen, met een kristaldichtheid groter  dan 1,8 g/cm3 en een detonatiesnelheid groter dan 8 000 m/s. NB: Zie ook de lijst van militaire goederen. 1C350 Chemische stoffen, geschikt voor het vervaardigen van toxische stoffen, zoals: 1. Thiodiglycol (111-48-8) 2. Fosforoxychloride (10025-87-3) 3. Dimethylmethylfosfonaat (765-79-6) 4. Zie lijst van militaire goederen voor Methylfosfonyldifluoride (676-99-3) 5. Methylfosfonyldichloride (676-97-1) 6. Dimethylfosfiet (868-85-9) 7. Fosfortrichloride (7719-12-2) 8. Trimethylfosfiet (121-45-9) 9. Thionylchloride (7719-09-7) 10. 3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3) 11. 2-Diisopropylaminoethylchloride (96-79-7) 12. 2-Diisopropylaminoethaanthiol (5842-07-9) 13. Chinuclidine-3-ol (1619-34-7) 14. Kaliumfluoride (7789-23-3) 15. 2-Chloorethanol (107-07-3) 16. Dimethylamine (124-40-3) 17. Diethylethylfosfonaat (78-38-6) 18. Diethyl-N, N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07) 19. Diethylfosfiet (762-04-9) 20. Dimethylamine hydrochloride (506-59-2) 21. Dichloorethylfosfine (1498-40-4) 22. Ethylfosfonyldichloride (1066-50-8) 23. Ethylfosfonyldifluoride (753-98-0) 24. Waterstoffluoride (7664-39-3) 25. Methylbenzilaat (76-89-1) 26. Dichloormethylfosfine (676-83-5) 27. 2-Diisopropylaminoethanol (96-80-0) 28. Pinacolylalcohol (464-07-3) 29. zie lijst van militaire goederen voor Ethyl-2-diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (57856-11-8) 30. Triethylfosfiet (122-52-1) 31. Arseentrichloride (7784-34-1) 32. Benzilzuur (76-93-7) 33. Diethylmethylfosfoniet (15715-41-0) 34. Dimethylethylfosfonaat (6163-75-3) 35. Difluorethylfosfine (430-78-4) 36. Difluormethylfosfine (753-59-3) 37. Chinuclidine-3-on (3731-38-2) 38. Fosforpentachloride (10026-13-8) 39. Pinacolon (75-97-8) 40. Kaliumcyanide (151-50-8) 41. Kaliumbifluoride (7789-29-9) 42. Ammoniumbifluoride (1341-49-7) 43. Natriumfluoride (7681-49-4) 44. Natriumbifluoride (1333-83-1) 45. Natriumcyanide (143-33-9) 46. Triethanolamine (102-71-6) 47. Fosforpentasulfide (1314-80-3) 48. Diisopropylamine (108-18-9) 49. 2-Diethylaminoethanol (100-37-8) 50. Natriumsulfide (1313-82-2) 51. Zwavelmonochloride (10025-67-9) 52. Zwaveldichloride (10545-99-0) 53. Triethanolamine hydrochloride (637-39-8) 54. 2-Chloorethyldiisopropyl-ammoniumchloride (4261-68-1) 1C351 Humane pathogenen, zooenosen en "toxinen": a. Virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of  als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is  geïnoculeerd of besmet, zoals 1. Chikungunya virus 2. Congo-Crimean haemorrhagic fever virus 3. Dengue fever virus 4. Eastern equine encephalitis virus 5. Ebola virus 6. Hantaan virus 7. Junin virus 8. Lassa fever virus 9. Lymphocytic choriomeningitis virus 10. Machupo virus 11. Marburg virus 12. Monkey pox virus 13. Rift Valley fever virus 14. Tick-borne encephalitis virus (Russian Spring-Summer encephalitis virus) 15. Variola virus 16. Venezuelan equine encephalitis virus 17. Western equine encephalitis virus 18. White pox 19. Yellow fever virus 20. Japanese encephalitis virus b. Rickettsiën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen  of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is  geïnoculeerd of besmet, zoals: 1. Coxiella burnetii 2. Rickettsia quintana 3. Rickettsia prowasecki 4. Rickettsia rickettsii. c. Bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen  of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is  geïnoculeerd of besmet, zoals: 1. Bacillus anthracis 2. Brucella abortus 3. Brucella melitensis 4. Brucella suis 5. Chlamydia psittaci 6. Chlostridium botulinum 7. Francisella tularensis 8. Pseudomonas mallei 9. Pseudomonas pseudomallei 10. Salmonella typhi 11. Shigella dysenteriae 12. Vibrio cholerae 13. Yersinia pestis. d. Toxinen, zoals: 1. Botulinum toxine 2. Clostridium perfringens toxine 3. Conotoxine 4. Ricine 5. Saxitoxine 6. Shigatoxine 7. Staphylococcus aureus toxinen 8. Tetrodotoxine 9. Verotoxine 10. Microcystine (Cyanginosine). 1C352 Dierpathogenen, zoals: a. virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of  als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is  geïnoculeerd of besmet, zoals: 1. African swine fever virus (Afrikaanse varkenspest) 2. Avian influenza virus (aviaire influenza), hetzij: a. niet gekarakteriseerd, hetzij b. zoals omschreven in Richtlijn 92/40/EEG (PB nr. L 16 van 23. 1. 1992, blz. 19) met een hoge  pathogeniteitsindex, zoals: 1. type A-virussen met een IVPI (intraveneuze pathogeniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van  meer dan 1,2, of 2. type B-virussen, subtype H5 of H7, waarvoor door middel van "sequencing" van de nucleotiden is  aangetoond dat verschillende basische aminozuren aanwezig zijn aan de breukzijde van het  hemaglutinine 3. Bluetongue virus 4. Foot and mouth disease virus (mond- en klauwzeer) 5. Goat pox virus (geitepokken) 6. Porcine herpes virus (Aujeszky's disease) 7. Swine fever virus (Hog cholera virus) (klassieke varkenspest) 8. Lyssa virus 9. Newcastle disease virus (pseudo-vogelpest) 10. Peste des petits ruminants virus 11. Porcine enterovirus type 9 12. Rinderpest virus (runderpest) 13. Sheep pox virus (schapepokken) 14. Teschen disease virus 15. Vesicular stomatitis virus; b. Mycoplasma mycoides, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende  culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen  is geïnoculeerd of besmet. 1C353 Genetisch gemodificeerde micro-organismen, zoals: a. genetisch gemodificeerde micro-organismen, of de genetische elementen die de nucleïnezuurreeksen  bevatten die de pathogeniteit bepalen van en die ontleend zijn aan de organismen als bedoeld in  1C351.a, b of c, 1C352 of 1C354; b. genetisch gemodificeerde micro-organismen, of de genetische elementen die de nucleïnezuurreeksen  bevatten die coderen voor willekeurig welke van de toxinen bedoeld in 1C351.d. 1C354 Plantpathogenen zoals: a. bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen"  of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, zoals: 1. Xanthomonas albilineans; 2. Xanthomonas campestris pv. citri., met inbegrip van stammen aangeduid als Xanthomonas campestris  pv. citri types A, B, C, D, E of anderszins ingedeeld als Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris  pv. aurantifolia of Xanthomonas campestris pv. citrumelo; b. schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen"  of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, zoals: 1. Colletotrichum coffeanum var. virulans; 2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae); 3. Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei); 4. Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici); 5. Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum); 6. Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae). 1D PROGRAMMATUUR 1D001 "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het "ontwikkelen", "vervaardigen" of  "gebruiken" van goederen bedoeld in 1B001, 1B002 en 1B003. 1D002 "Programmatuur" voor het "ontwikkelen" van laminaten of "composieten" met een organische  "matrix", een metaal-"matrix" of een koolstof-"matrix". 1D101 Speciaal ontwikkelde "programmatuur" voor het "gebruik" van de in 1B101 bedoelde goederen. 1D103 Spediaal ontwikkelde "programmatuur" voor de analyse van de beperking van de zichtbaarheid  zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld. 1D201 Speciaal ontwikkelde "programmatuur" voor het "gebruik" van de in 1B201 bedoelde goederen. 1E TECHNOLOGIE 1E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "ontwikkelen" of  "vervaardigen" van apparatuur of materialen bedoeld in 1A001.b, 1A001.c, 1A002, 1A003, 1B en 1C. 1E002 Andere "technologie": a. "technologie" voor het "ontwikkelen" of "vervaardigen" van polybenzothiazolen of  polybenzoxazolen; b. "technologie" voor het "ontwikkelen" of "vervaardigen" van fluorelastomeerverbindingen die ten  minste één vinylethermonomeer bevatten; c. "technologie" voor het ontwerpen of "vervaardigen" van de volgende basismaterialen of keramische  materialen niet zijnde "composieten": 1. basismaterialen met alle volgende kenmerken: a. met een van de onderstaande samenstellingen: 1. enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium en meervoudige oxiden van silicium of  aluminium, 2. enkelvoudige nitriden van boor (de kubusvormige kristalvormen), 3. enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of boor; of 4. enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium; b. met een totale hoevellheid metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van  minder dan: 1. 1 000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden, of 2. 5 000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkelvoudige nitriden, en c. 1. met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 5 micrometer terwijl niet meer  dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer, of Noot: Voor zirkoniumoxide zijn deze limieten op 1 micrometer respectievelijk 5 micrometer gesteld. 2. a. plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en dikte groter is dan 5; b. whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en diameter groter is dan 10, bij een diameter  kleiner dan 2 micrometer, en c. continue of stapelvezels met een diameter kleiner dan 10 micrometer; 2. keramische materialen niet zijnde "composieten", met uitzondering van slijpmiddelen,  samengesteld uit de materialen omschreven in 1E002.c.1; d. "technologie" voor het "vervaardigen" van aromatische polyamidevezels; e. "technologie" voor het installeren, onderhouden en repareren van materialen bedoeld in 1C001; f. "technologie" voor het repareren van "composieten", laminaten of materialen bedoeld in 1A002,  1C007.c of d. Noot: 1E002.f is niet van toepassing op technologie voor de reparatie van casco's van "civiele  vliegtuigen" met koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" en epoxyharsen, die is vermeld in de  handleidingen van de fabrikant. 1E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruiken" van  goederen bedoeld in 1A102, 1B001, 1B101, 1B115, 1B116, 1C001, 1C101, 1C107, 1C115, 1C116, 1C117,  1D101 of 1D103. 1E102 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "ontwikkelen" van  "programmatuur" bedoeld in 1D001, 1D101 of 1D103. 1E103 "Technologie" voor het regelen van de temperatuur, druk of atmosfeer in autoclaven of  hydroclaven indien gebruikt voor het vervaardigen van composieten of halffabrikaten van  composieten. 1E104 "Technologie" voor het vervaardigen van pyrolytisch gevormde materialen op een mal, doorn of  ander substraat van gassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 °C) tot 3 173 K (2 900  °C) en drukken van 130 Pa tot 20 kPa. Noot: Deze post omvat tevens "technologie" voor het samenstellen van voorlopergassen, schema's en  gegevens in verband met stroomsnelheden en procesregeling. 1E201 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruiken" van  goederen bedoeld in 1A002, 1A202, 1A225, 1A226, 1A227, 1B201, 1B225 t/m 1B231, 1C002.a.2.c of d,  1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 t/m 1C239 of 1D201. 1E202 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "ontwikkelen" of  "vervaardigen" van goederen bedoeld in 1A202, 1A225, 1A226 of 1A227. 1E203 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "ontwikkelen" van  "programmatuur" als bedoeld in 1D201. CATEGORIE 2 MATERIAALBEWERKING 2A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN Technische noten bij 2A001 t/m 2A006: 1. DN wordt gedefinieerd als het produkt van de asgatdiameter in millimeter en de draaisnelheid van  het lager in omwentelingen per minuut. 2. Onder werktemperaturen worden mede begrepen de temperaturen die worden bereikt wanneer een  gasturbinemotor na werking is stopgezet. 2A001 Kogellagers of lagers met rollers uit één stuk, met uitzondering van kegelvormige rollagers,  met toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens de Amerikaanse norm ABEC 7 (Annular Bearing  Engineers Committee), ABEC 7P, ABEC 7T of klasse 4 ISO-norm of beter (of gelijkwaardige nationale  equivalenten), en met een of meer van onderstaande kenmerken: a. ringen, kogels of rollen gemaakt van monel of beryllium, b. vervaardigd voor gebruik bij werktemperaturen hoger dan 573 K (300 °C) hetzij met toepassing van  speciale materialen, hetzij door middel van een speciale warmtebehandeling, of c. speciaal ontworpen smeerelementen of wijzigingen aan onderdelen waardoor de lagers volgens  opgave van de fabrikant geschikt zijn om te werken bij snelheden hoger dan 2,3 miljoen DN. 2A002 Andere kogellagers of lagers met rollen uit één stuk, met uitzondering van kegelvormige  rollagers, met toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens de Amerikaanse norm ABEC 9  (Annular Bearing Engineers Committee), ABEC 9P of klasse 2 ISO-norm of beter (of gelijkwaardige  nationale equivalenten). 2A003 Kegelvormige rollagers met rollers uit één stuk, met toleranties volgens opgave van de  fabrikant volgens de norm ANSI/AFBMA (American National Standards Institute/Anti-Friction Bearing  Manufacturers Association), klasse 00 (inch) of klasse A (metriek) of beter (of gelijkwaardige  nationale equivalenten) en met één van beide onderstaande kenmerken: a. speciaal ontworpen smeerelementen of wijzigingen aan onderdelen waardoor de lagers volgens  opgave van de fabrikant geschikt zijn om te werken bij snelheden hoger dan 2,3 miljoen DN, of b. vervaardigd voor gebruik bij werktemperaturen lager dan 219 K ( 54 °C) of hoger dan 423 K (150  °C). 2A004 Met gas gesmeerde folielagers vervaardigd voor gebruik bij werktemperaturen van 561 K (288  °C) of hoger en een eenheidslastvermogen groter dan 2 MPa. 2A005 Actieve magnetische lagersystemen. 2A006 Met weefsel gevoerde zelfrichtende lagers of met weefsel gevoerde asblokglijlagers  vervaardigd voor gebruik bij werktemperaturen lager dan 219 K ( 54 °C) of hoger dan 423 K (150  °C). 2A225 Kroezen vervaardigd van metalen die bestand zijn tegen vloeibare actinidemetalen, zoals: a. kroezen met een inhoud van 150 ml tot 8 liter en vervaardigd van of bekleed met één van  onderstaande materialen met een zuiverheid van 98 % of hoger: 1. calciumfluoride (CAF2); 2. calciumzirkonaat (metazirkonaat) Ca2ZrO3); 3. ceriumsulfide (Ce2S3); 4. eriumoxide (Er2O3); 5. hafniumoxide (HFO2); 6. magnesiumoxide (MgO); 7. legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca. 50 % Nb, 0 % Ti, 20 % W); 8. ytttriumoxide (Y2O3); 9. zirkoniumoxide (ZrO2); b. kroezen met een inhoud van 50 ml tot 2 liter en vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een  zuiverheid van 99,9 % of hoger; c. kroezen met een inhoud van 50 ml tot 2 liter en vervaardigd van of gevoerd met tantaal (met een  zuiverheid van 98 % of hoger) bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride (of willekeurig welke  combinatie hiervan). 2A226 Afsluiters met een diameter van 5 mm of groter en met balgafdichting, die geheel vervaardigd  zijn van of gevoerd met aluminium, aluminiumlegering, nikkel of een legering die 60 % of meer  nikkel bevat, en die handmatig of automatisch worden bediend. 2B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIE-APPARATUUR Noot: In 2B001 t/m 2B009 zijn niet bedoeld interferometermeetsystemen, zonder open of gesloten  terugkoppeling, die een "laser" bevatten voor het meten van fouten in de sledebeweging van  machinewerktuigen, meetmachines of dergelijke apparatuur. 2B001 "Numerieke besturings"-eenheden, "verplaatsingsbesturingskaarten" speciaal ontworpen voor  "numerieke besturings"-toepassingen in werktuigmachines, werktuigmachines, en speciaal ontworpen  onderdelen daarvoor, zoals: Technische noten: 1. Hulp parallelle contourassen, bij voorbeeld de w-as op horizontale kotterbanken of een tweede  roterende hulpas waarvan de hartlijn parallel loopt met de hoofdroterende as, worden niet bij het  totale aantal contourassen gerekend. NB: Roterende assen hoeven niet noodzakelijkerwijs over 360 °C draaibaar te zijn. Een roterende as  kan worden aangedreven door een lineair mechanisme, bij voorbeeld een draadspil of een tandheugel  met rondsel. 2. De benaming van de assen dient in overeenstemming te zijn met de internationale norm ISO 841  "Machines met numerieke besturing - benamingen van assen en bewegingen". a. "numerieke besturings"-eenheden voor werktuigmachines, zoals hieronder vermeld, en speciaal  ontworpen onderdelen daarvoor: Noot: In 2B001.a worden niet bedoeld "numerieke besturings"-eenheden indien deze ofwel: a. zijn gewijzigd voor en toegevoegd aan niet in deze post bedoelde machines, ofwel b. speciaal zijn ontworpen voor niet in deze post bedoelde machines. 1. met meer dan vier interpolerende assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor  "contourbesturen", of 2. met twee, drie of vier interpolerende assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor  "contourbesturen" en: a. geschikt voor "tijdgebonden ("real-time") verwerking" van gegevens voor het tijdens de machinale  bewerking wijzigen van de bewegingen van het gereedschap, de voedingssnelheid en de spilgegevens  door ofwel: 1. automatische berekening en wijziging van de werkstukprogrammagegevens voor de machinale  bewerking in twee of meer assen door middel van meetcyclussen en toegang tot brongegevens, ofwel 2. "adaptieve besturing" met meer dan één gemeten fysische variabele en verwerking door middel van  een rekenmodel (strategie) met het doel een of meer bewerkingsinstructies te wijzigen teneinde het  bewerkingsproces optimaal te laten verlopen; b. geschikt voor het direct ("on-line") ontvangen en verwerken van gegevens voor  computerondersteund ontwerpen (CAD) ten behoeve van de interne aanmaak van machine-instructies, of c. volgens de technische specificaties van de fabrikant geschikt om, zonder aanpassingen, van extra  kaarten te worden voorzien waardoor het aantal interpolerende assen dat gelijktijdig kan  samenwerken voor "contourbesturen" kan worden verhoogd tot boven de limieten gesteld in 2B001, ook  indien zij deze extra kaarten niet bevatten; b. "bewegingsbesturingskaarten" speciaal ontworpen voor werktuigmachines en die: 1. zorgen voor interpolatie in meer dan vier assen; 2. zorgen voor "tijdgebonden ("real-time") verwerking" als beschreven in 2B001.a.2.a, of 3. gegevens voor computerondersteund ontwerpen (CAD) als omschreven in 2B001.a.2.b kunnen ontvangen  en verwerken; c. werktuigmachines, zoals hieronder vermeld voor het verspanen of snijden van metalen, keramische  materialen of composieten, die volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden  uitgerust met elektronische toestellen voor gelijktijdig "contourbesturen" in twee of meer assen: 1. werktuigmachines voor draaien, slijpen, frezen of iedere combinatie daarvan die: a. twee of meer assen hebben die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen", en b. een of meer van de volgende kenmerken hebben: 1. twee of meer roterende contourassen; Technische noot: De c-as op pasmal-slijpmachines ("jiggrinders") gebruikt om slijpschijven in een  loodrechte positie ten opzichte van het werkoppervlak te houden, wordt niet beschouwd als een  roterende contouras. 2. een of meer contour-"kantelspillen"; Noot: 2B001.c.1.b.2 heeft uitsluitend betrekking op werktuigmachines voor slijpen en frezen. 3. "axiale slag" (axiale verplaatsing) tijdens één omwenteling van de spil kleiner (d.w.z.  nauwkeuriger) dan 0,0006 mm totale meetklokuitslag (TIR); Noot: 2B001.c.1.b.3 heeft uitsluitend betrekking op draaibanken. 4. "rondloopnauwkeurigheid" ("run out") tijdens één omwenteling van de spil kleiner (d.w.z.  nauwkeuriger) dan 0,0006 mm totale meetklokuitslag (TIR); 5. de instelnauwkeurigheid, inclusief alle beschikbare compensaties, is kleiner (d.w.z.  nauwkeuriger) dan: a. 0,001 graad voor elke draaias, of b. 1. 0,004 mm langs elke lineaire as (totale nauwkeurigheid) voor slijpmachines; 2. 0,006 mm langs elke lineaire as (totale nauwkeurigheid) voor draai- of freesbanken; of Noot: In 2B001.c.b.5 zijn niet bedoeld frees- of draaibanken met een instelnauwkeurigheid langs één  as, inclusief alle beschikbare compensaties, groter (slechter) dan 0,005 mm. Technische noot: De instelnauwkeurigheid van "numeriek bestuurde" werktuigmachines dient te worden  bepaald en weergegeven overeenkomstig ISO/DIS 230/2, paragraaf 2.13, in combinatie met onderstaande  vereisten: a. testomstandigheden (paragraaf 3): 1. vóór en tijdens de metingen worden de werktuigmachine en de meetapparatuur waarmee de  nauwkeurigheid gemeten wordt gedurende twaalf uur in dezelfde omgevingstemperatuur gehouden.  Gedurende de tijd vóór de metingen dienen de sleden van de machine zonder onderbreking dezelfde  bewegingscyclus uit te voeren als die waarbij de nauwkeurigheidsmeting wordt verricht; 2. de machine dient te zijn uitgerust met alle mechanische, elektronische of met programmatuur  geregelde systemen voor compensatie die met de machine zullen worden uitgevoerd; 3. de nauwkeurigheid van de voor de metingen te gebruiken meetapparatuur dient ten minste viermaal  zo groot te zijn als de verwachte nauwkeurigheid van de werktuigmachine; 4. de stroomvoorziening voor de sledeaandrijving dient als volgt te zijn: a. fasespanningsvariatie mag niet groter zijn dan  10 % van de nominale spanning, b. frequentievariatie mag niet groter zijn dan  2 Hz van de normale frequentie, c. stroomuitval of onderbroken stroomlevering is niet toegestaan, b. testprogramma (paragraaf 4): 1. voedingssnelheid (sledesnelheid) gedurende de metingen dient de snelgang te zijn; NB: In geval van werktuigmachines die oppervlakken van optische kwaliteit vervaardigen dient de  voedingssnelheid gelijk te zijn aan of minder dan 50 mm per minuut. 2. de metingen dienen te geschieden op incrementele wijze van de eerste meetpositie op de as naar  de volgende zonder naar de beginpositie te moeten terugkeren bij het aanlopen van een volgende  positie; 3. de assen waarlangs niet wordt gemeten dienen zich gedurende het testen van een as in het midden  van de slag te bevinden; c. presentatie van de testresultaten (paragraaf 2): de resultaten van de metingen dienen te omvatten: 1. instelnauwkeurigheid (A), en 2. de gemiddelde omkeerfout (B). 6. a. een instelnauwkeurigheid kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,007 mm, en b. een sledeverplaatsing vanuit de ruststand voor alle sleden binnen 20 % van een ingevoerde  bewegingsinstructie bij invoeren kleiner dan 0,5 micrometer. Technische noot: Testen van de kleinste stapgrootte van de verplaatsing (sledeverplaatsing vanuit  de ruststand):De test wordt uitsluitend uitgevoerd indien de werktuigmachine is uitgerust met een  besturingseenheid waarvan de kleinste stapgrootte kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 0,5  micrometer. De machine dienst te worden gereedgemaakt voor de test overeenkomstig ISO-norm 230/2,  paragrafen 3.1, 3.2 en 3.3. De test dient te worden uitgevoerd voor iedere as (slede) van de werktuigmachine, als volgt: a. verplaats de as tweemaal over ten minste 50 % van de maximale asslag in positieve en negatieve  richting bij maximale voedingssnelheid, snelgang of stapsgewijze besturing ("jog control"); b. wacht ten minste tien seconden; c. voer handmatig de kleinst mogelijke programmeerbare stap van de besturingseenheid in; d. meet de asbeweging; e. stel de besturingseenheid op nul met de servonul-, terugstel- of enige andere functie die alle  signalen (voltages) in de servolus op nul stelt; f. herhaal de stappen b t/m e vijfmaal, tweemaal in dezelfde richting langs de asslag en driemaal  in de tegenovergestelde richting van de asslag resulterend in zes testpunten in totaal; g. indien bij vier van de zes testpunten de asverplaatsing tussen 80 % en 120 % van de kleinst  mogelijke programmeerbare invoer ligt, is de machine bedoeld. Bij roterende assen dienen de metingen te worden verricht op 200 mm vanaf het draaipunt. Noot: 1. In 2B001.c.1 zijn niet bedoeld uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige  rondslijpmachines met alle volgende kenmerken: a. niet-centerloze (schoentype) slijpmachines, b. beperkt tot rondslijpen, c. een maximale buitenmiddellijn of lengte van het werkstuk van 150 mm, d. slechts twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", en e. zonder c-contouras. 2. In 2B001.c.1 zijn niet bedoeld machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-slijpmachines met  beide onderstaande kenmerken: a. de assen zijn beperkt tot x, y, c en a, waarbij de c-as wordt gebruikt om de slijpschijf in een  loodrechte positie ten opzichte van het werkoppervlak te houden en waarbij de a-as is  geconfigureerd voor het slijpen van onronde schijven, en b. een "rondloopnauwkeurigheid" ("run out") van de spil niet kleiner (niet beter) dan 0,0006 mm. 3. In 2B001.c.1 zin niet bedoeld gereedschapsslijpmachines met alle volgende kenmerken: a. verzonden als een compleet systeem met "programmatuur" speciaal ontworpen voor het vervaardigen  van gereedschappen of frezen, b. niet meer dan twee roterende assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", c. "rondloopnauwkeurigheid" ("run out") tijdens één omwenteling van de spil niet kleiner (niet  beter) dan 0,0006 mm totale meetklokuitslag (TIR), en d. de "instelnauwkeurigheid", inclusief alle beschikbare compensaties, niet kleiner (niet beter)  dan: 1. 0,004 mm voor wat betreft totale nauwkeurigheid langs elke lineaire as, of 2. 0,001 graad voor elke draaias. 2. Draadvonkmachines (EDM) met vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor  "contourbesturen". 3. Vonkmachines (EDM) van het type zonder draad, met twee of meer roterende assen die gelijktijdig  kunnen samenwerken voor "contourbesturen". 4. Werktuigmachines voor het bewerken van metalen, keramische materialen of composieten: a. door middel van: 1. waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die met slijpmiddeltoevoegingen, 2. elektronenbundel, of 3. "laser"-straal, en b. met twee of meer roterende assen die: 1. gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", en 2. een instelnauwkeurigheid hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,003 graad. Technische noot: Machines waarvan twee of meer draaiassen of "kantelspillen" gelijktijdig kunnen  samenwerken voor contourbesturen zijn in deze post bedoeld ongeacht het aantal gelijktijdig  samenwerkende contourassen dat met de aan de machine verbonden "numerieke besturings"-eenheden kan  worden bestuurd. 2B002 Niet-"numeriek bestuurde" werktuigmachines voor het vervaardigen van oppervlakken van  optische kwaliteit, zoals: a. draaibanken met enkelpunts snijgereedschap en met alle volgende kenmerken: 1. een "instelnauwkeurigheid" van de slede kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0005 mm per 300 mm  verplaatsing; 2. een "herhaalbaarheid" van het instellen van de slede vanaf twee kanten kleiner (d.w.z.  nauwkeuriger) dan 0,00025 mm per 300 mm verplaatsing; 3. een "rondloopnauwkeurigheid" ("run out") en "axiale slag" van de spil kleiner (d.w.z.  nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); 4. een hoekafwijking van de sledebeweging langs de volledige asslag (gieren, stampen en slingeren)  kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR), en 5. een afwijking van de loodrechte stand van de slede kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,001 mm  per 300 mm verplaatsing; Technische noot: De herhaalbaarheid van het vanaf twee kanten instellen van de slede (R) op een as  is de maximale waarde van de instelherhaalbaarheid op willekeurig welke plaats langs of rond de as,  bepaald met gebruikmaking van de procedure en onder de omstandigheden neergelegd in deel 2.11 van  ISO-norm 230-2: 1988. b. machines die gebruik maken van een slagmes ("fly cutters") met beide volgende kenmerken: 1. een "rondloopnauwkeurigheid" ("run out") en "axiale slag" van de spil kleiner (d.w.z.  nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR), en 2. een hoekafwijking van de sledebeweging langs de volledige asslag (gieren, stampen of slingeren)  kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR). 2B003 "Numeriek bestuurde" en handgestuurde werktuigmachines speciaal ontworpen voor het snijden,  afwerken, slijpen of wetten van één van beide of beide onderstaande klassen geharde (Rc = 40 of  meer) afgeschuinde of parallel-assige tandwielen, en speciaal ontworpen onderdelen, regelapparatuur  en toebehoren daarvoor: a. geharde conische tandwielen afgewerkt tot een kwaliteit beter dan AGMA 13 (American Gear  Manufacturers Association) (gelijkwaardig aan ISO-norm 1328, klasse 4), of b. geharde rechte, schroef- en dubbelgeschroefde tandwielen met een steekdiameter groter dan 1 250  mm en een kopbreedte gelijk aan of groter dan 15 % van de steekdiameter, afgewerkt tot een  kwaliteit gelijk aan of beter dan AGMA 14 (gelijkwaardig aan ISO-norm 1328, klasse 3). 2B004 Heet "isostatische persen", zoals hieronder vermeld, en speciaal ontworpen matrijzen, mallen,  onderdelen, toebehoren en regelapparatuur daarvoor: NB: Zie ook 2B104 en 2B204. a. met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te beheersen, terwijl de  drukkamerholte een binnendiameter heeft van 406 mm of meer, en b. met: 1. een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa; 2. een gecontroleerde thermische omgeving die bereikt en gehandhaafd kan worden hoger dan 1 773 K  (1) 500 °C), of 3. de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende  gasvormige afvalprodukten. Technische noot: De binnenmaat betreft de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot  stand komt en omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de  binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk  van het feit welk van de twee kamers zich in de andere bevindt. 2B005 Speciaal ontworpen apparatuur voor de afzetting, verwerking en procesbesturing van  anorganische deklagen, bekledingen en oppervlakmodificaties, zoals hieronder vermeld, voor  niet-elektronische substraten door middel van de in de tabel en bijbehorende noten na 2E003.d  omschreven procédés en speciaal daarvoor ontworpen geautomatiseerde onderdelen voor de hantering,  positionering, manipulatie en besturing: a. "met opgeslagen programma bestuurde" produktieapparatuur voor chemische afzetting uit de  dampfase (CVD) met beide onderstaande mogelijkheden: 1. aangepast procédé voor één van onderstaande technieken: a. pulserende CVD, b. thermische ontleding met beheerste nucleatie (CNTD), of c. met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD, en 2. met één van beide onderstaande eigenschappen: a. omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuuem (minder dan of gelijk aan 0,01Pa), of b. omvat in-situ-regulering van de dikte van de bekledingslaag; b. "met opgeslagen programma bestuurde" produktieapparatuur voor ionenimplantatie met een  bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger; c. "met opgeslagen programma bestuurde" produktieapparatuur voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD)  welke omvat: 1. een voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW, 2. een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de  ingot nauwkeurig reguleert, en 3. een computergestuurde, volgens het principe van de fotoluminescentie van de geïoniseerde atomen  in de dampstroom werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee of meer elementen  bestaande bekledingslaag reguleert; d. "met opgeslagen programma bestuurde" produktieapparatuur voor plasmaspuiten met één van beide  volgende kenmerken: 1. werkt bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een  afstand van 300 mm boven de opening van het spuitpistool) in een vacuuemkamer geschikt voor het  bereiken van en druk van 0,01 Pa voorafgaande aan het spuitproces, of 2. omvat in-situ-regulering van de dikte van de bekledingslaag; e. "met opgeslagen programma bestuurde" produktieapparatuur voor "sputteren", geschikt voor een  stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer; f. "met opgeslagen programma bestuurde" produktieapparatuur voor boogverdampen welke een net van  gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode; g. "met opgeslagen programma bestuurde" produktieapparatuur voor ion-plating met de mogelijkheid  van het in situ meten van ofwel: 1. de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheersing van de snelheid van afzetting,  ofwel 2. optische kenmerken. Noot: In 2B005.g wordt niet bedoeld standaardapparatuur voor het bekleden van gereedschap voor  kotterbanken of werktuigmachines door middel van ion-plating. 2B006 Maatinspectie-, meetsystemen of -apparatuur, zoals: a. computergestuurde, "numeriek bestuurde" of "met opgeslagen programma bestuurde" meetmachines,  met beide volgende kenmerken: 1. twee of meer assen, en 2. een eendimensionale "meetonzekerheid" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,25 +  L/1000) micrometer, getest met een sonde met een "nauwkeurigheid" kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan  0,2 micrometer (L is de gemeten lengte in mm); b. meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, zoals: 1. lineaire meetinstrumenten met een of meer van de volgende kenmerken: a. meetsystemen van het contactloze type met een "resolutie" gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2  micrometer binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm; b. lineaire spanningsverschilomzetters met beide volgende kenmerken: 1. "lineariteit" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % binnen een meetgebied tot en  met 5 mm, en 2. verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % per dag bij een  standaardomgevingstemperatuur in de testruimte van 1 K, of c. meetsystemen met beide volgende kenmerken: 1. zij bevatten een "laser", en 2. zij handhaven, bij een standaardomgevingstemperatuur van 1 K en bij een standaarddruk, gedurende  ten minste twaalf uur: a. een "resolutie" over hun volledige schaal van 0,1 micrometer of kleiner (beter), en b. een "meetonzekerheid" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (0,2 + L/2000) micrometer  (L is de gemeten lengte in mm); 2. instrumenten voor hoekmetingen met een "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z.  nauwkeuriger) dan 0,00025 graad; Noot: In 2B006.b.2 zijn niet bedoeld optische instrumenten, zoals autocollimatoren, die gebruik  maken van gecollimeerd licht voor de bepaling van hoekverplaatsingen van een spiegel. c. systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels,  met beide volgende kenmerken: 1. "meetonzekerheid" langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5  micrometer per 5 mm, en 2. "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,02 graad; d. apparatuur voor het meten van ongelijkmatigheden in oppervlakken met een gevoeligheid van 0,5 nm  of minder (d.w.z. nauwkeuriger), door het meten van optische verstrooiing als een functie van de  hoek. Technische noten: 1. De bij de bepaling van de "meetonzekerheid" van een maatinspectiesysteem gebruikte sonde dient  te voldoen aan de omschrijving in VDI/VDE 2617, delen 2, 3 en 4. 2. Alle meetwaarden in 2B006 vertegenwoordigen de toelaatbare positieve en negatieve afwijkingen  van de doelwaarde, d.w.z. niet de totale spreiding. Noten: 1. Werktuigmachines geschikt voor gebruik als meettoestel worden bedoeld indien hun prestaties  gelijk zijn aan of beter dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de  meettoestelfunctie. 2. Indien een machine als omschreven in 2B006 op enig punt in haar werkbereik de limieten  overschrijdt, wordt de machine bedoeld. 2B007 "Robots", zoals hieronder vermeld, en speciaal ontworpen besturingsapparatuur en  "eindeffectoren" daarvoor: NB: Zie ook 2B207. a. geschikt voor tijdgebonden ("real-time"), volledig driedimensionale beeldverwerking of volledig  driedimensionale beeldanalyse voor het maken of wijzigen van "programma's" of voor het maken of  wijzigen van numerieke programmagegevens, Noot: Deze beperking van de beeldanalyse sluit niet uit een bepaling van de derde dimensie door  middel van beschouwing vanuit een vaste hoek, noch een beperkte interpretatie van grijstinten voor  de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane taken (2 ½ D). b. speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor gebruik in ruimten met explosieven,  of c. speciaal ontworpen of gekwalificeerd als stralingsongevoelig boven de waarde die nodig is om  normale industriële ioniserende straling (d.w.z. in de niet-nucleaire industrie) te kunnen  weerstaan. 2B008 Samenstellingen, eenheden of inzetstukken, speciaal ontworpen voor werktuigmachines, of voor  apparatuur bedoeld in 2B006 of 2B007, zoals: a. spilsamenstellingen, bestaande uit spillen en lagers als kleinste samenstelling, met een  "rondloopnauwkeurigheid" ("run out") of "axiale slag" tijdens één omwenteling van de spil minder  (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0006 mm totale meetklokuitslag (TIR); b. lineaire plaatsbepalers, bij voorbeeld plaatsbepalers van het inductieve type, gekalibreerde  schalen, infraroodsystemen of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een lineaire verplaatsing  die een totale "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan (800 + (600 × L × 10-3))nm  (waarbij L de effectieve lengte is in mm); c. roterende plaatsbepalers, bij voorbeeld van het inductieve type, gekalibreerde schalen,  infraroodystemen, of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een hoekverdraaiing die een  "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025 graad; d. sledesamenstellingen, bestaande uit leibanen, bed en slede als kleinste samenstelling met alle  volgende kenmerken: 1. afwijking door gieren, stampen of slingeren minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan twee boogseconden  totale meetklokuitslag (referentie: ISO/DIS 230/1) over de gehele sledebeweging, 2. een rechtheid in het horizontale vlak minder (beter) dan 2 micrometer per 300 mm lengte; 3. een rechtheid in het verticale vlak minder (beter) dan 2 micrometer per 300 mm lengte; e. enkelpunts-diamant-snijplaatjes met alle volgende kenmerken: 1. breuk- en braamvrije snede indien bekeken onder een vergroting van 400-maal onder elke hoek; 2. snijstraal van 0,1 t/m 5 mm; en 3. onrondheid van de snijstraal kleiner (beter) dan 0,002 mm totale meetklokuitslag (TIR). 2B009 Speciaal ontworpen printplaten met daarop gemonteerde onderdelen en "programmatuur" daarvoor,  of "samengestelde draaitafels" of "kantelspillen" die volgens de technische specificaties van de  fabrikant de mogelijkheden van "numerieke besturings"-eenheden, werktuigmachines of  terugkoppelingsmechanismen kunnen vergroten tot aan of boven de niveaus bedoeld in 2B001 t/m  2B008. 2B104 Apparatuur en procesregeleenheden ontworpen of aangepast voor de verdichting en pyrolyse van  composiet raketstraalpijpen en neuskegels voor terugkeervoertuigen ("reentry"). Noot: In 2B104 worden alleen bedoeld "isostatische persen" en ovens als hieronder: a. "isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004, met alle volgende eigenschappen: 1. een maximale werkdruk van 69 MPa of meer, 2. ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven, en 3. met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer. b. CVD-ovens (chemical vapour deposition), ontworpen of aangepast voor het verdichten van  koolstof-koolstof-composieten. 2B115 Vloeidraaibanken ("flow-forming machines") en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, die: NB: Zie ook 2B215. a. volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen worden uitgerust met "numerieke  besturings"-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met  dergelijke eenheden zijn uitgerust, en b. meer dan twee assen hebben die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen". Technische noot: 1. Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, worden voor deze post  beschouwd als vloeidraaibanken. 2. Machines die niet kunnen worden gebruikt voor de produktie van onderdelen en uitrusting (b.v.  motorhuizen) voor voortstuwingssystemen als bedoeld in 9A007.a.1, worden niet bedoeld in 2B115. 2B116 Apparatuur voor het beproeven door middel van trillingen en componenten daarvoor, zoals: a. apparatuur voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van  terugkoppel- of gesloten-kringtechnieken, welke een digitale besturing bevatten, geschikt om een  systeem te laten trillen met 10 g RMS of meer over de gehele frequentieband van 20 Hz tot 2 000 Hz  en die krachten kan overbrengen van 50 kN (11 250 lbs) of meer, met onbelaste tafel gemeten; b. digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen  door middel van trillingen, met een "real-time"-bandbreedte van meer dan 5 kHz en ontworpen voor  gebruik met de systemen vermeld in a; c. trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht van 50 kN (11  250 lbs) of meer uit te oefenen, met onbelaste tafel gemeten, en geschikt voor de systemen vermeld  in a; d. beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers  in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht van 50 kN of  meer uit te oefenen, met een onbelaste tafel gemeten, en geschikt voor de systemen vermeld in a. In 2B116 betekent "onbelaste tafel" een vlakke tafel, of een vlak oppervlak, zonder klemmen of  hulpstukken. 2B204 "Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004 of 2B104, geschikt voor een maximale  werkdruk van 69 MPa of meer en met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm,  en speciaal ontworpen matrijzen en mallen en regelapparatuur daarvoor. 2B207 "Robots" en "eindeffectoren", anders dan bedoeld in 2B007, speciaal ontworpen volgens  nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bij voorbeeld  volgens elektrische normen voor brisante springstoffen), en speciaal ontworpen besturingsapparatuur  daarvoor. 2B215 Forceer- ("spin-forming") en vloei- ("flow-forming") draaibanken, anders dan bedoeld in  2B115, en spillen voor het precisievormgeven van rotoren ontworpen voor het vormen van cilindrische  rotoren, met een binnendiameter van 75 mm-400 mm, die: a. volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen worden uitgerust met "numerieke  besturings"-eenheden of computerbesturing, en b. twee of meer assen hebben die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen". Technische noot: In deze post worden uitsluitend bedoeld die forceerdraaibanken ("spin-forming  machines") welke de functie van forceren en vloeidraaien combineren. 2B225 Op afstand bediende manipulatoren voor het mechanisch overbrengen van handelingen van een  bedienend persoon via elektrische, hydraulische of mechanische middelen naar een bedieningsarm en  eindklem die kunnen worden aangewend voor het doen verrichten van handelingen op afstand bij  radiochemische scheidingsbewerkingen en in "hete cellen", zoals: a. geschikt om te werken bij een celwand met een dikte van 0,6 m of meer, of b. geschikt om de afstand over de bovenkant van een celwand met een dikte van 0,6 m of meer te  overbruggen.2B226 Inductieovens werkend met vacuuem of beheerste omgeving (inert gas) en geschikt voor  werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 °C) en met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of  minder, en speciaal voor inductieovens ontworpen stroombronnen met een vermogen van 5 kW of meer. NB: Zie ook 3B. Noot: Ovens ontworpen voor het bewerken van halfgeleiderplakken ("wafers") zijn niet bedoeld in  deze post. 2B227 Metallurgische smelt- en gietovens met vacuuem of beheerste atmosfeer (inert gas) zoals  hieronder vermeld, en speciaal geconfigureerde computer besturings- en controlesystemen daarvoor: a. vlamboogovens voor hersmelten en gieten met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1  000 cm³ en 20 000 cm³ en geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 973 K (1 700  °C); b. ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een  plasma, met een vermogen van 50 kW of meer en geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger  dan 1 473 K (1 200 °C). 2B228 Apparatuur voor de vervaardiging en assemblage van rotoren, en spillen en matrijzen voor het  vormen van balgen, zoals: a. rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van  gascentrifuges, met inbegrip van zeer nauwkeurige spillen, klemmen en machines voor krimppassen; b. rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte  van een gemeenschappelijke as; Technische noot: Gewoonlijk bestaat deze apparatuur uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan  een computer die vervolgens de werking van bij voorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen  gebruikte pneumatische plunjers bestuurt. c. balgvormende spillen en matrijzen voor de produktie van balgen met een enkele winding (balgen  vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of vezelmateriaal met een  hoge sterkte). De balgen hebben alle volgende afmetingen: 1. binnendiameter 75 mm tot 400 mm, 2. lengte 12,7 mm of meer, en 3. dikte van de enkele winding groter dan 2 mm. 2B229 Centrifugale balanceermachines voor het uitbalanceren in verscheidene vlakken, vast of  draagbaar, horizontaal of verticaal, zoals: a. centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een  lengte van 600 mm of meer en met alle volgende kenmerken: 1. een nuttige of tapdiameter van 75 mm of meer, 2. geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en 3. geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5 000 rpm; b. centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische  rotoronderdelen en met alle volgende kenmerken: 1. een tapdiameter van 75 mm of meer, 2. geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg, 3. geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg mm/kg per vlak of  nauwkeuriger, en 4. van het type met riemaandrijving. 2B230 Instrumenten geschikt voor het meten van een druk tot 13 kPa met een nauwkeurigheid beter dan  1 % (over het gehele bereik), met corrosievaste drukopneemelementen vervaardigd van nikkel,  nikkellegeringen, fosforbrons, roestvrij staal, aluminium of aluminiumlegeringen. 2B231 Vacuuempompen met een toevoerhals van 380 mm of groter en met een pompsnelheid van 15 000  liter/seconde of meer en geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa. Technische noot: De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde van de pomp terwijl de  invoer van de pomp is afgesloten. 2B232 Meertrapskanonnen voor lichte gassen of andere kanonsystemen voor hoge snelheden (spoel-,  elektromagnetische, thermo-elektrische of andere geavanceerde systemen) die projectielen kunnen  versnellen tot een snelheid van 2 km per seconde of meer. 2B350 Chemische produktapparatuur, zoals: a. reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume  van meer dan 0,1 m³ (100 liter) en minder dan 20 m³ (20 000 liter), waarvan alle oppervlakken die  in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van  een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. fluorpolymeren, 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 5. tantaal of tantaallegeringen, 6. titaan of titaanlegeringen, of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; b. roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors, waarvan alle oppervlakken die in direct  contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of  meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. fluorpolymeren, 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 5. tantaal of tantaallegeringen, 6. titaan of titaanlegeringen, of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; c. opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m³ (100 l),  waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicalieën die worden verwerkt of  zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. fluorpolymeren, 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 5. tantaal of tantaallegeringen, 6. titaan of titaanlegeringen, of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; d. warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van minder dan 20 m², waarvan  alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn  van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. fluorpolymeren, 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 5. tantaal of tantaallegeringen, 6. titaan of titaanlegeringen, of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; e. distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, waarvan  alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn  van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. fluorpolymeren, 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 4. grafiet, 5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 6. tantaal of tantaallegeringen, 7. titaan of titaanlegeringen, of 8. zirkonium of zirkoniumlegeringen; f. op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de  chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; g. kleppen met meervoudige afdichting en een lektestaansluiting, balgkleppen, terugslagkleppen of  diafragmakleppen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die  worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. fluorpolymeren, 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 5. tantaal of tantaallegeringen, 6. titaan of titaanlegeringen, of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; h. dubbelwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact  komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van  de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. fluorpolymeren, 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 4. grafiet, 5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 6. tantaal of tantaallegeringen, 7. titaan of titaanlegeringen, of 8. zirkonium of zirkoniumlegeringen; i. balg- of diafragmapompen met meervoudige afdichting, met ingekapselde rotor of magnetisch  aangedreven, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m³ per uur, of  vacuuempompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m³ per uur bij  standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa), waarvan alle oppervlakken die in direct  contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende  materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. keramiek, 3. ferrosilicium, 4. fluorpolymeren, 5. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding ("lining"), 6. grafiet, 7. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten, 8. tantaal of tantaallegeringen, 9. titaan of titaanlegeringen, of 10. zirkonium of zirkoniumlegeringen; j. verbrandingsovens ontworpen om chemische voorlopers bedoeld in 1C350 te vernietigen, met  speciaal ontworpen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde  verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1 273 K (1 000 °C), waarvan alle oppervlakken van het  afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalprodukten, gemaakt zijn van of bekleed  zijn met een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom, 2. keramiek, 3. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten. 2B351 Controleapparatuur voor giftige gassen zoals hieronder vermeld en speciaal daarvoor ontworpen  detectoren: a. geschikt om in continu bedrijf chemische strijdgassen, de chemische voorlopers als bedoeld in  1C350, of organische verbindingen van fosfor, zwavel, fluor of chloor waar te nemen bij  concentraties van minder dan 0,3 milligram per m³ lucht, of b. geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen. 2B352 Biologische uitrusting, zoals: a. complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4; Technische noot: P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO  Laboratory Biosafety Manual (Geneva, 1983). b. fermentoren, geschikt voor werking zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken: 1. een capaciteit van 300 liter of meer, 2. met dubbele of meervoudige afdichtingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment, en 3. geschikt voor in-situ-sterilisatie in afgesloten toestand; Technische noot: Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continustroomsystemen. c. centrifuges geschikt voor het continu scheiden van micro-organismen, zonder aërosolvorming, met  alle volgende kenmerken: 1. een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur, 2. met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of titaan, 3. met dubbele of meervoudige koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment, en 4. geschikt voor in-situ-sterilisatie in afgesloten toestand, Technische noot: Met centrifuges zijn ook bedoeld decanteerflessen. d. dwarsstroomfiltratieapparatuur ontworpen voor het continu scheiden van micro-organismen, zonder  aërosolvorming, met beide volgende kenmerken: 1. een filteroppervlak van 5 m² of meer, en 2. geschikt voor in-situ-sterilisatie; e. vriesroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan  50 kg ijs per 24 uur en minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur; f. apparatuur die in klasse P3- of P4-ruimtes wordt gebruikt of verwerkt, zoals: 1. geventileerde pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten ("bio  hazard" kleding), 2. biologische veiligheidskasten of isolerende systemen, waarin manueel kan worden gewerkt en die  een omgeving gelijkwaardig aan een biologische bescherming van klasse III vertegenwoordigen; Noot: In deze post omvatten isolerende systemen flexibele isolatoren, droge kasten, anaërobe kamers  en handschoenkasten. g. aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met pathogene "micro-organismen",  virussen of ,,toxinen" met een capaciteit van 1 m³ of meer. 2C MATERIALEN Geen. 2D PROGAMMATUUR 2D001 "Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het "ontwikkelen", "vervaardigen" of  "gebruiken" van apparatuur bedoeld in 2A001 of 2B001 t/m 2B009. 2D002 Specifieke "programmatuur", zoals: a. "programmatuur" die zorgt voor "adaptieve besturing" en met beide volgende kenmerken: 1. voor "fexibele fabricage-eenheden" (FMU's) die ten minste bestaan uit apparatuur omschreven in  b.1 en b.2 van de definitie van "flexibele fabricage-eenheid", en 2. geschikt voor het genereren of aanpassen, in "tijdgebonden verwerking" ("real-time"), van  programma's of gegevens door gebruikmaking van signalen die gelijktijdig worden verkregen door  middel van ten minste twee detectietechnieken, zoals: a. machinezien (inclusief optisch aftasten), b. infrarood-beeldvorming, c. akoestische beeldvorming (inclusief akoestisch aftasten),d. meting door fysieke aftasting, e. traagheidspositionering, f. krachtmeting, g. torsiemeting; Noot: In 2D002.a wordt niet bedoeld "programmatuur" die slechts zorgt voor herindeling van  functioneel identieke apparatuur binnen "flexibele fabricage-eenheden" die gebruik maken van van te  voren opgeslagen werkstukprogramma's en een van te voren opgeslagen strategie voor de verdeling van  de werkstukprogramma's. b. "programmatuur" voor andere elektronische toestellen dan die omschreven in 2B001.a of b, die  zorgt voor de mogelijkheid van "numerieke besturing" van de apparatuur bedoeld in 2B001. 2D101 "Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruiken" van apparatuur bedoeld in 2B104,  2B115 of 2B116. NB: Zie ook 9D004. 2D201 "Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruiken" van apparatuur bedoeld in 2B204,  2B207, 2B215, 2B227 of 2B229. 2E TECHNOLOGIE 2E001 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "ontwikkelen" van apparatuur of  "programmatuur" bedoeld in 2A, 2B of 2D. 2E002 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "vervaardigen" (C) van apparatuur  bedoeld in 2A of 2B. 2E003 Andere "technologie", zoals: a. "technologie": 1. voor het "ontwikkelen" van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in  "numerieke besturings"-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma's; 2. voor het "ontwikkelen" van generatoren van instructies voor werktuigmachines (b. v.  werkstukprogramma's) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in "numerieke  besturings"-eenheden; 3. voor het "ontwikkelen" van integratie-"programmatuur" voor het inbouwen van expertsystemen in  "numerieke besturings"-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsondersteuning voor  verrichtingen op de werkvloer; b. "technologie" voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, zoals: 1. technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor  de volgende processen: a. "superplastisch vormen"; b. "diffusielassen"; c. "direct hydraulisch persen"; 2. technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd,  welke worden gebruikt voor het regelen van: a. "superplastisch vormen" van aluminium-, titaan- en "superlegeringen": 1. oppervlaktevoorbehandeling, 2. reksnelheid, 3. temperatuur, 4. druk; b. "diffusielassen" van "superlegeringen" en titaanlegeringen: 1. oppervlaktevoorbehandeling, 2. reksnelheid, 3. temperatuur, 4. druk; c. "direct hydraulisch persen" van aluminium- en titaanlegeringen: 1. druk, 2. cyclustijd; d. "heet isostatisch verdichten" van titaan-, aluminium- en "superlegeringen": 1. temperatuur, 2. druk, 3. cyclustijd; c. "technologie" voor het "ontwikkelen" of "vervaardigen" van machines voor hydraulisch strekvormen  en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies; d. "technologie" voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische  modificatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op niet elektronische  substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procédés als  omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten. >RUIMTE VOOR DE TABEL>CATEGORIE 3 ELECTRONICA 3A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 3A Noten: 1. De embargostatus van in 3A001 of 3A002 omschreven apparatuur, elementen en onderdelen anders dan  die welke zijn omschreven in 3A001.a.3 t/m 10 of 3A001.a.12, die speciaal zijn ontworpen voor  apparatuur waarvoor een uitvoervergunning vereist is, of die dezelfde functionele eigenschappen  hebben, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. 2. De embargostatus van geïntegreerde schakelingen als omschreven in 3A001.a.3 t/m 9 of 3A001.a.12  die onveranderbaar zijn geprogrammeerd of ontworpen voor een specifieke functie, wordt eveneens  bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. NB: Wanneer de fabrikant of de aanvrager de embargostatus van de andere apparatuur niet kan  bepalen, wordt de embargostatus bepaald op grond van 3A001.a.3 t/m 9 of 3A001.a.12. Indien de  geïntegreerde schakeling een "microcomputer-microschakeling" of een microbesturingsmicroschakeling  op basis van silicium is als omschreven in 3A001.a.3 met een woordlengte van de "operand" (data)  van 8 bit of minder, dan wordt de embargostatus van de geïntegreerde schakeling bepaald in  3A001.a.3. 3A001 Elektronische elementen en onderdelen: a. universele geïntegreerde schakelingen, zoals: Noten: 1. De vraag of een uitvoervergunning is vereist voor (al dan niet afgewerkte) plakken  ("wafers") waarin de functie reeds is vastgelegd, dient te worden beoordeeld aan de hand van de  parameters in 3A001.a. 2. Geïntegreerde schakelingen omvatten de volgende typen: "monolitische geïntegreerde schakelingen"; "hybride geïntegreerde schakelingen"; "multichip geïntegreerde schakelingen"; "geïntegreerde schakelingen van het filmtype" met inbegrip van geïntegreerde schakelingen van  silicium op saffier; "optische geïntegreerde schakelingen". 1.  geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd als bestand tegen: a. een totale dosis ioniserende straling van 5×105 Rad (Si) of meer, of b. storing bij een dosistempo van 5×108 Rad (Si)/s of meer; 2. geïntegreerde schakelingen omschreven in 3A001.a.3 t/m 10 of 3A001.a.12: a. gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur hoger dan 398 K (125° C), b. gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur lager dan 218 K (−55° C), of c. gespecificeerd om te werken over het gehele omgevingstemperatuurbereik van 218 K (−55° C);  tot 398 K (125° C); Noot: 3A001.a.2 is niet van toepassing op geïntegreerde schakelingen voor toepassingen in civiele  automobielen of treinen. 3. "Microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-microschakelingen" en  microbesturingmicroschakelingen, met een of meer van de volgende kenmerken: Noot: In 3A001.a.3 worden mede bedoeld digitale signaalprocessoren, digitale "array"-processoren en  digitale co-processoren. a. een rekenkundige eenheid (ALU) met een toegangsbereik van 32 bit of meer en een totale  theoretische prestatie van 80 Mtops of meer, b. gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en werkend met een klokfrequentie hoger dan 40  MHz, of c. met meer dan 1 gegevens/instructiehoofdlijn of seriële communicatiepoort voor externe onderlinge  verbindingen in een parallelle processor met een overbrengsnelheid hoger dan 2,5 Mbyte/s; 4. EEPROM's, SRAM's en geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld  halfgeleidermateriaal, zoals: a. EEPROM's met een geheugencapaciteit: 1. groter dan 16 Mbit per omhulling voor "flash memory"-typen, of 2. voor alle andere typen EEPROM's: a. groter dan 4 Mbit per omhulling, of b. groter dan 1 Mbit per omhulling met een maximale toegangstijd korter dan 80 ns; b. SRAM's met een geheugencapaciteit:1. groter dan 4 Mbit per omhulling, of 2. groter dan 1 Mbit per omhulling en met een maximale toegangstijd korter dan 20 ns; c. geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal; 5. geïntegreerde analoog/digitaal- en digitaal/analoog-omzetters, zoals: a. analoog/digitaal-omzetters met een of meer van de volgende kenmerken: 1. een scheidend vermogen van 8 bit of meer doch minder dan 12 bit, met een totale omzettingstijd  bij maximaal scheidend vermogen korter dan 10 ns, 2. een scheidend vermogen van 12 bit met een totale omzettingstijd bij maximaal scheidend vermogen  korter dan 200 ns, of 3. een scheidend vermogen groter dan 12 bit met een totale omzettingstijd bij maximaal scheidend  vermogen korter dan twee microseconden; b. digitaal/analoog-omzetters met een scheidend vermogen van 12 bit of meer en een  "stabilisatietijd" ("settling time") van minder dan 10 ns; 6. elektro-optische of "optische geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwerking" met alle  volgende kenmerken: a. een of meer inwendige "laser"-dioden, b. een of meer inwendige lichtdetectie-elementen, en c. optische golfgeleiders; 7. door de gebruiker te programmeren "gate arrays" met één van beide volgende kenmerken: a. een bruikbare "gate count" equivalent aan meer dan 30  000 (twee ingangspoorten), of b. een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,4 ns; 8. door de gebruiker te programmeren "logic arrays" met een van beide volgende kenmerken: a. een bruikbare "gate count" equivalent aan meer dan 3 0000 (twee ingangspoorten), of b. een togglerfrequentie hoger dan 133 MHz; 9.  geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken; 10. op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de  apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet aan de fabrikant  bekend is, met een of meer van de volgende kenmerken: a. meer dan 144 in/uitgangspunten, b. een typische "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" van minder dan 0,4 ns, of c. een werkfrequentie hoger dan 3,0 GHz, of 11. digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als omschreven in 3A001.a.3 t/m 10 of  3A001.a.12, die zijn gebaseerd op een samengestelde halfgeleider en met één van beide volgende  kenmerken: a. een "gate count" equivalent aan meer dan 300 (twee ingangspoorten), of b. een togglerfrequentie hoger dan 1,2 GHz; 12. FFT ("Fast Fourier transform")-processoren met een of meer van de volgende kenmerken: a. een nominale uitvoeringstijd voor 1.024 punt complexe FFT van minder dan 1 milliseconde; b. een nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT van andere dan 1.024 punt van minder  dan N log2N/10.240ms, waarbij N het aantal punten is, of c. een "butterfly"-verwerkingscapaciteit van meer dan 5,12 MHz; b. microgolf- of millimetergolfelementen: 1. elektronische vacuuembuizen en kathoden, zoals: Noten: 1. Zie post 11 van de lijst van militaire goederen voor magnetronbuizen met "frequency agility". 2. In 3A001.b.1 worden niet bedoeld buizen die zijn ontworpen en gespecificeerd om te werken binnen  standaardbanden voor civiele telecommunicatie bij frequenties niet hoger dan 31 GHz. a. lopende golfbuizen, voor puls- of ongedempte golven, zoals: 1. werkend bij frequenties hoger dan 31 GHz; 2. met een kathodeverhittingselement dat in minder dan drie seconden het gespecificeerde  RF-vermogen bereikt; 3. gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met een "momentele bandbreedte" van meer dan 7  % of een piekvermogen van meer dan 2,5 kW; 4. spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, met een of meer van de volgende kenmerken: a. een "momentele bandbreedte" van meer dan één octaaf, en het produkt van gemiddeld vermogen (in  kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5, b. een "momentele bandbreedte" van één octaaf of minder, en het produkt van het gemiddeld vermogen  (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1,0, of c. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; b. dwarsveld ("crossed field")-versterkerbuizen met meer dan 17 dB versterking; c. geïmpregneerde kathoden voor elektronische buizen met een van beide volgende kenmerken: 1. de gespecificeerde emissie wordt bereikt in minder dan drie seconden, of 2. geschikt voor het voortbrengen van een gelijkstroomdichtheid groter dan 5 A/cm2 bij  gespecificeerde werkomstandigheden; 2.  microgolf geïntegreerde schakelingen of modulen die "monolitische geïntegreerde schakelingen"  bevatten met werkfrequenties hoger dan 3 GHz; Noot: In 3A001.b.2 worden niet bedoeld schakelingen of modulen voor apparatuur die is ontworpen of  gespecificeerd om te werken binnen standaardbanden voor civiele telecommunicatie bij frequenties  niet hoger dan 31 GHz. 3.  microgolftransistors gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31 GHz; 4. microgolf-halfgeleiderversterkers, zoals: a. werkend bij frequenties hoger dan 10,5 GHz en met een "momentele bandbreedte" groter dan een  halve octaaf; b. werkend bij frequenties hoger dan 31 GHz; 5.  elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat- of bandsperfilters met meer dan vijf  afstembare resonatoren geschikt om af te stemmen over een frequentieband van 1,5:1 (fmax/fmin) in  minder dan tien microseconden bij: a. een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de centrale frequentie, of b. een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de centrale frequentie; 6. microgolfsamenstellingen geschikt om te werken bij frequenties hoger dan 31 GHz; 7. mixers en converters ontworpen voor het vergroten van het frequentiebereik van apparatuur als  beschreven in 3A002.c, 3A002.e of 3A002.f boven de daarin aangegeven grenzen; c. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, zoals vermeld hieronder, en  speciaal ontworpen onderdelen daarvoor: 1. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische oppervlaktegolven en van akoestische  golven die langs de oppervlakte scheren ("surface wave") (d.w.z. "signaalverwerkende" elementen die  gebruik maken van elastische golven in materialen), met een of meer van de volgende kenmerken: a. een draaggolffrequentie groter dan 2,5 GHz, of b. een draaggolffrequentie van 2,5 GHz of lager, en 1. een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB, 2. een produkt van de maximale vertragingstijd (in microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter  dan 100, of 3. een dispersieve vertraging groter dan tien microseconden, of c. een draagfrequentie groter dan 2 GHz en een bandbreedte van 250 MHz of meer; 2. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven in de gehele massa van het  materiaal ("bulk wave") (d. w. z. "signaalverwerkende" elementen die gebruik maken van elastische  golven) en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen met frequenties hoger dan 1 GHz; 3. akoestisch-optische "signaalverwerkende" elementen die gebruik maken van een wisselwerking  tussen akoestische golven ("bulk wave" of "surface wave") en lichtgolven en die geschikt zijn voor  directe verwerking van signalen of beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale  analyse, correlatie of convolutie; d. elektronische elementen of schakelingen die onderdelen bevatten vervaardigd van  "supergeleidende" materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de  "kritische temperatuur" van ten minste een van de "supergeleidende" bestanddelen en met een of meer  van de volgende functies: 1. elektromagnetisch versterken: a. bij frequenties gelijk aan of lager dan 31 GHz met een ruiswaarde van minder dan 0,5 dB, of b. bij frequenties hoger dan 31 GHz; 2. stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruik maken van "supergeleidende" poorten  waarbij het produkt van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort  (in watt) kleiner is dan 10 14 J, of 3. frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger  dan 10  000; e. hoge-energiecomponenten, zoals: 1. batterijen: Noot: In 3A001.e.1 worden niet bedoeld batterijen met een inhoud gelijk aan of kleiner dan 27 cm3  (b. v. standaard-C-cellen of R14-batterijen). a. primaire cellen en batterijen met een energiedichtheid groter dan 480 Wh/kg en gespecificeerd om  te werken in het temperatuurgebied van lager dan 243 k (−30 °C) tot hoger dan 343 K (70 °C); b. herlaadbare cellen en batterijen met een energiedichtheid groter dan 150 Wh/kg na 75 cyclussen  van laden en ontladen bij een ontlaadstroom gelijk aan C/5 uur (waarbij C de nominale capaciteit is  in ampère-uren) en wanneer deze werken in het temperatuurgebied van lager dan 253 K (-20 °C) tot  hoger dan 333 K (60 °C); Technische noot: De energiedichtheid wordt bepaald door het gemiddelde vermogen in watt (gemiddelde  spanning in volt maal gemiddelde stroomsterkte in ampère) te vermenigvuldigen met de tijd (in uur)  nodig om te ontladen tot 75 % van de onbelaste beginspanning gedeeld door de totale massa van de  cel (of batterij) uitgedrukt in kilogram. c. stralingsbestendige fotovoltaïsche "arrays" die zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte",  met een specifiek vermogen groter dan 160 W/m2 gemeten bij een werktemperatuur van 301 K (28 °C)  onder belichting met 1 kW/m2 afkomstig van een wolfraamdraad bij 2 800 K (2 527 °C); 2. condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag: NB: Zie ook 3A201.a. a. condensatoren met een herhalingssnelheid van minder dan 10 Hz ("single shot"-condensatoren) met  alle volgende kenmerken: 1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV, 2. een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg, en 3. een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ; b. condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of meer ("repetition-rated"-condensatoren)  met alle volgende kenmerken: 1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV, 2. een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg, 3. een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J, en 4. een levensduur gelijk aan of langer dan 10 000 cyclussen van laden en ontladen; 3. "supergeleidende" elektromagneten en solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor volledig  opladen of ontladen in minder dan een seconde, met alle volgende kenmerken: NB: Zie ook 3A201.b. a. de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde energie is meer dan 10 kJ, b. de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is groter dan 250 mm, en c. de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie van meer dan 8 T of een nominale "totale  stroomdichtheid" in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2; Noot: In 3A001.e.3 zijn niet bedoeld "supergeleidende" elektromagneten of solenoïden die speciaal  zijn ontworpen voor medische apparatuur voor beeldvorming door middel van magnetische resonantie  (Magnetic Resonance Imaging - MRI). 4. schakelingen of systemen voor de opslag van elektromagnetische energie die onderdelen bevatten  welke vervaardigd zijn van "supergeleidende" materialen en speciaal zijn ontworpen om te werken bij  temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste één van de "supergeleidende"  bestanddelen, met alle volgende kenmerken: a. resonantiewerkfrequentie hoger dan 1 MHz, b. een opgeslagen energiedichtheid van 1 MJ/m3 of meer, en c. een ontladingstijd korter dan één milliseconde; 5. roentgensystemen met flitsontlading en buizen daarvoor, met alle volgende kenmerken: NB: Zie ook 3201.c. a. een piekvermogen groter dan 500 MW, b. een uitgangsspanning hoger dan 500 kV, en c. een impulsduur van minder dan 0,2 microseconde; f. absolute positiecodeerapparaten van het type met roterende as met één van beide volgende  kenmerken: 1. een scheidend vermogen beter dan 1 : 265  000 van de volle schaalwaarde (18 bit resolutie), of 2. een nauwkeurigheid beter dan ± 2,5 boogseconden. 3A002 Universele elektronische apparatuur a. opnameapparatuur, zoa als hieronder vermeld, en speciaal daarvoor ontworpen testband: 1. analoge magneetbandinstrumentatierecorders, met inbegrip van recorders waarmee digitale signalen  kunnen worden geregistreerd (b. v. met gebruik van een HDDR-moduul (digitaal registratiemoduul met  hoge dichtheid) met een of meer van de volgende kenmerken: a. een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 4 MHz, b. een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 2 MHz en met dan 42 sporen, of c. met een tijdverschuivingsfout van minder dan 0,1 microseconde gemeten in overeenstemming met de  van toepassing zijnde IRIG (Inter Range Instrumentation Group)- of EIA (Electronic Industries  Association)-documenten; 2. digitale magneetbandvideorecorders met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface  groter dan 180 Mbit/s met uitzondering van recorders die speciaal zijn ontworpen voor  televisieopnamen in een signaalformaat in overeenstemming met de standaarden of aanbevelingen van  de CCIR (Comité consultatif international de radiocommunications) of de IEC (International  Electrotechnical Commission) voor civiele televisietoepassingen; 3. digitale magneetbandinstrumentatierecorders voor het vastleggen van gegevens gebruik makend van  helical scan of vaste kop techniek, met een of meer van de volgende kenmerken: a. een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s of b. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; Noot: In 3A002.a.3 worden niet bedoeld analoge magneetbandrecorders uitgerust met HDDR  conversie-elektronica en geconfigureerd voor registratie van uitsluitend digitale gegevens. 4. apparatuur met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s,  ontworpen voor het ombouwen van digitale magneetbandvideorecorders voor gebruik als digitale  instrumentatiegegevensrecorders; 5. waveform digitisers en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen ("transient  recorders") met beide volgende kenmerken: NB: Zie ook 3202. a. digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 10  bit of meer, en b. een continue verwerkingscapaciteit van 2 Gbit/s of meer; Technische noot: Bij instrumenten met een parallelle busarchitecture is de continue verwerkingscapaciteit het  produkt van de hoogste "word rate" en het aantal bit in een woord. In 3A002.a.5 betekent continue  verwerkingscapaciteit de grootste snelheid waarmee het instrument gegevens kan uitsturen naar het  massageheugen zonder verlies van informatie terwijl de bemonsteringssnelheid en  analoog/digitaal-omzetting niet worden onderbroken: b. "samenstellingen" van "frequentiesynthesizers" met een "frequentiewisseltijd" van de ene gekozen  frequentie naar de andere van minder dan 1 ms; c. "signaalanalysatoren", zoals: 1. geschikt voor het analyseren van frequenties hoger dan 31 GHz; 2. "dynamische signaalanalysatoren" met een "tijdgebonden bandbreedte" groter dan 25,6 kHz, met  uitzondering van die welke uitsluitend gebruik maken van bandbreedtefilters met constant percentage  (ook wel octaaf- of deeloctaaffilters genoemd); d. "Synthesized" signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties afgeven waarvan de nauwkeurigheid en  stabiliteit op korte of lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst door de  inwendige referentiestandaard en met een of meer van de volgende kenmerken: 1. een maximale "synthesized" uitgangsfrequentie hoger dan 31 GHz; 2. een "frequentiewisseltijd" van de ene gekozen frequentie naar de andere van minder dan 1 ms; of 3. een enkel zijband (SSB)-faseruis, beter dan −(126+20 log10F-20 log10f) in dBc/Hz, waarbij F de verschuiving van de werkfrequentie is in  Hz en f de werkfrequentie in MHz; Noot: In 3A002.d wordt niet bedoeld apparatuur waarbij de uitgangsfrequentie wordt verkregen door  het optellen of aftrekken van twee of meer kristaloscillatorfrequenties, waarna de uitkomst  eventueel wordt vermenigvuldigd. e. netwerkanalysatoren met een maximale werkfrequentie hoger dan 31 GHz; Noot: In 3A002.e worden niet bedoeld "swept-frequency"-"netwerkanalysatoren" met een maximale  werkfrequentie niet hoger dan 40 GHz die geen databus bevatten voor een verbinding voor bediening  of afstand. f. microgolftestontvangers met beide volgende kenmerken: 1. een maximale werkfrequentie hoger dan 31 GHz, en 2. geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase, g. atomaire frequentiestandaarden met één van beide volgende kenmerken: 1. stabiliteit ("ageing") minder (beter) dan 1×10-11/maand, of Noot: In 3A002.g.1 worden niet bedoeld rubidiumstandaarden die niet "gekwalificeerd voor gebruik in  de ruimte" zijn. 2. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; h. emulatoren voor microschakelingen bedoeld in 3A001.a.3 of 3A001.a.9. Noot: In 3A002.h worden niet bedoeld emulatoren ontworpen voor een "familie" die ten minste één  element bevat dat niet is bedoeld in 3A001.a.3 of 3A001.a.9. 3A101 Elektronische uitrusting, elementen en onderdelen, anders dan bedoeld in 3A001, zoals: a. analoog/digitaalomzetters, geschikt voor gebruik in "raketten" en gespecificeerd om te voldoen  aan de militaire specificaties voor ruw gebruik voor apparatuur; b. versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden geproduceerd in de vorm van  remstraling afkomstig van versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en systemen die  deze versnellers bevatten. Noot: In 3A101.b wordt niet bedoeld apparatuur speciaal bestemd voor medische doeleinden. 3A201 Elektronische onderdelen, anders dan bedoeld in 3A001, zoals: a. condensators met de volgende eigenschappen: 1. een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV, energieopslag groter dan 10 J, capaciteit groter dan  0,5 ìF en serie-inductantie minder dan 50 nH, of 2. een toelaatbare spanning hoger dan 750 V, capaciteit groter dan 0,25 ìF en serie-inductantie  minder dan 10 nH; b. supergeleidende solenoïde elektromagneten met alle volgende kenmerken: 1. geschikt voor het opwekken van een magnetisch veld van meer dan 2 tesla (20 kilogauss); 2. L/D (lengte gedeeld door binnendiameter) groter dan 2; 3. de binnendiameter is groter dan 300 mm, en 4. met een magneetveld dat over 50 % van het interne veld uniform is tot beter dan 1 %;  Noot: In 3A201.b worden niet bedoeld magneten die speciaal zijn ontworpen voor en worden  uitgevoerd als onderdeel van medische apparatuur voor beeldvorming door middel van kernmagnetische  resonantie (Nuclear Magnetic Resonance - NMR). De zinsnede "als onderdeel van" betekent niet  noodzakelijkerwijs daadwerkelijk als onderdeel van dezelfde zending. Afzonderlijke zendingen vanuit  verschillende bronnen zijn toegestaan, mits in de bijbehorende exportdocumenten duidelijk wordt  vermeld dat de zendingen als "onderdeel van" de beeldvormende systemen worden verzonden. c. roentgengeneratoren met flitsontlading of gepulseerde elektronenversnellers met een piekenergie  van 500 keV of meer, zoals vermeld hieronder, met uitzondering van versnellers die een bestanddeel  zijn van toestellen ontworpen voor andere toepassingen dan elektronenbundels of roentgenstraling (b.  v. elektronenmicroscopie) en versnellers ontworpen voor medische toepassingen: 1. met een elektronpiekenergie van 500 keV of meer doch minder dan 25 MeV en met een prestagiegetal  (K) van 0,25 of hoger, waarbij K als volgt wordt gedefinieerd: K = 1,7 × 103V2,65Q, waarin V de elektronpiekenergie is in miljoenen elektronvolt en Q de totale versnelde lading in  coulomb bij een bundelpulsduur korter dan of gelijk aan 1 ìs; bij een bundelpulsduur langer dan 1  ìs is Q de maximale versnelde lading in 1 ìs [Q is gelijk aan de integraal van i over de tijd t,  zijnde ofwel 1 ìs ofwel de tijdsduur van de bundelpuls, welk van de twee het kortste is, (Q =  [integraal]idt), waarbij i de bundelstroom in ampère is en t de tijd in seconden], of, 2. met een elektronpiekenergie van 25 MeV of meer en een piekvermogen groter dan 50 MW.  [Piekvermogen = (piekspanning in volt) × (maximale bundelstrom in ampère).] Technische noten: a. Tijdsduur van de bundelpuls: in machines die werken op basis van versnellende  microgolftrilholtes is de tijdsduur van de bundelpuls ofwel 1 ìs ofwel de duur van de door een  microgolfmodulatorpuls voorgebrachte deeltjesbundel, welk van de twee het kortste is. b. Maximale bundelstroom: in machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is  de maximale bundelstroom de gemiddelde stroom voor de duur van een bundelpuls. 3A202 Oscilloscopen en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen ("transient  recorders") anders dan bedoeld in 3A002.a.5 en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, zoals: a. niet-modulaire analoge oscilloscopen met een "bandbreedte" van 1 GHz of meer; b. modulaire analoge oscilloscoopsystemen met een van beide volgende kenmerken: 1. een hoofdorgaan met een "bandbreedte" van 1 GHz of meer, of 2. insteekmodulen met een individuele "bandbreedte" van 4 GHz of meer; c. analoge bemonsteringsoscilloscopen voor het analyseren van periodieke verschijnselen met een  effectieve bandbreedte groter dan 4 GHz; d. digitale oscilloscopen en "transient recorders", die gebruik maken van  analoog-digitaalomzettingstechnieken, geschikt voor het opslaan van kortstondige verschijnselen  door het opeenvolgend bemonsteren van eenmalige ingangssignalen met tussenpozen van minder dan 1 ns  (meer dan 1 giga-monster per seconde), met digitalisering naar een scheidend vermogen van 8 bit of  beter en opslag van 256 of meer monsters.  Noot: 3A202 omvat speciaal voor analoge oscilloscopen ontworpen onderdelen zoals: 1. insteekmodulen; 2. externe versterkers; 3. voorversterkers; 4. bemonsteringstoestellen; 5. kathodestraalbuizen. Technische noot: Met "bandbreedte" wordt bedoeld de frequentieband waarover de sterkte van het  visueel weergegeven signaal niet daalt tot onder 70,7 % ten opzichte van de sterkte op het maximum  gemeten bij een constante ingangsspanning van de oscilloscoopversterker. 3A225 Frequentieomzetters (ook bekend als "converters" of "inverters") of frequentiegeneratoren,  anders dan bedoeld in 0B001.c.11, met alle volgende kenmerken: a. een meerfasige uitgang geschikt voor het leveren van een vermogen van 40 W of meer, b. geschikt om te werken in het frequentiegebied van 600 tot 2 000 Hz, c. totale harmonische vervorming minder dan 10 %, en d. frequentieafwijking kleiner dan 0,1 %. 3A226 Gelijkstroombronnen met hoog vermogen, die over een periode van acht uur ononderbroken 100 V  of meer kunnen produceren bij een stroom van 500 A of meer en met een stroom- of spanningsregeling  beter dan 0,1 %. 3A227 Hoogspanningsgelijkstroombronnen, die over een periode van acht uur ononderbroken 20  000 V  of meer kunnen produceren bij een stroom van 1 A of meer en met een stroom- of spanningsregeling  beter dan 0,1 %. 3A228 Schakelelementen, zoals: a. buizen met koude kathode (waaronder met gas gevulde krytronbuizen en vacuuemsprytronbuizen), al  dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, drie of meer elektroden  bevatten en alle volgende kenmerken hebben: 1. een maximale anodespanning van 2 500 V of meer, 2. een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer, en 3. een anodevertragingstijd van 10 ìs of minder; b. gestuurde vonkbruggen met een anodevertragingstijd van 15 ìs of minder en een toelaatbare  maximale stroomsterkte van 500 A of meer; c. modulen of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met alle volgende kenmerken: 1. een maximale anodespanning hoger dan 2 000 V, 2. een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer, en 3. een inschakeltijd van 1 ìs of minder. 3A229 Ontstekingstoestellen en gelijkwaardige pulsgeneratoren met hoge stroomsterkte (voor  detonators), zoals: NB: Zie ook de lijst van militaire goederen. a. ontstekingsmechanismen met explosieve detonator, ontworpen voor het starten van meervoudige  detonators als bedoeld in 3A232; b. modulaire elektrische pulsgeneratoren (pulseerders) ontworpen voor draagbaar, mobiel of ruw  gebruik (o. a. starters voor xenonflitslampen) met alle volgende kenmerken: 1. geschikt voor afgifte van hun energie in minder dan 15 ìs, 2. met een uitgangsstroomsterkte hoger dan 100 A, 3. met een stijgtijd korter dan 10 ìs in een belasting van minder dan 40 ohm (De stijgtijd is  gedefinieerd als het tijdsinterval dat verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekstroom en  90 % van de piekstroom als de generator op een ohmse weerstand wordt aangesloten.), 4. gevat in een stofdicht huis, 5. geen enkele afmeting groter dan 25,4 cm, 6. gewicht minder dan 25 kg, en 7. gespecificeerd voor gebruik in een breed temperatuurgebied (223 K [−50 °C] tot 373 K [100  °C]) of gespecificeerd als geschikt voor gebruik in ruimtevaart. 3A230 hoogfrequente pulsgeneratoren met een uitgangsspanning van meer dan 6 V in een  weerstandsbelasting van minder dan 55 ohm en met een pulsstijgtijd van minder dan 500 ps. Technische noot: In deze post is de pulsstijgtijd gedefinieerd als het tijdsinterval dat verstrijkt  tussen het bereiken van 10 % van de piekspanning en 90 % van de piekspanning. 3A231 Neutronengeneratorsystemen, met inbegrip van buizen, ontworpen om te werken zonder uitwendig  vacuuemsysteem en die gebruik maken van elektrostatische versnelling voor het opwekken van een  tritium-deuterium-kernreactie. 3A232 Detonators en meervoudige ontstekingssystemen ("exploding bridge wire", "slapper", enz.),  zoals: NB: Zie ook de lijst van militaire goederen.a. elektrische gestarte "explosieve detonators": 1. "exploding bridge" (EB), 2. "exploding bridge wire" (EBW), 3. "slapper", en 4. "exploding foil"-ontstekingen (EFI); b. opstellingen waarbij gebruik wordt gemaakt van enkel- of meervoudige detonators en die zijn  ontworpen om door middel van een enkel ontstekingssignaal een explosief oppervlak (over meer dan 5   000 mm2) bijna gelijktijdig tot ontploffing te brengen (met een ontstekingstijdmarge over het  oppervlak van minder dan 2,5 ìs. Noot: Detonators die uitsluitend gebruik maken van primaire springstoffen, zoals loodazide, worden  niet bedoeld. Technische noot: De hier bedoelde detonators maken alle gebruik van een kleine elektrische geleider  ("bridge", "bridge wire" of folie) die explosief verdampt wanneer er een snelle elektrische  stroomstoot doorheen wordt geleid. Bij het "non-slapper"-type brengt de exploderende geleider een  chemische ontploffing op gang in een daarmee in aanraking zijnd brisant materiaal, bij voorbeeld  PETN (pentaerytritoltetranitraat). Bij "slapper"-detonators wordt en "flyer" of "slapper" door de  explosieve verdamping van de elektrische geleider over een spleet gedreven en de schok van de  "slapper" op een springstof brengt een chemische ontploffing op gang. Bij sommige constructies  wordt de "slapper" door een magnetisch veld gestart. Met de uitdrukking "exploding foil"-detonator"  worden zowel EB-detonators als "slapper"-detonators bedoeld. Verder wordt soms het woord  "ontsteking" gebruikt in plaats van het woord "detonator". 3A233 Massaspectrometers, anders dan bedoeld in 0B002.g, die ionen met een massa van 230 atomaire  massaeenheden (a. m. e.) of meer kunnen meten en die een oplossend vermogen hebben dat beter is dan  2 a. m. e. op 230 a. m. e., en ionenbronnen hiervoor, zoals: a. inductief gekoppelde plasma-massaspectrometers (ICP/MS); b. massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontlading (GDMS); c. massaspectrometers werkend door middel van thermische ionisatie (TIMS); d. massaspectrometers werkend door middel van elektronenbeschieting, met een bronkamer vervaardigd  van of bedekt met een materiaal dat bestand is tegen UF6; e. massaspectrometers werkend met een molecuulbundel: 1. voorzien van een bronkamer vervaardigd van of bedekt met roestvrij staal of molybdeen en  uitgerust met een "koelval" die tot 193 K (−80 °C) of lager kan worden afgekoeld, of 2. voorzien van een bronkamer vervaardigd van of bedekt met materiaal dat bestand is tegen UF6, of f. massaspectrometers werkend met een microfluoreer-ionenbron ontworpen voor gebruik met actiniden  of actinidefluoriden.3B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 3B Produktie- en testapparatuur voor halfgeleiderelementen of -materialen, zoals hieronder vermeld,  en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor: 3B001 "Met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur voor epitaxiale groei, zoals: a. geschikt om een laagdikte-uniformiteit te produceren beter dan 2,5 % over een afstand van 75 mm  of meer; b. reactoren voor het chemisch neerslaan van organometaaldamp (MOCVD), speciaal ontworpen voor  kristalgroei van samengestelde halfgeleiderverbindingen door de chemische reactie tussen materialen  bedoeld in 3C003 of 3C004, c. apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door middel van moleculaire bundels met  gebruik van gasbronnen. 3B002 "Met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of  meer van de volgende kenmerken: a. een versnellingsspanning van meer dan 200 keV, b. speciaal ontworpen voor optimale werking bij een versnellingsspanning van minder dan 10 keV, c. geschikt voor direct schrijven, of d. geschikt om met hoge energie zuurstof te implanteren in een verwarmd "substraat" bestaande uit  halfgeleidermateriaal. 3B003 "Met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur voor het etsen door middel van anisotrope  droge methoden (met plasma), zoals: a. met een "cassette-to-cassette" en "load-lock"-wafertransportsysteem en met één van beide  volgende kenmerken: 1. magnetische afgrenzing, of 2. elektroncyclotronresonantie (ECR); b. speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B005 en met een van beide volgende kenmerken: 1. magnetische afgrenzing, of 2. elektroncyclotronresonantie (ECR). 3B004 "Met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur voor het met plasma versterkt chemisch  neerslaan uit de dampfase (PECVD), zoals: a. met een "cassette-to-cassette" en "load-lock"-wafertransportsysteem en met één van beide  volgende kenmerken: 1. magnetische afgrenzing, of 2. elektroncyclotronresonantie (ECR); b. speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B005 en met een van beide volgende kenmerken: 1. magnetische afgrenzing, of  2. elektroncyclotronresonantie (ECR). 3B005 "Met opgeslagen programma bestuurde" centrale wafertransportsystemen met verscheidene kamers,  voor het automatisch laden van de wafers en met interfaces voor de in- en uitvoer van de wafers,  waaraan meer dan twee halfgeleiderbewerkingsapparaten zullen worden aangesloten, ter vorming van  geen geïntegreerd systeem in een vacuuemomgeving voor stapsgewijze bewerking van verscheidene wafers  tegelijk. Noot: In 3B006 worden niet bedoeld robotachtige automatische wafertransportsystemen die niet zijn  ontworpen om te werken in een vacuuemomgeving. 3B006 "Met opgeslagen programma bestuurde" lithografische apparatuur, zoals: a. repeteerapparatuur ("step and repeat equipment") voor uitrichten en belichten ten behoeve van  het bewerken van wafers, waarbij gebruik wordt gemaakt van foto-optische of roentgenmethoden, met  één of beide van de volgende kenmerken: 1. golflengte van de lichtbron korter dan 400 nm, of 2. in staat om patronen te produceren met een MRF ("minimum resolvable feature size") van 0,7  micrometer of minder berekend volgens de volgende formule: MRF = (golflengte in micrometer) × (K factor) numerieke apertuur waarbij; MRF = minimum resolvable feature size; K factor = 0,7, en golflengte = de golflengte van de lichtbron; b. apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van  halfgeleiderelementen en die gebruik maken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of  "laser"-bundels, met een of meer van de volgende kenmerken: 1. met een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 micrometer, 2. geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 micrometer, of 3. "overlay"-nauwkeurigheid beter dan 0,20 micrometer (3 sigma). 3B007 Maskers of fijne optische netwerken ("reticles"), zoals: a. voor geïntegreerde schakelingen bedoeld in 3A001; b. maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag. 3B008 "Met opgeslagen programma bestuurde" testapparatuur, speciaal ontworpen voor het testen van  halfgeleiderelementen en niet-omhulde schijfjes ("unencapsulated dice"), zoals: a. voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31 GHz; b. voor het testen van geïntegreerde schakelingen en geschikt voor het functioneel testen ("truth  table testing") met een patroonsnelheid hoger dan 40 MHz; Noot: In 3B008.b wordt niet bedoeld testapparatuur die speciaal is ontworpen voor het testen van: 1. "samenstellingen" of categorieën, "samenstellingen" voor toepassingen in huis of voor  amusement; 2. elektronische onderdelen, "samenstellingen" of geïntegreerde schakelingen die niet  vergunningplichtig zijn. c. voor het testen van geïntegreerde schakelingen voor microgolven bij frequenties hoger dan 3  GHz; Noot: In 3B008.c wordt niet bedoeld testapparatuur die speciaal is ontworpen voor het testen van  geïntegreerde schakelingen voor microgolven voor apparatuur die is ontworpen of gespecificeerd om  te werken bij frequenties niet hoger dan 31 GHz binnen standaardbanden voor civiele  telecommunicatie. d. systemen die werken met elektronenbundels, ontworpen om te werken bij of onder 3 keV, of die  werken met "laser"-bundels, voor het contactloos testen van halfgeleiderelementen die onder  spanning staan, met beide volgende kenmerken: 1. werkend met een stroboscoop met bundelonderdrukking ("beam blanking") of "detector strobing", en 2. met een elektronenspectrometer voor spanningsmetingen met een resolutie van minder dan 0,5 V. Noot: Rasterelektronenmicroscopen zijn niet bedoeld in 3B008.d tenzij deze speciaal zijn ontworpen  en uitgerust voor het contactloos testen van halfgeleiderelementen die onder spanning staan.3C  MATERIALEN 3C001 Hetero-epitaxiale materialen bestaande uit een "substraat" met verscheidene gestapelde  epitaxiaal gegroeide lagen van: a. silicium, b. germanium, of c. III/V gallium- of indiumverbindingen. Technische noot: III/V-verbindingen zijn polykristallijne, binaire of complexe monokristallijne  produkten bestaande uit elementen uit de groepen IIIA en VA van het periodieke systeem van  Mendeleyev (galliumarsenide, gallium-aluminiumarsenide, indiumfosfide, enz.). 3C002 "Resists" (gevoelige lagen) zoals hieronder vermeld, en "substraten" bekleed met bedoelde  "resists". a. positieve "resists" voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor  gebruik bij golflengten van minder dan 370 nm; b. alle "resists" voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01  microcoulomb/mm2 of beter; c. alle "resists" voor gebruik met roentgenstralen met een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2 of beter; d. alle "resists" die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak, met  inbegrip van gesilyleerde "resists". Technische noot: Silyleertechnieken zijn procédés waarbij het oppervlak van de "resists" wordt  geoxideerd ter verhoging van de prestaties bij zowel natte als droge ontwikkeling. 3C003 Organisch-anorganische verbindingen zoals: a. organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of indium met een zuiverheidsgraad (op  metaalbasis) hoger dan 99,999 %, b. organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een zuiverheidsgraad (op basis van de  anorganische elementen) hoger dan 99,999 %. Noot: In 3C003 worden alleen bedoeld verbindingen waarvan het metallische, deels metallische of  niet metallische element direct gekoppeld is aan koolstof in het organische deel van het molecuul. 3C004 Hydriden van fosfor, arsenicum of antimoon, met een zuiverheid hoger dan 99,999 %, zelfs bij  verdunning in neutrale gassen. Noot: In 3C004 zijn niet bedoeld hydriden die 20 mol % of meer edelgassen of waterstof bevatten. 3D PROGRAMMATUUR  3D001 "Programmatuur" ("software"), speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of "produktie" van  apparatuur bedoeld in 3A001.b t/m 3A002.h of in 3B. 3D002 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van "met opgeslagen programma  bestuurde" apparatuur bedoeld in 3B. 3D003 "Programmatuur" voor het computerondersteund ontwerpen (CAD) van halfgeleiderelementen of  geïntegreerde schakelingen met een of meer van de volgende kenmerken: a. regels voor het ontwerpen en testen van schakelingen, b. simulatie van het schakelingsschema, of c. lithografische processimulatoren ten behoeve van het ontwerpen. Technische noot: Een lithografische processimulator is een "programmatuur"-pakket dat in de  ontwerpfase wordt gebruikt voor het bepalen van de opeenvolgende lithografische, ets- en  bekledungstrappen voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in  geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen. Noot: In 3D003 wordt niet bedoeld programmatuur, speciaal ontworpen voor tape ten behoeve van  schematische invoer, logische simulatie, plaatsen en routebepaling, controleren van patronen of  genereren van patronen. NB: Bibliotheken, ontwerpmodellen of daarmee samenhangende gegevens voor het ontwerpen van  halfgeleiderelementen of geïntegreerde schakelingen worden beschouwd als "technologie". 3D101 "Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur als bedoeld in 3A101.b. 3E TECHNOLOGIE 3E001 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "produktie" van  apparatuur of materialen bedoeld in 3A, 3B of 3C. Noot: In 3E001 wordt niet bedoeld "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van: a. microgolftransistors die werken bij frequenties lager dan 31 GHz; b. geïntegreerde schakelingen bedoeld in 3A001.a.3 t/m 12, met beide volgende kenmerken: 1. er wordt gebruik gemaakt van technologie van een micrometer of meer, en 2. zij bevatten geen meerlagenstructuur. NB: In deze noot wordt niet uitgesloten de uitvoer van meerlagentechnologie voor elementen met  maximaal twee metaallagen en twee lagen van polysilicium. 3E002 Andere "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van: a. micro-elektronische vacuuemelementen; b. halfgeleiderelementen met een heterostructuur, zoals transistors met hoge elektronenmobiliteit  (HEMT), heterobipolaire transistors (HBT), elementen met een quantumval of superrooster; c. "supergeleidende" elektronische elementen; d. substraten van diamantfilm voor elektronische componenten. 3E101 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of  "programmatuur" bedoeld in 3A001.a.1 of 2, 3A101 of 3D101. 3E102 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van "programmatuur"  bedoeld in 3D101. 3E201 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur bedoeld  in 3A001.e.2, 3A001.e.3, 3A001.e.5, 3A201, 3A202, 3A225 t/m 3A233. CATEGORIE 4 COMPUTERS Noten: 1. Computers, aanverwante apparatuur of "programmatuur" die telecommunicatie- of "lokaal netwerk-"  functies verrichten, dienen tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5 (Deel 1 -  Telecommunicatie). NB: 1. Besturingseenheden die zorgen voor de directe onderlinge verbinding van de hoofdlijnen of  kanalen van de centrale verwerkingseenheden, het "werkgeheugen" en de schijvenbesturingseenheden  worden niet beschouwd als telecommunicatieapparatuur als omschreven in categorie 5 (Deel 1 -  Telecommunicatie).2. Zie categorie 5 (Deel 1 - Telecommunicatie) voor de embargostatus van "programmatuur" die zorgt  voor routebepaling of schakeling van "datagrammen" of "snel selecteren" van pakketten (d. w. z.  routebepaling per pakket) of van "programmatuur" die speciaal is ontworpen voor pakketschakelen. 2. Computers, aanverwante apparatuur of "programmatuur" die cryptografische of cryptoanalytische  functies verrichten of certificeerbare veiligheid op verscheidene niveaus of certificeerbare  gebruikersisolatie verschaffen, of die de elektromagnetische compatibiliteit (EMC) beperken, dienen  tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5 (Deel 2 - Informatiebeveiliging). 4A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 4A001 Elektronische computers en aanverwante apparatuur, zoals hieronder vermeld, en  "samenstellingen" en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: NB: Zie ook 4A101. a. speciaal ontworpen voor één van beide volgende kenmerken: 1. gespecificeerd voor werktemperaturen lager dan 228 K (-45 °C) of hoger dan 358 K (85 °C), of Noot: 4A001.a.1 is niet van toepassing op computers die speciaal zijn ontworpen voor toepassingen  in civiele automobielen of treinen. 2. de stralingsbestendigheid overschrijdt een of meer van de volgende specificaties: a. totale dosis5×105 Rad (Si), b. storing bij dosistempo5×108 Rad (Si)/sec, of c. storing eenmalige gebeurtenis1×10-7 fout/bit/dag; Noot: Voor apparatuur ontworpen of gespecificeerd voor kortstondige ioniserende straling zie de  Lijst van militaire goederen. b. met kenmerken of functies die de limieten van categorie 6 (Deel 2 - Informatiebeveiliging) te  boven gaan. 4A002 "Hybride computers" zoals hieronder vermeld, en "samenstellingen" en speciaal daarvoor  ontworpen onderdelen: NB: Zie ook 4A102. a. omvattende "digitale computers" bedoeld in 4A003; b. omvattende analoog/digitaalomzetters of digitaal/analoogomzetters met één of beide volgende  kenmerken: 1. 32 of meer kanalen, en 2. een scheidend vermogen van 14 bit (plus tekenbit) of meer met een conversiesnelheid van 200 000  omzettingen/s of meer. 4A003 "Digitale computers", "samenstellingen" en aanverwante apparatuur daarvoor, zoals hieronder  vermeld, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: Noten: 1. In 4A003 zijn mede bedoeld vectorprocessors, "array"-processors, digitale signaalprocessors,  "logic"-processors en apparatuur voor "beeldverbetering" of "signaalverwerking". 2. De embargostatus van de in 4A003 omschreven "digitale computers" of aanverwante apparatuur wordt  bepaald door de embargostatus van andere apparatuur of systemen mits: a. de "digitale computers" of aanverwante apparatuur essentieel zijn voor de werking van de andere  apparatuur of systemen; b. de "digitale computers" of de aanverwante apparatuur niet een "voornaamste deel" van de andere  apparatuur of systemen vormen, en NB: 1. De embargostatus van apparatuur voor "signaalverwerking" of "beeldverbetering" speciaal  ontworpen voor andere apparatuur, waarvan de functies beperkt zijn tot die welke noodzakelijk zijn  voor die andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur, ook  indien het criterium betreffende het "voornaamste deel" wordt overschreden. 2. Zie categorie 5 (Deel 1 - Telecommunicatie) voor de embargostatus van "digitale computers" of  aanverwante apparatuur voor telecommunicatie-uitrusting. c. de "technologie" voor de"digitale computers" en aanverwante apparatuur wordt behandeld volgens  4E. a. ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie"; Noot: "Digitale computers" en aanverwante apparatuur als bedoeld in 4A003.a zijn niet ontworpen of  aangepast voor "storingstolerantie" als zij gebruik maken van: 1. in het "werkgeheugen" opgeslagen algoritmen voor het opsporen of corrigeren van storingen; 2. de koppeling van twee "digitale computers", zodanig dat, als de actieve centrale  verwerkingseenheid uitvalt, een niet actieve maar identieke centrale verwerkingseenheid het  functioneren van het systeem kan voortzetten; 3. de koppeling van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van gegevenskanalen of door middel  van een gemeenschappelijk geheugen, zodanig dat één centrale verwerkingseenheid ander werk kan  verrichten totdat de tweede centrale verwerkingseenheid uitvalt, op welk moment de eerste centrale  verwerkingseenheid het werk overneemt teneinde het functioneren van het systeem voort te zetten, of 4. de synchronisatie van twee centrale verwerkingseenheden met behulp van "programmatuur", zodanig  dat de ene centrale verwerkingseenheid merkt wanneer de andere uitvalt en meteen taken van de  uitgevallen eenheid overneemt. b. "digitale computers" met een "totale theoretische prestatie" ("composite theoretical  performance" (CTP)) groter dan 260 miljoen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops); c. "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door  samenvoeging van "rekenelementen", zodat de "totale theoretische prestatie" van de samengevoegde  "rekenelementen" de limiet van 4A003b overschrijdt; Noten: 1. 4A003.c is uitsluitend van toepassing op "samenstellingen" en programmeerbare onderlinge  verbindingen die de limieten van 4A003.b niet te boven gaan, wanneer deze als niet geïntegreerde  "samenstellingen" worden geëxporteerd. 4A003.c is niet van toepassing op "samenstellingen" die van  zichzelf door de aard van hun ontwerp beperkt zijn tot gebruik als aanverwante apparatuur bedoeld  in 4A003.d, e of f. 2. Niet bedoeld zijn in 4A003.d "samenstellingen" speciaal ontworpen voor een produkt of groep van  produkten waarvan de maximale configuratie de limiet van 4A003.b niet te boven gaat. d. grafische versnellers of grafische co-processors met een "driedimensionale vectorsnelheid"  groter dan 1 600 000; e. apparatuur die analoog-naar-digitaal-omzettingen kan uitvoeren en de limieten van 3A001.a.5 te  boven gaat; f. apparatuur die "terminal interface-apparatuur" bevat welke de limieten van 5A001.b.3 te boven  gaat; Noot: Voor het doel van 4A003.f worden onder "terminal interface-apparatuur" mede begrepen  interfaces voor "lokale netwerken", modems en andere communicatie-interfaces. Interfaces voor  "lokale netwerken" worden beoordeeld als "netwerktoegangsbesturingseenheden". g. apparatuur speciaal ontworpen voor het extern onderling verbinden van "digitale computers" of  aanverwante apparatuur, welke communicatie met een gegevenssnelheid groter dan 80 Mbit/s mogelijk  maakt. Noot: In 4A003.g worden niet bedoeld interne onderlinge verbindingen (zoals "backplanes", "busses")  of passieve onderlinge verbindingen. 4A004 Computers, zoals hieronder vermeld, en speciaal daarvoor ontworpen aanverwante apparatuur,  "samenstellingen" en onderdelen: a. ""systolic array"-computers", b. "neurale computers", c. "optische computers"; 4A101 Analoge computers, "digitale computers" of digitale differentiaalanalysators, anders dan  bedoeld in 4A001.a.1, geschikt voor ruw gebruik en ontworpen of aangepast voor gebruik in systemen  bedoeld in 9A004 of 9A104. 4A102 "Hybride computers" speciaal ontworpen voor het modelleren, simuleren of integreren van het  ontwerp van systemen bedoeld in 9A004 of 9A104. Noot: Deze post is alleen van toepassing als de apparatuur wordt geleverd met programmatuur bedoeld  in 7D103 of 9D103. 4B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR Geen. 4C MATERIALEN Geen. 4D PROGRAMMATUUR Noot: De embargostatus van "programmatuur" voor de "ontwikkeling", "produktie", of het "gebruik"  van apparatuur omschreven in andere categorieën, wordt in de desbetreffende categorie behandeld. De  embargostatus van "programmatuur" voor apparatuur omschreven in de onderhavige categorie wordt hier  behandeld. 4D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", "produktie" of het  "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur" bedoeld in 4A001 t/m 4A004 of 4D. 4D002 "Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie" bedoeld  in 4E. 4D003 Specifieke "programmatuur", zoals: a. "programmatuur" voor bedrijfssystemen, ontwikkelingsinstrumenten voor "programmatuur" en  compileerprogramma's, speciaal ontworpen voor apparatuur voor "verwerking van meervoudige stromen  van gegevens", in "broncode"; b. "expertsystemen" of "programmatuur" voor zelfdenkende "expertsystemen" met zowel: 1. tijdafhankelijke regels, en 2. basisfuncties voor het verwerken van de tijdeigenschappen van de regels en de feiten; c. "programmatuur" die eigenschappen heeft of functies vervult die de limieten van categorie 5  (Deel 2 - Informatiebeveiliging) te boven gaan; d. besturingssystemen ("operating systems") speciaal ontworpen voor apparatuur voor "tijdgebonden  verwerking" waardoor een "globale onderbrekingswachttijd" van minder dan 20 microseconden verzekerd  is. 4E TECHNOLOGIE 4E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", "produktie"  of het "gebruik" van apparatuur, materialen of "programmatuur" bedoeld in 4A of 4D. 4E002 Andere technologie, zoals: a. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van apparatuur ontworpen voor "verwerking  van meervoudige stromen van gegevens" waar de "totale theoretische prestatie" (CTP) de 120 Mtops  overschrijdt; b. "technologie", "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van "disk drives" voor harde  magneetschijven met een "maximale bitsnelheid" groter dan 47 Mbit/s. 4. TECHNISCHE NOOT "TOTALE THEORETISCHE PRESTATIE" ("COMPOSITIE THEORETICAL PERFROMANCE" (CTP)) Afkortingen in deze noot CE "computing element" ("rekenelement" - doorgaans een rekenkundige logische eenheid); FP "Floating point" (drijvende komma); XP "fixed point" (vaste komma); t uitvoeringstijd; XOR "exclusive OR" (exclusieve OF); CPU "central processing unit" (centrale verwerkingseenheid); TP "theoretical performance " (theoretische prestatie van één enkel CE); CTP "composite theoretical performance" ("totale theoretische prestatie" van verscheidene CE's); Mtops miljoenen theoretische bewerkingen per seconde; R "effective calculating rate" (effectieve rekensnelheid); WL woordlengte; L compensatiefactor voor de woordlengte; * vermenigvuldiging. De uitvoeringstijd "t" wordt uitgedrukt in microseconden, TP en "CTP" worden uitgedrukt in  miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops) en WL wordt uitgedrukt in bits. De berekening van CTP CTP is een maat voor de rekenprestaties uitgedrukt in Mtops. Om de CTP van een combinatie van CE's  te berekenen, worden de volgende drie stappen gevolgd: 1. Bereken de effectieve rekensnelheid R voor elk CE. 2. Bepaal de theoretische prestatie (TP) voor elk CE door de compensatiefactor voor de woordlengte  (L) in de effectieve rekensnelheid te verrekenen. 3. Combineer in het geval van meer dan één CE de TP's tot een CTP voor de combinatie. Hieronder worden deze stappen nader uiteengezet. Noot 1: Voor combinaties van een aantal CE's met zowel gemeenschappelijke als niet  gemeenschappelijke geheugensubsystemen vindt de berekening van CTP hiërarchisch plaats in twee  stappen: eerst wordt de groep van CE's met gemeenschappelijk geheugen samengevoegd, vervolgens  wordt de CTP van de groepen berekend volgens de methode voor verscheidene CE's die geen  gemeenschappelijk geheugen hebben. Noot 2: CE's die zijn beperkt tot "input/output" en randapparatuurfuncties (bij voorbeeld "disk  drive", communicatie en "video display controllers") worden bij de berekening van CTP niet in  aanmerking genomen. In de onderstaande tabel wordt aangegeven hoe de effectieve rekensnelheid (R) voor elk rekenelement  CE wordt berekend: Stap 1: De effectieve rekensnelheid R >RUIMTE VOOR DE TABEL>Noot W: Voor een pijplijn CE die per klokcyclus, nadat de pijplijn vol is,  maximaal één rekenkundige of logische bewerking kan uitvoeren, kan een pijplijnsnelheid worden  bepaald. In dat geval wordt van de pijplijnsnelheid en de verwerkingssnelheid zonder pijplijn de  hoogste waarde als effectieve rekensnelheid genomen. Noot X: Voor CE's die verscheidene bewerkingen van een bepaald type in één cyclus verrichten (bij  voorbeeld twee optellingen of twee identieke logische bewerkingen per cyclus), wordt de  uitvoeringstijd "t" gegeven door:  >NUM>t = cyclustijd  >DEN>aantal identieke rekenkundige bewerkingen per machinecyclus  CE's die verschillende types rekenkundige of logische bewerkingen in één machinecyclus verrichten,  worden behandeld als verschillende afzonderlijke CE's die gelijktijdig werken (bij voorbeeld een CE  dat een optelling en een vermenigvuldiging in één cyclus verricht, wordt behandeld als twee CE's  die respectievelijk één optelling in één cyclus en één vermenigvuldiging in één cyclus  verrichten). Als een afzonderlijk CE zowel een scalaire als een vectorfunctie heeft, wordt de kortste  uitvoeringstijd genomen. Noot Y: Als in het CE geen "FP add" of "FP multiply" zijn geïmplementeerd maar het CE "FP divide"  (delen) verricht:  >NUM>Rfp = 1  >DEN>(tfp divide)  .  Als in het CE "FP reciprocal" is geïmplementeerd, maar niet "FP add", "FP multiply" of "FP divide",  dan:  >NUM>Rfp = 1  >DEN>(tfp reciprocal)  .  Als geen van de genoemde instructies is geïmplementeerd, is de effectieve FP-snelheid 0. Noot Z: In eenvoudige logische bewerkingen wordt door één instructie één enkele logische  manipulatie met ten hoogste twee operanden met gegeven lengte verricht. In complexe logische  bewerkingen wordt door één instructie een aantal logische manipulaties verricht om met twee of meer  operanden een of meer resultaten te verkrijgen. Voor alle ondersteunde operandlengtes dienen de snelheden te worden berekend voor zowel pijplijn-  (indien ondersteund) als niet-pijplijnbewerkingen, waarbij wordt uitgegaan van de snelste  uitvoeringsopdracht voor elke operandlengte gebaseerd op: 1. pijplijn - of register-naar-register-bewerkingen. Houd geen rekening met extreem korte  uitvoeringstijden voor bewerkingen met een of meer specifieke operanden (bij voorbeeld  vermenigvuldiging met 0 of 1). Als geen register-naar-register-bewerkingen zijn geïmplementeerd, ga  dan naar 2. 2. De snelste van de volgende twee bewerkingen: register naar geheugen of geheugen naar register;  als deze eveneens ontbreken, ga dan naar 3. 3. Geheugen naar geheugen. Gebruik in elk van de bovengenoemde gevallen de kortste door de fabrikant opgegeven  uitvoeringstijd. Stap 2: TP voor elke ondersteunde operandlengte WL Pas de compensatiefactor L voor de woordlengte toe op de effectieve snelheid R (of R′) als  volgt: TP = R * L waarin L = (1/3 + WL/96). Noot: In deze berekeningen is de woordlengte WL de operandlengte in bits. (Als in een bewerking  operanden van verschillende lengte worden gebruikt, neem dan de grootste woordlengte.) De combinatie van een mantisse ALU en een exponent ALU van een "floating point processor" of  eenheid wordt voor de berekening van CTP beschouwd als één CE met een woordlengte (WL) gelijk aan  het aantal bits in de datarepresentatie (typisch 32 of 64). Deze compensatie wordt niet toegepast op gespecialiseerde logische processoren die geen  XOR-opdrachten gebruiken. In dat geval is TP = R. Neem de hoogste verkregen waarde van TP voor: - elk CE met alleen XP (Rxp); - elk CE met alleen FP (Rfp); - elk CE met zowel FP als XP (R); - elke eenvoudige logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige bewerkingen  geïmplementeerd is, en - elke speciale logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige of logische bewerkingen  geïmplementeerd is. Stap 3: CTP voor combinaties van CE's met inbegrip van CPU's  Voor een CPU met één enkel CE: CTP = TP. (Voor CE's met zowel vaste als drijvende komma, TP = max (TPfp, TPxp).) Voor combinaties van een aantal gelijktijdig werkende CE's wordt CTP als volgt berekend: Noot 1: Voor combinaties waarin niet alle CE's simultaan kunnen werken, wordt de mogelijke  combinatie van CE's gebruikt die de grootste CTP oplevert. Voor elk bijdragend CE wordt de  theoretische maximale waarde van TP berekend voordat de CTP van de combinatie wordt berekend. NB: Om de mogelijke combinaties van gelijktijdig werkende CE's te bepalen, wordt een  instructiesequentie gegenereerd die bewerkingen in verscheidene CE's initieert, beginnend met het  traagste CE (d.w.z. dat voor het voltooien van een bewerking het grootste aantal cyclussen nodig  is) en eindigend met het snelste CE. In elke cyclus van de sequentie is de combinatie van CE's die  tijdens die cyclus in bedrijf zijn, een mogelijke combinatie. In de instructiesequentie moet  rekening worden gehouden met alle hardware- en/of architectuurbeperkingen voor overlappende  bewerkingen. Noot 2: Eén enkele IC of kaart kan verscheidene CE's bevatten. Noot 3: Aangenomen wordt dat er simultane bewerkingen zijn als de computerfabrikant in een  handleiding of brochure van de computer concurrente, parallele of simultante bewerking of  verwerking vermeldt. Noot 4: CTP-waarden worden niet samengevoegd voor combinaties van CE's die zijn verbonden via  lokale netwerken, "wide area networks", gemeenschappelijke aansluitingen/apparatuur voor  "input/output", "input/output controllers" en eventuele via programmatuur geïmplementeerde  communicatieverbindingen. Noot 5: CTP-waarden worden samengevoegd voor verscheidene CE's die speciaal zijn ontworpen om  hogere prestaties te leveren doordat zij worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen  delen, of combinaties van verscheidene geheugens/CE's die gelijktijdig werken met behulp van  speciaal daarvoor ontworpen apparatuur. Waarden voor samenstellingen bedoeld in 4A003d worden niet  samengvoegd. CTP = TP1 + C2 + . . . + Cn * TPn, waarin de TP's zo naar waarde zijn gerangschikt dat TP1 de hoogste waarde heeft, TP2 de op één na  hoogste, . . . en TPn de laagste waarde. Ci is een coëfficiënt die als volgt wordt bepaald door de  aard van de interconnectie: Voor verscheidene CE's die gelijktijdig werken en een gemmenschappelijk geheugen hebben: C2 = C3 = C4 = . . . = Cn = 0,75. Noot 1: Als CTP berekend volgens bovenstaande methode niet groter is dan 194 Mtops, kan de volgende  formule worden gebruikt voor de berekening van Ci:  >NUM>Ci = 0,75  >DEN>(m)1/2  (i = 2, . . ., n)  waarin m = aantal CE's of groepen van CE's met gemeenschappelijke toegang, op voorwaarde dat: 1. de TPi van elk CE of groep van CE's niet groter is dan 30 Mtops; 2. de CE's of groepen van CE's gemeenschappelijk toegang hebben tot een werkgeheugen (uitgezonderd  cachegeheugen) via één enkel kanaal, en 3. slechts één CE of groep van CE's op een gegeven tijdstip gebruik van het kanaal kan maken. NB: Dit geldt niet voor goederen bedoeld in categorie 3. Noot 2: CE's hebben een gemeenschappelijk geheugen als zij een gemeenschappelijk segment van een  halfgeleidergeheugen benaderen. Dit geheugen kan een cachegeheugen, werkgeheugen of ander intern  geheugen zijn. Externe geheugens zoals "disk drives", "tape drives" of RAM-disks vallen hier niet  onder. Voor verscheidene CE's of groepen CE's zonder gemeenschappelijk geheugen die via een of meer  datakanalen met elkaar in verbinding staan: Ci = 0,75 * ki (i = 2, . . . , 32) (zie onderstaande noot) = 0,60 * ki (i = 33, . . . , 64) = 0,45 * ki (i = 65, . . . , 256) = 0,30 * ki (I > 256) (De waarde van Ci is gebaseerd op het aantal CE's, niet op het aantal knooppunten.) waarin ki = min (Si/Kr, 1), en Kr = normalisatiefactor van 20 Mbit/s Si = som van de maximale gegevenssnelheden (in Mbit/s) voor alle gegevenskanalen die zijn  aangesloten op het ide CE of de ide groep CE's met gemeenschappelijk geheugen. Bij de berekening van een Ci voor een groep CE's is het nummer van het eerste CE in een groep  bepalend voor de waarde die Ci krijgt. Zo zal in een combinatie van groepen van drie CE's elke 22e  groep bestaan uit C64, C65 en C66. De waarde van Ci voor deze groep is 0,60. Het combineren (van CE's of groepen CE's) dient te geschieden van de snelste naar de langzaamste,  d.w.z.: TP1 ≥ TP2 ≥ . . . ≥ TPn en indien TPi = TPi+1 van de grootste naar de kleinste, d.w.z.: Ci ≥ Ci+1 Noot: De ki-factor wordt niet toegepast op de CE's 2 tot en met 12 als de TPi van het CE of de  groep CE's meer bedraagt dan 50 Mtops, d.w.z. Ci voor de CE's 2 tot en met 12 is 0,75. CATEGORIE 5 TELECOMMUNICATIE EN "INFORMATIEBEVEILIGING" DEEL 1 TELECOMMUNICATIE NOTEN: 1. In deze categorie wordt de embargostatus omschreven van onderdelen, "lasers", test- en  produktieapparatuur, materialen en "programmatuur" daarvoor, die speciaal zijn ontworpen voor  telecommunicatieapparatuur of -systemen. 2. Wanneer "digitale computers", aanverwante apparatuur of "programmatuur" essentieel zijn voor de  werking en ondersteuning van in deze categorie omschreven telecommunicatieapparatuur, worden deze  beschouwd als speciaal ontworpen onderdelen, mits het de standaarduitvoering betreft die gewoonlijk  wordt geleverd door de fabrikant. Hieronder zijn mede begrepen computersystemen voor bediening,  beheer, onderhoud, technische wijzigingen en facturering. 5A1 APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 5A001 a. Alle soorten telecommunicatieapparatuur met een of meer van de volgende kenmerken,  functies of eigenschappen: 1. speciaal ontworpen om bestand te zijn tegen kortstondige elektronische gevolgen of  elektromagnetische impulsie ten gevolge van een kernexplosie; 2. speciaal versterkt om bestand te zijn tegen gamma-, neutronen- of ionenstraling; 3. speciaal ontworpen voor werktemperaturen buiten het gebied van 218K ( 55 °C) tot 397 K (124  °C). Noten: 1. 5A001.a.3 is uitsluitend van toepassing op elektronische apparatuur. 2. 5A001.a.2 en 3 zijn niet van toepassing op apparatuur aan boord van satellieten. b. Telecommunicatie-transmissieapparatuur of -systemen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen  en toebehoren, met een of meer van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen: Noot: Met telecommunicatie-transmissieapparatuur wordt bedoeld: a. alle categorieën zoals hieronder vermeld of combinaties daarvan: 1. radioapparatuur (b. v. zenders, ontvangers en zender-ontvangers);2. eindstations; 3. tussenversterkers; 4. lijnversterkers; 5. regeneratoren; 6. omzet- en codeerapparatuur ("transcoders"); 7. multiplexapparatuur (met inbegrip van statistische multiplex); 8. modulatoren/demodulatoren (modems); 9. transmultiplexapparatuur (zie aanbeveling G 701 van CCITT); 10. "met opgeslagen programma bestuurde" digitale kruisverbindingsapparatuur; 11. "poorten" en bruggen; 12. "mediatoegangseenheden", en b. apparatuur ontworpen voor gebruik voor communicatie over een of meer kanalen via: 1. draad (lijn); 2. coaxiaalkabel; 3. glasvezels; 4. elektromagnetische golven; 5. akoestische golven onder water. 1. gebruik makend van digitale technieken, met inbegrip van de digitale verwerking van analoge  signalen, en ontworpen voor het werken bij een "digitale overbrengsnelheid" welke op het hoogste  niveau van multiplexen hoger is dan 45 Mbit/s of een "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan  90 Mbit/s; Noot: Niet bedoeld wordt in 5A001.b.1 apparatuur speciaal ontworpen voor integratie en werking in  een satellietsysteem voor civiel gebruik. 2. "met opgeslagen programma bestuurde" digitale kruisverbindingsapparatuur met een "digitale  overbrengsnelheid" hoger dan 8,5 Mbit/s per poort; 3. apparatuur die omvat: a. modems die gebruik maken van de "bandbreedte van een spraakkanaal" met een "gegevensdebiet"  groter dan 28 800 bit/s; b. "communicatiekanaalbesturingseenheden" met een digitale uitvoer met een "gegevensdebiet" groter  dan 2,1 Mbit/s per kanaal, of c. "netwerktoegangsbesturingseenheden" en aanverwant gemeenschappelijk medium met een "digitale  overbrengsnelheid" groter dan 156 Mbit/s; NOOT: Indien niet onder embargo vallende apparatuur een "netwerktoegangsbesturingseenheid" bevat,  mag deze uitsluitend telecommunicatie-interfaces bevatten van de typen omschreven, doch niet onder  embargo gesteld, in 5A001.b.3. 4. gebruik makend van een "laser" en met een of meer van de volgende kenmerken: a. een transmissiegolflengte groter dan 1 000 nm; b. gebruik makend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 45 MHz; c. gebruik makend van coherente optische transmissietechnieken of coherente optische  detectietechnieken (ook wel optische heterodyne of homodyne technieken genoemd); d. gebruik makend van golflengteverdeling-multiplexing ("wave length division  multiplexing")-technieken, of e. met de functie "optische versterking"; 5. radioapparatuur met een in- of uitvoerwerkfrequentie hoger dan: a. 31 GHz voor toepassing in satellietgrondstations; b. 26,5 GHz voor andere toepassingen; Noot: Niet bedoeld wordt in 5A001.b.5.b apparatuur voor civiel gebruik in overeenstemming met een  door de ITU (International Telecommunications Union) toegewezen band tussen 26,5 en 31 GHz. 6. radioapparatuur: a. die gebruik maakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 4 en met een  "totale digitale overbrengsnelheid" hoger dan 8,5 Mbit/s, of b. die gebruik maakt van kwadratuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau 16 en met een  "totale digitale overbrengsnelheid" gelijk aan of lager dan 8,5 Mbit/s, of c. die gebruik maakt van andere digitale modulatietechnieken en met een "spectrumrendement" van  meer dan 3 bit/sec/Hz; Noten: 1. Niet bedoeld wordt in 5A001.b.6 apparatuur speciaal ontworpen voor integratie en werking in een  satellietsysteem voor civiel gebruik. 2. Niet bedoeld wordt in 5A001.b.6 radioapparatuur voor werking in een door de ITU (International  Telecommunications Union) toegewezen band: a. 1. niet hoger dan 960 MHz, of 2. met een "totale digitale overbrengsnelheid" niet hoger dan 8,5 Mbit/s, en b. met een "spectrumrendement" niet hoger dan 4 bit/sec/Hz. 7. radiotransmissieapparatuur met werkfrequentie in de 1,5 - 87,5 MHz band en met één van beide  volgende kenmerken: a. 1. automatisch aangeven en kiezen van frequenties en het bereiken van optimale transmissie, en a. 2. met een lineaire vermogensversterkerconfiguratie die verscheidene signalen tegelijk kan  onderhouden bij een uitgangsvermogen van 1 kW of meer in het frequentiegebied van 2,5 tot 30 MHz of  van 250 W of meer in het frequentiegebied van 30 tot 87,5 MHz, over een "momentele bandbreedte" van  één octaaf of meer en met een harmonisch/vervormingsuitgangsniveau beter dan  80 dB, of b. met adaptieve technieken die meer dan 15 dB onderdrukking van storende signalen verschaffen; 8. radioapparatuur die gebruik maakt van "spread spectrum"- of "frequency agility" ("frequency  hopping")-technieken met één van beide volgende kenmerken: a. voor de gebruiker programmeerbare "spreading"-codes, of b. een totaal uitgezonden bandbreedte die 100-maal of meer zo groot is als de bandbreedte van enig  informatiekanaal en groter dan 50 kHz; 9. digitaal bestuurde radio-ontvangers met meer dan 1 000 kanalen, die: a. automatisch een deel van het elektromagnetische spectrum afzoeken of aftasten; b. de ontvangen signaalfrequentie of het zendertype identificeren, en c. een "frequentiewisseltijd" hebben korter dan 1 ms; 10. met digitale "signaalverwerkings"-functies, zoals: a. spraakcodering met een snelheid van minder dan 2 400 bit/s: b. gebruik makend van schakelsystemen met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker"  voor digitale "signaalverwerkings"-schakelingen die de limieten van 4A003.g te boven gaan; 11. systemen voor communicatie onder water met een of meer van de volgende kenmerken: a. een akoestische draagfrequentie buiten het gebied tussen de 20 en 60 kHz; b. gebruik makend van een elektromagnetische draagfrequentie lager dan 30 kHz, of c. gebruik makend van elektronenbundelbesturingstechnieken; c. "met opgeslagen programma bestuurde" schakelapparatuur en aanverwante signaleringssystemen, met  een of meer van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen, en speciaal daarvoor ontworpen  onderdelen en toebehoren: Noot: Statistische multiplexers met digitale invoer en digitale uitvoer die schakelfuncties  uitvoeren, worden behandeld als "met opgeslagen programma bestuurde" schakelapparatuur. 1. "eenkanaalsignalering" ("common channel signalling"); Noot: Signaleringssystemen waarbij het signaalkanaal wordt overgebracht via en betrekking heeft op  niet meer dan 32 multiplexkanalen die een verbindingslijn vormen van niet meer dan 2,1 Mbit/s, en  waarbij de signaalinformatie wordt overgebracht via een vast multiplexkanaal met tijdverdeling  zonder toepassing van berichten met label, worden niet beschouwd als  "eenkanaalsignalerings"-systemen. 2. met "Integrated Services Digital Network" (ISDN)-functies en met één of beide van de volgende  kenmerken: a. interfaces tussen centrale en eindapparatuur (b. v. naar de abonnee) met een "digitale  overbrengsnelheid" op het hoogste niveau van multiplexen groter dan 192 000 bit/s, met inbegrip van  het bijbehorende signaleringskanaal (b. v. 2B+D); b. de mogelijkheid dat een door een centrale op een bepaald kanaal ontvangen signaleringsbericht  dat betrekking heeft op een communicatie op een ander kanaal kan worden doorgeleid naar een andere  centrale; Noot: Niet uitgesloten worden in 5A001.c.2: 1. de beoordeling en het ondernemen van gepaste actie door de ontvangende centrale; 2. niet-verwant gebruikersberichtenverkeer op een D-kanaal van "ISDN". 3. verbindingen tot stand brengen met prioriteit en preëmptie op verscheidene lagen; Noot: Niet bedoeld is in 5A001.c.3 het preëmptief op één niveau tot stand brengen van  verbindingen. 4. "dynamische adaptieve routebepaling"; 5. routebepaling of schakelen van "datagram"-pakketten; 6. routebepaling of schakelen van "snelle selectie"-pakketten; Noot: De beperkingen van 5A001.c.5 en 6 zijn niet van toepassing op netwerken die uitsluitend  gebruik maken van "netwerktoegangsbesturingseenheden" of op "netwerktoegangsbesturingseenheden"  zelf. 7. ontworpen voor de automatische overdracht van oproepen in radionetten met celopbouw naar een  andere schakelcentrale in het cellulaire net of voor de automatische verbinding met een  gecentraliseerde, voor meer dan één centrale dienende abonneegegevensbank; 8. pakketschakelcentrales, lijnschakelcentrales en routeschakelaars met poorten en lijnen die één  van beide volgende limieten te boven gaan: a. een "gegevensdebiet" van 64 000 bit/s per kanaal voor een "communicatiekanaalbesturingseenheid",  of Noot: 5A001.c.8.a sluit niet uit het multiplexen over een samengestelde verbinding van  communicatiekanalen die niet zijn bedoeld in 5A001.c.8.a. b. een "digitale overbrengsnelheid " van 33 Mbit/s voor een "netwerktoegangsbesturingseenheid" en  aanverwant gemeenschappelijk medium; 9. "optisch schakelen"; 10. gebruik makend van "Asynchrone Transfer Modus" (ATM)-technieken; 11. apparatuur die "met opgeslagen programma bestuurde" digitale kruisverbindingsapparatuur bevat  met een "digitale overbrengsnelheid" groter dan 8,5 Mbit/s per poort; d. gecentraliseerde besturing van het netwerk met beide volgende kenmerken: 1. ontvangt gegevens van de knooppunten, en 2. verwerkt deze gegevens ten behoeve van besturing van het verkeer zonder dat de telefonist  beslissingen hoeft te nemen, zodat het systeem "dynamische adaptieve routebepaling" uitvoert; Noot: 5A001.d sluit niet uit besturing van het verkeer als een functie van voorspelbare  statistische verkeersomstandigheden. e. glasvezel-communicatiekabel, glasvezels en toebehoren, zoals: 1. glasvezels of kabel met een lengte van meer dan 50 m met één van beide volgende kenmerken: a. ontworpen voor monomoduswerking, of b. voor glasvezels: weerstaat volgens de specificaties van de fabrikant een tijdens de "normtest"  uitgeoefende trekspanning van 2 × 109 N/m² of meer; Technische noot: "Normtest" houdt in het steekproefsgewijs testen tijdens of buiten de produktie  waarbij dynamisch een voorgeschreven trekspanning wordt uitgeoefend op vezel met een lengte tussen  de 0,5 en 3 m, terwijl deze met een snelheid van 2 à 5 m/s tussen rollen met een diameter van  ongeveer 15 cm doorloopt. De omgevingstemperatuur is hierbij nominaal 293 K (20 °C) en de relatieve  vochtigheidsgraad 40 %. N.B.: Voor het uitvoeren van de "normtest" mogen gelijkwaardige nationale normen worden  gehanteerd. 2. glasvezelkabels en toebehoren ontworpen voor gebruik onder water (zie 8A002.c voor doorvoeren en  doorvoerconnectoren voor rompen); f. fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes ("phased array  antennae") met een werkfrequentie hoger dan 10,5 GHz en met actieve elementen en verspreide  onderdelen, en zodanig ontworpen dat elektronische besturing van de vorm en richting van de bundel  mogelijk is. Noot: In 5A001.f worden niet bedoeld landingssystemen met instrumenten die voldoen aan de  ICAO-normen (International Civil Aviation Organisation) (microgolf-landingssystemen (MLS)). 5A101 Apparatuur voor telemetrie en afstandsbesturing, geschikt voor "raketten". Noot: In 5A101 wordt niet bedoeld apparatuur speciaal ontworpen voor het op afstand besturen van  modelvliegtuigen, -boten of -auto's en met een elektrische veldsterkte van niet meer dan 200  microvolt per meter op een afstand van 500 m. 5B1 TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 5B001 a. Apparatuur speciaal ontworpen voor: 1. de "ontwikkeling" van apparatuur, materialen, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001, 5B001,  5C001, 5D001 of 5E001, met inbegrip van meet- of testapparatuur; 2. de "produktie" van apparatuur, materialen, functies of eigenschappen bedoeld in 5A001, 5B001,  5C001, 5D001 of 5E001, met inbegrip van meet-, test- of reparatieapparatuur; 3. het "gebruik" van apparatuur, materialen, functies of eigenschappen die een of meer van de minst  strenge embargocriteria van 5A001, 5B001, 5C001, 5D001 of 5E001 te boven gaan, met inbegrip van  meet-, reparatie- of testapparatuur. Noot: In 5B001.a zijn niet bedoeld apparatuur voor het karakteriseren van glasvezels en  "halffabrikaten ("preforms") voor glasvezels" waarin geen gebruik wordt gemaakt van  halfgeleider-"lasers". b. Overige apparatuur, zoals: 1. apparatuur voor het testen van de bitfouten ("Bit Error Rate" (BER)), ontworpen of aangepast  voor het testen van de apparatuur bedoeld in 5A001.b.1; 2. apparatuur die gegevenscommunicatieprotocollen analyseert, test en simuleert en die speciaal  ontworpen is voor functies bedoeld in 5A001; 3. op zichzelf staande "met opgeslagen programma bestuurde"  radiotransmissie-simulatoren/kanaalschatters speciaal ontworpen voor het testen van apparatuur  bedoeld in 5A001.b.5. 5C1 MATERIALEN 5C001 Halffabrikaten ("preforms") van glas of enig ander materiaal dat optimaal geschikt is gemaakt  voor de fabricage van glasvezels bedoeld in 5A001.e. 5D1 PROGRAMMATUUR 5D001 a. "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", "produktie" of het  "gebruik" van apparatuur of materialen bedoeld in 5A001, 5B001 of 5C001; b. "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van "technologie" bedoeld in  5E001; c. specifieke "programmatuur", zoals: 1. "generieke programmatuur", anders dan in machinegerichte vorm, speciaal ontworpen of aangepast  voor het "gebruik" van "met opgeslagen programma bestuurde" digitale schakelcentrale-apparatuur of  -systemen; 2. "programmatuur", anders dan in machinegerichte vorm, speciaal ontworpen of aangepast voor het  "gebruik" van digitale cellulaire radioapparatuur of -systemen; 3. "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het verschaffen van kenmerken, functies of  eigenschappen van apparatuur bedoeld in 5A001 of 5B001; 4. "programmatuur" die de mogelijkheid biedt om de "broncode" te achterhalen van in de onderhavige  categorie bedoelde telecommunicatie-"programmatuur"; 5. "programmatuur" speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of "produktie" van "programmatuur"  bedoeld in 5D001. (Zie ook 4D en 6D voor "programmatuur" voor "signaalverwerking".) 5E1 TECHNOLOGIE 5E001 a. "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling",  "produktie" of het "gebruik" (de bediening niet inbegrepen) van apparatuur, systemen, materialen of  "programmatuur" bedoeld in 5A001, 5B001, 5C001 of 5D001. b. specifieke "technologie", zoals: 1. "noodzakelijke" "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van  telecommunicatieapparatuur speciaal ontworpen voor gebruik aan boord van satellieten; 2. "technologie" voor de "ontwikkeling" of het "gebruik" van "laser"-communicatietechnieken die  geschikt zijn voor het automatisch verzamelen en volgen van signalen en die communicatie  onderhouden via de exosfeer, onder de grond of onder water; 3. "technologie" voor het bewerken en aanbrengen van bekleding op glasvezels, speciaal ontworpen om  deze geschikt te maken voor gebruik onder water; 4. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van apparatuur die gebruik maakt van  "synchrone digitale hiërarchie" (SDH)- of "synchrone optische netwerk" (Sonet)-technieken; 5. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van "schakelsystemen" die 64 000 bits per  seconde per informatiekanaal te boven gaan, anders dan voor in het schakelsysteem geïntegreerde  digitale kruisverbindingen; 6. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van gecentraliseerde netwerkbesturing; 7. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van digitale cellulaire radiosystemen  ("cellular radiosystems"); 8. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van een "Integrated Services Digital  Network" (ISDN); 9. "technologie" voor de "ontwikkeling" van QAM-technieken voor radioapparatuur boven niveau 4. 5E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", "produktie"  of het "gebruik" van apparatuur bedoeld in 5A101. Deel 2 "INFORMATIEBEVEILIGING" Noot: In de onderhavige categorie wordt de embargostatus omschreven van apparatuur,  "programmatuur", systemen, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen,  geïntegreerde schakelingen, onderdelen of functies ten behoeve van "informatiebeveiliging", ook  indien het onderdelen of "samenstellingen" van andere apparatuur betreft. 5A2 APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 5A002 Systemen, apparatuur, voor specifieke toepassingen bestemde "samenstellingen", modulen of  geïntegreerde schakelingen ten behoeve van "informatiebeveiliging", zoals hieronder vermeld, en  andere speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: a. ontworpen of aangepast voor het hanteren van "cryptografie" met gebruikmaking van digitale  technieken ter verzekering van "informatiebeveiliging"; b. ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanalytische functies; c. ontworpen of aangepast voor het hanteren van "cryptografie" met gebruikmaking van analoge  technieken ter verzekering van "informatiebeveiliging", met uitzondering van: 1. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "vaste" bandvervorming ("scrambling") met maximaal  acht banden, waarbij de wijziging van de transpositie zich niet meer dan eenmaal per seconde  herhaalt; 2. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "vaste" bandvervorming ("scrambling") met meer dan  acht banden, waarbij de wijziging van de transpositie zich niet meer dan eenmaal per tien seconden  herhaalt; 3. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "vaste" frequentieomkering, waarbij de wijziging van  de transpositie zich niet meer dan eenmaal per seconde herhaalt; 4. facsimileapparatuur; 5. radio- en televisieapparatuur voor een beperkt aantal luisteraars/kijkers; 6. civiele televisieapparatuur; d. ontworpen of aangepast voor het onderdrukken van de confidentiële uitstraling van  informatiedragende signalen; Noot: Niet bedoeld wordt in 5A002.d apparatuur die speciaal is ontworpen voor het onderdrukken van  uitstraling uit gezondheids- of veiligheidsoverwegingen. e. ontworpen of aangepast voor het hanteren van cryptografische technieken voor het genereren van  de spreidcode voor "spread spectrum"-technieken of de "hopping"-code voor "frequency  agility"-systemen; f. ontworpen of aangepast voor het verschaffen van gecertificeerde of certificeerbare "veiligheid  op verscheidene niveaus" of gebruikersisolatie op een niveau dat klasse B2 van de "Trusted Computer  System Evaluation Criteria" (TCSEC) of een equivalent daarvan te boven gaat; g. communicatiekabelsystemen die met mechanische, elektrische of elektronische middelen zijn  ontworpen of aangepast voor het opsporen van clandestiene binnendringing. Noot: In 5A002 wordt niet bedoeld: a. "persoonsgebonden "smart cards" ("slimme kaarten") met toepassing van "cryptografie", waarvan  het gebruik beperkt is tot apparatuur of systemen zoals: 1. van embargo uitgesloten krachtens 5A002.C.1 tot en met 6; 2. van embargo uitgesloten krachtens b, c of e van deze noot; 3. a. apparatuur voor toegangscontrole, zoals geautomatiseerde loketten, zelfbedieningsprinters  voor bankafschriften of kassaterminals, waarmee wachtwoorden of persoonlijke identificatienummers  (PIN) of soortgelijke gegevens worden beschermd om ongeoorloofde toegang tot faciliteiten te  voorkomen, maar die geen mogelijkheden biedt om bestanden of tekstgegevens te coderen, met  uitzondering van die welke rechtstreeks betrekking hebben op de bescherming van wachtwoorden of  PIN-codes; b. apparatuur voor gegevensauthenticatie, die een "message authentication code" (MAC) of  soortgelijk resultaat berekent om te garanderen dat er geen wijzigingen in een tekst zijn  aangebracht of om gebruikers te authenticeren, maar die geen mogelijkheden biedt voor het coderen  van gegevens, tekst of andere media, met uitzondering van die welke nodig is voor de  authenticatie; c. crytografieapparatuur die speciaal is ontworpen, ontwikkeld of aangepast voor gebruik in  machines voor bank- of geldtransacties, zoals geautomatiseerde loketten, zelfbedieningsprinters  voor bankafschriften, kassaterminals of apparatuur voor het coderen van transacties tussen banken  en die uitsluitend bestemd is voor gebruik in dergelijke toepassingen; d. draagbare (persoonlijke) of mobiele radiotelefoons voor civiel gebruik, voorbeeld voor  toepassing in cellulaire commerciële civiele radiocommunicatiesystemen, met codering; b. apparatuur die "vaste" gegevenscomprimering of coderingstechnieken bevat; c. ontvangstapparatuur voor radiouitzendingen, betaaltelevisie of gelijksoortige televisie voor een  beperkt aantal kijkers, bedoeld voor de consument, zonder digitale omzetting in geheime codering en  waarbij de digitale ontcijfering beperkt is tot de video-, audio- of beheersfuncties; d. draagbare (persoonlijke) of mobiele radiotelefoons voor civiel gebruik, bij voorbeeld voor  toepassing in cellulaire commerciële civiele radiocommunicatiesystemen, met codering, wanneer deze  door de gebruikers worden meegevoerd; e. ontcijferingsfuncties speciaal ontworpen om het functioneren mogelijk te maken van tegen  kopiëren beveiligde "programmatuur", mits de ontcijferfuncties niet toegankelijk zijn voor de  gebruiker. 5B2 TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 5B002 a. Apparatuur speciaal ontworpen voor: 1. de "ontwikkeling" van apparatuur of functies bedoeld in 5A002, 5B002, 5D002 of 5E002, met  inbegrip van meet- of testapparatuur; 2. de "produktie" van apparatuur of functies bedoeld in 5A002, 5B002, 5D002 of 5E002, met inbegrip  van meet-, test-, reparatie- of produktieapparatuur; b. meetapparatuur speciaal ontworpen voor het evalueren en valideren van de  "informatiebeveiligings"-functies bedoeld in 5A002 of 5D002. 5C2 MATERIALEN Geen 5D2 PROGRAMMATUUR 5D002 a. "Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", "produktie" of het  "gebruik" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in 5A002, 5B002 of 5D002; b. "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het ondersteunen van technologie bedoeld in  5E002; c. specifieke "programmatuur", zoals: 1. "programmatuur" die de kenmerken heeft of de functies uitoefent of simuleert van de apparatuur  bedoeld in 5A002 of 5B002; 2. "programmatuur" voor het certificeren van "programatuur" bedoeld in 5D002.c.1; 3. "programmatuur" ontworpen of aangepast voor bescherming tegen opzettelijk toegebrachte schade  aan computers, bij voorbeeld virussen. Noot: In 5D002 is niet bedoeld: a. "programmatuur" "noodzakelijk" voor het "gebruik" van apparatuur die krachtens de noot bij 5A002  niet onder embargo valt; b. "programmatuur" die een of meer van de functies verschaft van apparatuur die krachtens de noot  bij 5A002 niet onder embargo valt. 5E2 TECHNOLOGIE 5E002 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling", "produktie" of  het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in 5A002, 5B002 of 5D002. CATEGORIE 6 SENSOREN EN LASERS 6A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 6A001 Akoestische apparatuur a. Akoestische systemen voor gebruik ter zee, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen,  zoals hieronder vermeld: 1. actieve (zend- of zend/ontvang)systemen, of apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen  onderdelen, zoals: Noot: In 6A001.a.1 worden niet bedoeld: a. echoloden die verticaal onder de apparatuur werken en die geen aftastfunctie van meer dan ± 10°  hebben, en die uitsluitend worden gebruikt voor het meten van de waterdiepte of de afstand tot zich  onder water of ondergronds bevindende objecten of voor het lokaliseren van vis; b. akoestische bakens, zoals: 1. akoestische bakens voor noodsignalen; 2. "pingers" speciaal ontworpen voor het verplaatsen of het terugkeren naar een positie onder  water. a. breedbaan-dieptemetingssystemen voor het topografisch verkennen van de zeebodem: 1. ontworpen: a. voor het verrichten van metingen bij een hoek groter dan 10° van de normaal, en b. voor het meten van diepten groter dan 600 m onder de waterspiegel, en 2. ontworpen: a. voor het integreren van meervoudige bundels waarvan een of meer smaller zijn dan 2°, of b. voor het verschaffen van gegevens met een nauwkeurigheid groter dan 0,5 % van de waterdiepte  over de breedte van de baan berekend als het gemiddelde van de afzonderlijke metingen binnen de  baan; b. systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met een of meer van de volgende  kenmerken: 1. een zendfrequentie lager dan 10 kHz; 2. een geluidsdrukniveau hoger dan 224 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met  een werkfrequentie in het gebied van 10 t/m 24 kHz; 3. een geluidsdrukniveau hoger dan 235 dB (referentie: 1 micropascal op 1 m) voor apparatuur met  een werkfrequentie in het gebied van 24 t/m 30 kHz; 4. met vorming van bundels kleiner dan 1° op enige as en met een werkfrequentie lager dan 100 kHz; 5. ontworpen om een druk te weerstaan tijdens normaal bedrijf op een diepte van meer dan 1 000 m en  met transducenten: a. met dynamische drukcompensatie, of b. met een transductie-element anders dan loodzirkonaat-titanaat; of 6. ontworpen voor een ondubbelzinnig schaalbereik groter dan 5 120 m; c. akoestische projectors, met inbegrip van transducenten, die piëzo-elektrische,  magnetostrictieve, elektrostrictieve, elektrodynamische of hydraulische elementen bevatten die  afzonderlijk werken of in een ontworpen combinatie, met een of meer van de volgende kenmerken: Noten: 1. De embargostatus van akoestische projectors, met inbegrip van transducenten die speciaal  zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere  apparatuur. 2. In 6A001.a.1.c worden niet bedoeld bronnen die het geluid uitsluitend verticaal uitzenden, of  mechanische bronnen (b. v. door middel van luchtdruk of stoomstoten) of chemische bronnen (b. v.  door middel van explosieven). 1. een momentele uitgestraalde akoestische vermogensdichtheid groter dan 0,01 MW/mm²/Hz voor  toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz; 2. een continue uitgestraalde akoestische vermogensdichtheid groter dan 0,001 MW/mm²/Hz voor  toestellen die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz; Technische noot: De akoestische vermogensdichtheid wordt verkregen door het akoestische  uitgangsvermogen te delen door het produkt van uitstralend oppervlak en de werkfrequentie. 3. ontworpen om een druk te weerstaan tijdens normaal bedrijf op een diepte van meer dan 1 000 m,  of 4. met onderdrukking van de zijlobben van meer dan 22 dB; d. akoestische systemen, apparatuur en speciaal ontworpen onderdelen voor het lokaliseren van  oppervlaktevaartuigen of onderwatervaartuigen, die zijn ontworpen: Noot: In 6A001.a.1.d wordt mede bedoeld apparatuur die gebruik maakt van coherente  "signaalverwerking" tussen twee of meer bakens en de door het oppervlakte- of onderwatervaartuig  meegevoerde hydrofooneenheid, of die geschikt is voor het automatisch corrigeren van  voortplantingssnelheidsfouten voor de berekening van een plaats. 1. om te werken binnen een straal groter dan 1 000 m met een effectieve (rms) positionele  nauwkeurigheid kleiner dan 10 m wanneer wordt gemeten binnen een gebied van 1 000 m, of 2. om een druk te weerstaan op een diepte groter dan 1 000 m; 2. passieve (ontvangertype, al dan niet gewoonlijk toegepast te zamen met afzonderlijke actieve  apparatuur) systemen, apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, zoals: a. hydrofoons (transducenten) met een of meer van de volgende kenmerken: 1. met doorlopende flexibele sensoren of samenstellingen van afzonderlijke sensorelementen waarvan  ofwel de diameter ofwel de lengte kleiner is dan 20 mm en waarbij de scheiding tussen de elementen  kleiner is dan 20 mm; 2. met een of meer van de volgende sensorelementen: a. glasvezels; b. piëzo-elektrische polymeren, of c. flexibele piëzo-elektrische keramische materialen; 3. met een gevoeligheid van de hydrofoon beter dan -180 dB op iedere diepte zonder  versnellingscompensatie; 4. indien niet ontworpen voor werkdiepten groter dan 35 m, met een gevoeligheid van de hydrofoon  beter dan -186 dB met versnellingscompensatie; 5. indien ontworpen voor normaal bedrijf bij een diepte groter dan 35 m, met een gevoeligheid van  de hydrofoon beter dan -192 dB met versnellingscompensatie; 6. indien ontworpen voor normaal bedrijf bij een diepte groter dan 100 m, met een gevoeligheid van  de hydrofoon beter dan -204 dB, of 7. ontworpen om te werken bij een diepte groter dan 1 000 m; Technische noot: Onder de gevoeligheid van een hydrofoon wordt verstaan: 20-maal die logaritme bij het grondgetal 10  van de verhouding tussen de effectieve (rms) uitgangsspanning en een effectieve (rms)  referentiespanning van 1 V, als de hydrofoonsensor zonder voorversterker wordt geplaatst in een  akoestisch veld met vlakke golffronten met een effectieve (rms) druk van 1 micropascal. Bij  voorbeeld: een hydrofoon met een gevoeligheid van -160 dB (referentie: 1 V per micropascal) zal in  een dergelijk veld een uitgangsspanning afgeven van 10-8 V, terwijl een hydrofoon met een  gevoeligheid van -180 dB een uitgangsspanning zal afgeven van slechts 10-9 V. Dientengevolge is  -160 dB beter dan -180 dB. b. gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte akoestische hydrofoons ("towed acoustic  hydrophone arrays") met een of meer van de volgende kenmerken: 1. een onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen van minder dan 12,5 m; 2. een onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen van 12,5 tot minder dan 25 m en ontworpen voor  of met de mogelijkheid van aanpassing voor werkdiepten groter dan 35 m, of Technische noot: Onder "met de mogelijkheid van aanpassing" wordt in 6A001.a.2.b.2 verstaan dat er voorzieningen  zijn getroffen waardoor het mogelijk is de onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen of de  limiet van de werkdiepte te wijzigen door een wijziging in de elektrische bedrading of onderlinge  verbindingen. Deze voorzieningen bestaan uit reservebedrading uitgaande boven 10 % van het aantal  draden, blokken voor aanpassing van de onderlinge afstand van de hydrofoongroepen of inwendige  dieptebegrenzingselementen die verstelbaar zijn of meer dan één hydrofoongroep regelen. 3. een onderlinge afstand van de hydrofoongroepen van 25 m of meer en ontworpen om te werken bij  een diepte van meer dan 100 m; 4. richtingssensoren als bedoeld in 6A001.a.2.d; 5. niet-metalen verstevigingen of overlangs versterkte "array"-omhulsels; 6. een samengestelde "array" waarvan de diameter kleiner is dan 40 mm; 7. met multiplexverzending van de signalen van de hydrofoongroep, of 8. met kenmerken van de hydrofoon als omschreven in 6A001.a.2.a; c. verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor gesleepte samenstellen van regelmatig  gerangschikte hydrofoons ("towed hydrophone arrays"), met een van beide volgende kenmerken: 1. een snelle Fouriertransformatie of andere herleiding van 1024 of meer complexe getallen in  minder dan 20 ms zonder "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker", of 2. verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse,  digitale filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fouriertransformatie ("fast Fourier  transform") of andere herleidingen met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker"; d. richtingsensoren met een nauwkeurigheid beter dan + 0,5°, en 1. ontworpen om te kunnen worden ingebouwd in het omhulsel van de "array" en ontworpen om te kunnen  werken bij een diepte groter dan 35 m of met een regelbaar of te verwijderen dieptesensorelement om  te kunnen werken op diepten groter dan 35 m, of 2. ontworpen om buiten het omhulsel van de "array" gemonteerd te worden en met een sensor geschikt  om te werken met rotatie over een hoek van 360° bij diepten groter dan 35 m; b. geofoons voor gebruik te land, die kunnen worden omgebouwd voor gebruik in zeesystemen,  apparatuur of speciaal ontworpen onderdelen bedoeld in 6A001.1.2.a; c. sonar-logapparatuur voor correlatiesnelheidsbepaling, ontworpen voor het meten van de  horizontale snelheid van de drager van de apparatuur ten opzichte van de zeebodem bij een afstand  tussen de drager en de zeebodem groter dan 500 m. 6A002 Optische sensoren N.B.: Zie ook 6A102. a. Optische detectoren, zoals: Noot: In 6A002.a worden niet bedoeld lichtgevoelige elementen van germanium of silicium. 1. voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetectoren met een of meer van de volgende  kenmerken: a. 1. een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 10 nm maar niet meer dan 300 nm, en 2. een reactie van minder dan 0,1 % ten opzichte van de grootste gevoeligheid bij een golflengte  groter dan 400 nm; b. 1. een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet meer dan 1 200 nm,  en 2. een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder, of c. een grootste gevoeligheid bij golflengtes van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan 30 000 nm; 2. beeldversterkingsbuizen en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, zoals: a. beeldversterkingsbuizen met alle volgende kenmerken: 1. een grootste gevoeligheid bij golflengtes groter dan 400 nm doch niet groter dan 1 050 nm; 2. een microkanalenplaat voor elektronische beeldversterking met een afstand tussen de gaten  (kanalen) (hart op hart gemeten) van minder dan 25 micrometer, en 3. a. een S-20-, S-25- of multi-alkali-fotokathode, of b. een GaAs- of GaInAs-fotokathode; b. speciaal ontworpen onderdelen, zoals: 1. glasvezel-beeldomzetters; 2. microkanalenplaten met beide volgende kenmerken: a. 15 000 of meer kanalen per plaat, en b. afstand tussen de gaten (kanalen) (hart op hart gemeten) van minder dan 25 micrometer; 3. GaAs- of GaInAs-fotokathoden; 3. "focal plane arrays", niet "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met een of meer van de  volgende kenmerken: Technische noot: Lineaire of tweedimensionale uit verscheidene elementen bestaande "detector arrays" worden "focal  plane arrays" genoemd. Noten: 1. In 6A002.a.3 zijn mede bedoeld fotogeleidende en fotovoltaïsche "arrays". 2. Niet bedoeld in 6A002.a.3 zijn "focal plane arrays" van silicium, omhulde, uit verscheidene  elementen (maximaal 16 elementen) bestaande fotogeleidende cellen of pyro-elektrische detectoren  waarbij een of meer van de volgende materialen zijn gebruikt: a. loodsulfide; b. triglycinesulfaat en varianten daarvan; c. lood-lanthaan-zirkoniumtitanaat en varianten daarvan; d. lithiumtantalaat; e. polyvinylideenfluoride en varianten daarvan; f. strontium-barium niobaat en varianten daarvan; of g. loodselenide. a. 1. afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij golflengten groter dan 900 nm doch  niet groter dan 1 050 nm; en 2. een "reactietijdconstante" van minder dan 0,5 ns; b. 1. afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij golflengten groter dan 1 050 nm  doch niet groter dan 1 200 nm, en 2. een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder, of c. afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid bij golflengten groter dan 1 200 nm doch  niet groter dan 30 000 nm; 4. enkelvoudige of "nonfocal plane" meervoudige halfgeleider fotodioden of fototransistors, niet  "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met beide volgende kenmerken: a. een grootste gevoeligheid bij een golflengte groter dan 1 200 nm maar niet groter dan 30 000 nm,  en b. een "reactietijdconstante" van 0,5 ns of minder; b. "multispectrale beeldsensoren" ontworpen voor toepassing bij het aftasten op afstand, met één  van beide volgende kenmerken: 1. een momenteel gezichtsveld ("instantaneous field of view" (IFOV)) kleiner dan 200 microradiaal,  of 2. gespecificeerd om te werken bij golflengten langer dan 400 nm doch niet langer dan 30 000 nm, en a. de uitgevoerde beeldgegevens zijn digitaal opgemaakt, en b. 1. de sensoren zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", of 2. ontworpen voor gebruik in de lucht, gebruik makend van andere dan siliciumdetectoren, en met een  momenteel gezichtsveld ("instantaneous field of view" (IFOV) van minder dan 2,5 milliradiaal; c. apparatuur voor directe beeldvorming, werkend in het zichtbare of infrarode spectrum, met één  van beide volgende artikelen: 1. beeldversterkingsbuizen bedoeld in 6A002.a.2, of 2. "focal plane arrays" bedoeld in 6A002.a.3;Technische noot: Met directe beeldvorming wordt bedoeld beeldapparatuur werkend in het zichtbare of infrarode  spectrum, die de menselijke waarnemer een visueel beeld geeft zonder omzetting van het beeld in een  elektronisch signaal voor televisieweergave en die het beeld noch fotografisch noch elektronisch  noch op enige andere wijze kan registreren of opslaan. Noot: Niet bedoeld wordt in 6A002.c onderstaande apparatuur met fotokathoden anders dan van GaAs of  GaInAs: a. inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele toepassing of systemen voor het regelen en  tellen van bewegingen in het verkeer of in de industrie; b. medische apparatuur; c. industriële apparatuur die wordt gebruikt voor inspectie, selectie of analyse van de  eigenschappen van materialen; d. vlamdetectors voor industriële ovens; e. apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik in het laboratorium. d. speciale ondersteunende onderdelen voor optische sensoren, zoals hieronder vermeld: 1. "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers; 2. niet "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene koelers met en koelbrontemperatuur  lager dan 218 K (−55 °C), zoals: a. met een gesloten kringloop met een gespecificeerd gemiddeld interval vóór storing (MTTF) of  gemiddeld storingsvrij interval (MTBF) groter dan 2 500 uur; b. zelfregulerende Joule-Thomson (JT)-minikoelers voor een boorgat met een middellijn kleiner dan 8  mm; 3. glasvezels voor aftasten: a. die qua samenstelling of structuur speciaal zo zijn geconstrueerd of door bekleding zodanig  aangepast dat zij akoestische, thermische, traagheids- of elektromagnetische gevoeligheid bezitten  of gevoeligheid voor nucleaire straling, of b. met een aangepaste structuur voor een "beat length" kleiner dan 50 mm (sterk dubbelbrekend). 6A003 Camera's N.B.: Zie ook 6A203. a. Instrumentatiecamera's, zoals: 1. filmcamera's voor hoge opnamesnelheden waarbij gebruik wordt gemaakt van elk filmformaat van 8  tot en met 16 mm, waarin de film gedurende de registratietijd ononderbroken wordt voortbewogen en  geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 13 150 beelden per seconde;Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.a.1 filmcamera's voor civiele doeleinden. 2. mechanische camera's voor hoge opnamesnelheden waarin de film niet wordt voortbewogen, en  geschikt voor opnamesnelheden van meer dan 1000 000 beelden per seconde bij volle beeldhoogte van  standaard 35 mm-film of naar verhouding hogere snelheden bij een kleinere beeldhoogte, of lagere  snelheden bij een grotere beeldhoogte; 3. mechanische of elektronische "streak"-camera's met opnamesnelheden groter dan 10 mm per  microseconde; 4. elektronische beeld ("framing")-camera's met een snelheid groter dan 1000 000 beelden per  seconde; 5. elektronische camera's met: a. een elektronische sluitertijd (venstervermogen) van minder dan 1 microseconde per volledig  beeld, en b. een uitleestijd die een opnamesnelheid van meer dan 125 volledige beelden per seconde mogelijk  maakt; b. beeldcamera's, zoals: Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.b televisie- of videocamera's die speciaal zijn ontworpen voor  televisieuitzendingen. 1. videocamera's die halfgeleidersensoren bevatten, met een of meer van de volgende kenmerken: a. meer dan 4 × 106 "actieve pixels" per halfgeleider-"array" voor monochroom  (zwart/wit)-camera's; b. meer dan 4 × 106 "actieve pixels" per halfgeleider-"array" voor kleurencamera's met drie  halfgeleider-"arrays", of c. meer dan 12 × 106 "actieve pixels" voor halfgeleider-"array"-kleurencamera's met één  halfgeleider-"array"; 2. aftastcamera's en aftastcamerasystemen: a. met lineaire detectie-"arrays" met meer dan 8 192 elementen per "array", en b. met mechanische aftasting in één richting; 3. met beeldversterkers bedoeld in 6A002.a.2.a; 4. met "focal plane arrays" bedoeld in 6A002.a.3. N.B.: Zie 8A002.d en 8A002.e voor camera's die speciaal zijn ontworpen of aangepast voor gebruik  onder water. 6A004 Optische apparatuur a. Optische spiegels (reflectoren), zoals: 1. "vervormbare spiegels" met een ongesegmenteerd of gesegmenteerd oppervlak en speciaal daarvoor  ontworpen onderdelen, geschikt voor dynamische herinstelling van gedeelten van het oppervlak van de  spiegel met snelheden groter dan 100 Hz; 2. lichtgewicht monolithische spiegels met een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan 30  kg/m² en een totaalgewicht groter dan 10 kg; 3. lichtgewicht "composiete" of schuimspiegelstructuren met een gemiddelde "equivalente dichtheid"  van minder dan 30 kg/m² en een totaalgewicht groter dan 2 kg; 4. spiegels met bundelsturing met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 100 mm die een  vlakheid handhaven van lambda/2 of beter (lambda = 633 nm) en met een regelbandbreedte groter dan  100 Hz; b. optische onderdelen vervaardigd van zinkselenide (ZnSe) of zinksulfide (ZnS) met voortplanting  in het golflengtegebied van 3 000 nm tot 25 000 nm en met één van beide volgende kenmerken: 1. een volume groter dan 100 cm³, of 2. een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 80 mm en een dikte (diepte) groter dan 20 mm; c. "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen voor optische systemen, zoals hieronder  vermeld: 1. lichtgewicht gemaakt tot minder dan 20 % "equivalente dichtheid" in vergelijking met een massief  onafgewerkt model met dezelfde opening en van dezelfde dikte; 2. substraten, substraten met oppervlaktebekleding (met een of met meer lagen, metalliek of  diëlektrisch, geleidend, halfgeleidend of isolerend) of met een beschermlaag; 3. segmenten of samenstellingen van spiegels die zijn ontworpen om in de ruimte te worden  samengevoegd tot een optisch systeem met een opvangopening gelijk aan of groter dan één enkel  optisch onderdeel met een diameter van 1 m; 4. vervaardigd van "composiet"-materiaal met een lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt gelijk  aan of kleiner dan 5 x 10-6 in elk der cooerdinaatrichtingen; d. optische filters, zoals hieronder vermeld: 1. voor golflengten langer dan 250 nm, bestaande uit verscheidene optische bekledingslagen en met  één van beide onderstaande kenmerken: a. bandbreedte gelijk aan of kleiner dan 1 nm volledige breedte op halve intensiteit (full width  half intensity (FWHI)) en grootste doorlating van 90 % of meer, of b. bandbreedte gelijk aan of kleiner dan 0,1 nm FWHI en grootste doorlating van 50 % of meer; Noot: Niet bedoeld worden in 6A004.d.1 optische filters met vaste luchtspleten of filters van het  Lyot-type. 2. voor golflengten langer dan 250 nm, met alle volgende kenmerken: a. afstembaar over een spectrumgebied van 500 nm of meer; b. momenteel optisch bandfilter van 12,5 nm of minder; c. golflengte binnen 0,1 ms terugstelbaar met een nauwkeurigheid van 1 nm of beter binnen het  afstembare spectrumgebied, en d. een enkelvoudige doorlatingspiek van 91 % of meer; 3. optische ondoorzichtigheidsschakelaars (filters) met een gezichtsveld van 30° of breder en een  reactietijd gelijk aan of minder dan 1 ns; e. optische regelapparatuur, zoals hieronder vermeld: 1. speciaal ontworpen voor handhaving van het oppervlaktepatroon of de richting van de "voor  gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen bedoeld in 6A004.c.1 of 3; 2. met bandbreedten voor sturen, volgen, stabiliseren of resonatorrichten gelijk aan of groter dan  100 Hz en een nauwkeurigheid van 10 microradiaal of minder; 3. cardanusringen (gimbals) met een maximale zwenking groter dan 5°, een brandbreedte gelijk aan of  groter dan 100 Hz, en één van beide volgende groepen kenmerken: a. 1. met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 0,15 m doch niet groter dan 1 m; 2. geschikt voor hoekversnellingen groter dan 2 radiaal/s2, en 3. met een hoekaanwijsfout gelijk aan of minder dan 200 microradiaal, of b. 1. met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 1 m; 2. geschikt voor hoekversnellingen groter dan 0,5 radiaal/s2, en 3. met een hoekaanwijsfout gelijk aan of minder dan 200 microradiaal; 4. speciaal ontworpen voor handhaving van de richting ("alignment") van "phased array"- of "phased  segment"-spiegel-systemen bestaande uit spiegels met een diameter of lengte van de hoofdas per  segment van 1 m of meer; f. "fluoride vezel"-kabel of "glasvezels" daarvoor met een verzwakking van minder dan 4 dB/km in  het golflengtegebied van 1 000 nm tot 3 000 nm. 6A005 "Lasers", onderdelen en optische apparatuur, zoals hieronder vermeld: N.B.: Zie ook 6A205. Noten: 1. Onder gepulseerde "lasers" worden mede begrepen "lasers" die werken in continugolf (CW)-modus  met gesuperponeerde impulsen. 2. Onder "lasers" met pulsexcitatie worden mede begrepen "lasers" die werken in CW  (continugolf)-modus met gesuperponeerde pulsexcitatie. 3. De embargostatus van Raman "lasers" wordt bepaald door de parameters van de als pomp gebruikte  "laser". De als pomp gebruikte "laser" kan elk der hieronder omschreven "lasers" zijn. a. Gas-"lasers", zoals hieronder vermeld: 1. excimeer-"lasers" met een of meer van de volgende kenmerken: a. een golflengte aan de uitgang niet langer dan 150 nm en: 1. een uitgangsenergie per impuls groter dan 50 mJ, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; b. een golflengte aan de uitgang langer dan 150 nm doch niet langer dan 190 nm, en: 1. een uitgangsenergie per impuls groter dan 1,5 J, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 120 W; c. een golflenge aan de uitgang langer dan 190 nm doch niet langer dan 360 nm, en: 1. een uitgangsenergie per impuls groter dan 10 J, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 500 W, of d. een golflengte aan de uitgang langer dan 360 nm, en: 1. een uitgangsenergie per impuls groter dan 1,5 J, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 30 W; 2. metaaldamp-"lasers", zoals: a. koper (Cu)-"lasers" met een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 20 W; b. goud (Au)-"lasers" met een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 5 W; c. natrium (Na)-"lasers" met een uitgangsvermogen van meer dan 5 W; d. barium (Ba)-"lasers" met een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 2 W; 3. koolstofmonoxide (CO)-"lasers" met ofwel: a. een uitgangsenergie per impuls groter dan 2 J en een "piekvermogen" per impuls van meer dan 5  kW, ofwel b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 5 kW; 4. koolstofdioxide (CO2)-"lasers" met een of meer van de volgende kenmerken: a. een CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 kW; b. een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" van meer dan 10 microseconde, en: 1. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 kW, of 2. een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 100 kW, of c. een gepulseerd vermogen met een "pulsduur" gelijk aan of minder dan 10 microseconden, en: 1. een pulsenergie van meer dan 5 J per impuls en een "piekvermogen" van meer dan 2,5 kW, of 2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 2,5 kW; 5. "chemische lasers", zoals: a. waterstoffluoride (HF)-"lasers"; b. deuteriumfluoride (DF)-"lasers"; c. "transfer lasers": 1. zuurstofjood (O2-I)-"lasers"; 2. deuteriumfluoride-koolstofdioxide (DF-CO2)-"lasers"; 6. gasontladings- en ionen-"lasers", d.w.z. krypton-ion- of argon-ion-"lasers", met ofwel: a. een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  50 W, ofwel b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 50 W; 7. andere gas-"lasers", met uitzondering van stikstof-"lasers", met een of meer van de volgende  kenmerken: a. een golflengte aan de uitgang niet langer dan 150 nm, en: 1. een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  1 W, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; b. een golflengte aan de uitgang langer dan 150 nm maar niet langer dan 800 nm, en: 1. een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  30 W, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 30 W; c. een golflengte aan de uitgang langer dan 800 nm maar niet langer dan 1 400 nm, en: 1. een uitgangsenergie van meer dan 0,25 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  10 W, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of d. een golflengte aan de uitgang langer dan 1 400 nm en een gemiddeld of CW  (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; b. halfgeleider-"lasers", zoals hieronder vermeld: Technische noot: Halfgeleider-"lasers" worden gewoonlijk "laser"-dioden genoemd. Noot: De embargostatus van halfgeleider-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur  wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. 1. afzonderlijke halfgeleider-"lasers" met enkelvoudige transversale modus met: a. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 100 MW, of b. een golflengte langer dan 1 050 nm; 2. afzonderlijke, halfgeleider-"lasers" met verschillende transversale modi, of series ("arrays")  van afzonderlijke halfgeleider-"lasers", met: a. een uitgangsenergie van meer dan 500 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  10 W; b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of c. een golflengte langer dan 1 050 nm; c. vaste-stof-"lasers", zoals hieronder vermeld: 1. "afstembare" "lasers" met een of meer van de volgende groepen kenmerken: Noot: In 6A005.c.1 worden tevens bedoeld titaan-saffier (Ti: Al2O3)-, thulium-YAG (Tm: YAG)-,  thulium-YSGG (Tm: YSGG)-, alexandriet (Cr: BeAl2O4)- en kleurcentrum-"lasers". a. een golflengte aan de uitgang korter dan 600 nm, en: 1. een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  1 W, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; b. een golflengte aan de uitgang van 600 nm of langer doch niet langer dan 1 400 nm, en: 1. een uitgangsenergie van meer dan 1 J per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 20  W, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of c. een golflengte aan de uitgang langer dan 1 400 nm, en: 1. een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  1 W, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; 2. niet-afstembare "lasers", zoals: Noot: In 6A005.c.2 worden mede bedoeld vaste-stof-"lasers" met atomaire overgang. a. robijn-"lasers" met een uitgangsenergie van meer dan 20 J per impuls; b. neodymiumglas-"lasers" met: 1. "Q-switched lasers" met: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 20 J doch niet meer dan 50 J en een gemiddeld  uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of b. een uitgangsvermogen van meer dan 50 J per impuls; 2. niet-"Q-switched lasers" met: a. een uitgangsenergie van meer dan 50 J per impuls doch niet meer dan 100 J per impuls en een  gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of b. een uitgangsvermogen van meer dan 100 J per impuls; c. neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers", zoals hieronder vermeld, met een golflengte aan  de uitgang langer dan 1 000 nm doch niet langer dan 1 100 nm: Noot: Zie 6A005.c.2.d voor neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers" met een golflengte aan de  uitgang niet langer dan 1 000 nm of langer dan 1 100 nm. 1. "Q-switched lasers" met pulsexcitatie en geblokkeerde modus met een "pulsduur" korter dan 1 ns,  en: a. een "piekvermogen" van meer dan 5 GW; b. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of c. een gepulseerde energie van meer dan 0,1 J; 2. "Q-switched lasers" met pulsexcitatie met een "pulsduur" gelijk aan of langer dan 1 ns, en: a. een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modus met: 1. een "piekvermogen" van meer dan 100 MW: 2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of 3. een gepulseerde energie van meer dan 2 J, of b. een uitvoer volgens verschillende transversale modi met: 1. een "piekvermogen" van meer dan 200 MW; 2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 W, of 3. een gepulseerde energie van meer dan 2 J; 3. niet-"Q-switched lasers" met pulsexcitatie, met: a. een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modi met: 1. een "piekvermogen" van meer dan 500 kW, of 2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 150 W, of b. een uitvoer volgens verschillende transversale modi met: 1. een "piekvermogen" van meer dan 1 MW, of 2. een gemiddeld vermogen van meer dan 500 W; 4. continu geëxciteerde "lasers" met: a. een uitvoer volgens enkelvoudige transversale modus met: 1. een "piekvermogen" van meer dan 500 kW, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf) uitgangsvermogen van meer dan 150 W, of b. een uitvoer volgens verschillende transversale modi met: 1. een "piekvermogen" van meer dan 1 MW, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf) uitgangsvermogen van meer dan 500 W; d. andere niet-"afstembare" "lasers", met een of meer van de volgende kenmerken: 1. een golflengte korter dan 150 nm, en: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  1 W, of b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; 2. een golflengte van 150 nm of meer doch niet langer dan 800 nm, en: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  30 W, of b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 30 W; 3. een golflengte langer dan 800 nm doch niet langer dan 1 400 nm zoals hieronder vermeld: a. "Q-switched lasers" met: 1. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  50 W, of 2. een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan: a. 10 W voor monomodus "lasers"; b. 30 W voor multimodus "lasers"; b. niet-"Q-switched lasers" met: 1. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50  W, of 2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 50 W, of 4. een golflengte langer dan 1 400 nm, en: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  1 W, of b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; d. kleurstof- en andere vloeistof-"lasers", met een of meer van de volgende kenmerken: 1. een golflengte korter dan 150 nm, en: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" groter dan 1  W, of b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen groter dan 1 W; 2. een golflengte van 150 nm of langer doch niet langer dan 800 nm, en: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  20 W; b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 20 W, of c. een gepulseerde oscillator met enkelvoudige longitudinale modus met een gemiddeld  uitgangsvermogen van meer dan 1 W en een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz indien de "pulsduur"  korter is dan 100 ns; 3. een golflengte langer dan 800 nm doch niet langer dan 1 400 nm, en: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  10 W, of b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of 4. een golflengte langer dan 1 400 nm, en: a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan  1 W, of b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 1 W; e. vrije-elektronen-"lasers"; f. onderdelen, zoals: 1. spiegels met actieve koeling of buiskoeling; Technische noot: Actieve koeling is een koeltechniek voor optische onderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van  stromende vloeistoffen onder het oppervlak (nominaal minder dan 1 mm onder het optische oppervlak)  van het optische onderdeel voor de afvoer van warmte van het optische element. 2. optische spiegels of doorlatende of deels doorlatende optische of elektro-optische onderdelen  die speciaal zijn ontworpen voor toepassing met onder embargo vallende "lasers"; g. optische apparatuur, zoals: 1. dynamische golffront (fase)-meetapparatuur geschikt voor het in kaart brengen van ten minste 50  punten op een bundelgolffront met: a. een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 100 Hz en een faseverschil van ten minste 5 % van de  golflengte van de bundel, of b. een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 1 000 Hz en een faseverschil van ten minste 20 % van  de golflengte van de bundel; 2. diagnostische "laser"-apparatuur geschikt voor het meten van bundelhoekbesturingsfouten in  "super-high power laser" (SHPL)-systemen gelijk aan of kleiner dan 100 microradiaal; 3. optische apparatuur, samenstellingen of onderdelen, speciaal ontworpen voor een "phased  array"-SHPL-systeem voor coherente samenvoeging van bundels met een nauwkeurigheid van het kleinste  van lambda/10 bij de aangewezen golflengte, of van 0,1 micrometer; 4. projectietelescopen, speciaal ontworpen voor gebruik met SHPL-systemen. N.B.: Zie de lijst van militaire goederen voor optische elementen met gezamenlijke opening,  geschikt om te werken in SHPL-toepassingen. 6A006 "Magnetometers", "magnetische gradiëntmeters", "intrinsieke magnetische gradiëntmeters", en  compensatiesystemen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, zoals hieronder vermeld: Noot: Niet bedoeld worden in 6A006 instrumenten die speciaal zijn ontworpen voor biomagnetische  metingen ten behoeve van de medische diagnostiek, tenzij deze niet-ingebouwde sensoren bevatten die  zijn bedoeld in 6A006.h. a. "magnetometers" die gebruik maken van "supergeleidende", optisch gepompte of kernprecessie  (proton/Overhauser)-technologie met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan 0,05 nT  effectieve waarde; b. inductor "magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan: 1. 0,05 nT effectieve waarde bij frequenties lager dan 1 Hz; 2. 1 × 10-3 nT effectieve waarde bij frequenties van 1 Hz of meer doch niet hoger dan 10 Hz, of 3. 1 × 10-4 nT effectieve waarde bij frequenties hoger dan 10 Hz; c. glasvezel-"magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (beter) dan 1 nT effectieve  waarde; d. "magnetische gradiëntmeters" waarbij gebruik wordt gemaakt van meervoudige "magnetometers"  bedoeld in 6A006.a, b of c; e. "intrinsieke magnetische gradiëntmeters" van glasvezels met een "ruisniveau" (gevoeligheid) van  de gradiënt van het magnetische veld lager (beter) dan 0,3 nT/m effectieve waarde; f. "intrinsieke magnetische gradiëntmeters", waarbij gebruik wordt gemaakt van andere technologie  dan glasvezeltechnologie, met een "ruisniveau" (gevoeligheid) van de gradiënt van het magnetische  veld lager (beter) dan 0,015 nT/m effectieve waarde; g. magnetische compensatiesystemen voor magnetische sensoren, ontworpen voor bedrijf op mobiele  tafels; h. "supergeleidende" elektromagnetische sensoren, die onderdelen bevatten vervaardigd van  "supergeleidende" materialen: 1. ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de "kritische temperatuur" van ten minste één  van de "supergeleidende" componenten (met inbegrip van Josephson-effect-elementen en  "supergeleidende" quantuminterferentie-elementen ("Squids")); 2. ontworpen voor het meten van magnetische veldsterkteschommelingen bij een frequentie van 1 kHz  of minder, en 3. met een of meer van de volgende kenmerken: a. met dunne-laag-"Squids" met een minimale elementafmeting kleiner dan 2 micrometer en met  bijbehorende koppelschakelingen voor in- en uitvoer; b. ontworpen om te werken met een zwenking van het magnetische veld groter dan 1 × 106 quanta  magnetische flux per seconde; c. ontworpen om te werken in het aardveld zonder magnetische afscherming, of d. met een temperatuurcoëfficiënt lager (kleiner) dan 0,1 quantum magnetische flux/K. 6A007 Zwaartekrachtmeters (gravimeters) en zwaartekrachtgradiëntmeters, zoals hieronder vermeld: N.B.: Zie ook 6A107. a. zwaartekrachtmeters voor gebruik te land met een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 10  microgal; Noot: Niet bedoeld worden in 6A007.a landzwaartekrachtmeters van het type met kwartselement  (Worden-type). b. zwaartekrachtmeters voor op mobiele tafels voor gebruik te land, ter zee, onder water, in de  ruimte of in vliegtuigen met: 1. een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 0,7 milligal, en 2. een nauwkeurigheid tijdens gebruik (operationele nauwkeurigheid) kleiner (beter) dan 0,7  milligal waarbij het minder dan twee minuten duurt voordat een stationair werkende toestand is  bereikt onder willekeurig welke combinatie van bijkomende corrigerende compensaties en  bewegingsbeïnvloeding; c. zwaartekrachtgradiëntmeters. 6A008 Radarsystemen, -apparatuur en -samenstellingen met een of meer van de volgende eigenschappen,  en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: N.B.: Zie ook 6A108. Noot: Niet bedoeld worden in 6A008: a. secundaire loodsradar ("secondary surveillance radar" (SSR)); b. boordradar voor auto's, ontworpen ter voorkoming van botsingen; c. beeldschermen of monitors, gebruikt ten behoeve van luchtverkeersleiding ("air traffic control"  (ATC)) met niet meer dan twaalf oplosbare elementen per mm; d. meteorologische (weer)radar. a. werkend in het frequentiegebied van 40 GHz tot 230 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van  meer dan 100 mW; b. met een afstembare bandbreedte groter dan ± 6,25 % van de centrale werkfrequentie; Technische noot: De centrale werkfrequentie is gelijk aan de helft van de som van de hoogste en de laagste  gespecificeerde werkfrequentie. c. geschikt om gelijktijdig te werken op meer dan twee draagfrequenties; d. geschikt om te werken in de radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur ("synthetic aperture  radar" (SAR)), met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur ("inverse synthetic aperture" (ISAR))  of in vliegtuigen in de zijwaarts stralende ("sidelooking airborne" (SLAR)) radarmodus; e. met "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal  identieke antennes" ("phased array antennae"); f. geschikt voor het peilen van de hoogte van niet meewerkende doelen; Noot: In 6A008.f wordt niet bedoeld landingsradarapparatuur (PAR) conform de ICAO-standaarden. g. speciaal ontworpen om te werken in de lucht (gemonteerd in een ballon of vliegtuigstructuur) en  met Doppler-signaalverwerking voor het opsporen van bewegende doelen; h. met toepassing van radarsignaalverwerking met gebruikmaking van: a. "radar spread spectrum"-technieken, of b. "radar frequency agility"-technieken; i. met bediening vanaf de grond met een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" groter dan 185 km; Noot: In 6A008.i wordt niet bedoeld: a. loodsradar voor visgronden; b. grondradarapparatuur speciaal ontworpen voor luchtverkeersleiding ("air traffic control" (ATC))  en "programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" daarvan, mits: 1. hij een maximaal "geïnstrumenteerd bereik" heeft van 500 km of minder; 2. hij zodanig is geconfigureerd dat de radardoelgegevens uitsluitend in één richting kunnen worden  doorgegeven van de radarlocatie naar een of meer civiele ATC-centra; 3. hij geen voorzieningen bevat voor besturing op afstand van de radaraftastsnelheid vanuit het  vluchtbegeleidings-ATC-centrum, en 4. hij bestemd is voor een vaste installatie. N.B.: De "gebruiks"-"programmatuur" dient beperkt te zijn tot "objectcode" en het minimum aan  "broncode" dat noodzakelijk is voor installatie, bediening en onderhoud. j. "laser"-radar of lichtdetectie- en afstandsbepalings (Lidar)-apparatuur, met één van beide  volgende kenmerken: 1. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", of 2. gebruikmakend van coherente heterodyne of homodyne detectietechnieken en met een hoekresolutie  kleiner (beter) dan 20 microradiaal; Noot: Niet bedoeld wordt in 6A008.j Lidar-apparatuur speciaal ontworpen voor landmetingen of  meteorologische waarnemingen. k. met subsystemen voor signaalverwerking die gebruik maken van "impulscompressie" met: 1. een "impulscompressie"-verhouding groter dan 150, of 2. een "pulsduur" korter dan 200 ns, of l. met subsystemen voor gegevensverwerking met: 1. "automatisch volgen van het doel" waarbij bij iedere omwenteling van de antenne de positie van  het doel kan worden voorspeld voor een tijdstip later dan de volgende bestraling met de bundel; Noot: Niet bedoeld wordt in 6A008.l.1 de mogelijkheid van waarschuwing voor botsingen in  ATC-systemen, of zee- of havenradar. 2. snelheidsberekening van het doel via een primaire radar met niet periodieke (variabele)  aftastsnelheid; 3. verwerking ten behoeve van automatische patroonherkenning (opsporen van kenmerken) en  vergelijking met gegevensbestanden van doelkenmerken (golfvormen of beeldvormen) voor de  identificatie of classificatie van doelen, of 4. superpositie en correlatie, of samenvoeging, van gegevens over een doel van twee of meer  "geografisch gespreide" en "onderling verbonden radarsensoren" ter verduidelijking en  onderscheiding van doelen. Noot: Niet bedoeld worden in 6A008.l.4 systemen, apparatuur en samenstellingen gebruikt voor de  regeling van het verkeer op zee. 6A102 Stralingbestendige detectoren, anders dan bedoeld in 6A002, voor gebruik ter bescherming  tegen nucleaire effecten (bij voorbeeld elektromagnetische puls (EMP), roentgenstraling, combinatie  van drukgolf en hitte) en geschikt voor gebruik in "raketten", ontworpen of gespecificeerd als  zijnde bestand tegen stralingsniveaus die overeenkomen met een totale stralingsdosis van 5 x 105  rad (Si) of meer. Technische noot: In 6A102 is een detector gedefinieerd als een mechanisch, elektrisch, optisch of chemisch element  dat een prikkel, bij voorbeeld een verandering van de omgevingsdruk of -temperatuur, een elektrisch  of elektromagnetisch signaal of straling van radioactief materiaal automatisch herkent en vastlegt  of registreert. 6A107 Speciaal ontworpen onderdelen voor zwaartekrachtmeters en zwaartekrachtgradiëntmeters bedoeld  in 6A007.b en c.6A108 Radarsystemen en volgsystemen anders dan bedoeld in 6A008, zoals hieronder vermeld: a. radar- en laserradarsystemen ontworpen of aangepast voor gebruik in systemen bedoeld in 9A004 of  9A104; b. precisievolgsystemen, geschikt voor "raketten", zoals: 1. volgsystemen die gebruik maken van een vertaalsysteem voor codes gecombineerd met  referentiepunten op aarde of in vliegtuigen of navigatiesatellietsystemen om onvertraagde ("real  time")-metingen van vluchtpositie en -snelheid te verrichten; 2. radar voor afstandsmeting, met inbegrip van de bijbehorende optische/infrarood volgsystemen met  alle onderstaande kenmerken: a. hoekresolutie beter dan 3 milliradiaal (0,5 mils); b. bereik van 30 km of meer met een effectieve (rms) afstandsresolutie beter dan 10 m; c. snelheidsresolutievermogen beter dan 3 m/s. 6A202 Fotomultiplicatorbuizen met een oppervlak van de fotokathode groter dan 20 cm² met een  stijgtijd van de anodepuls korter dan 1 ns. 6A203 Camera's en onderdelen, anders dan bedoeld in 6A003, zoals hieronder vermeld: a. mechanische roterende spiegelcamera's en onderdelen, zoals: 1. mechanische beeld ("framing")-camera's met een registratiesnelheid groter dan 225 000 beelden  per seconde; 2. "streak"-camera's met een opnamesnelheid groter dan 0,5 mm per microseconde; Technische noot: Onderdelen van deze camera's zijn onder meer speciaal ontworpen synchroniserende elektronica en  speciaal ontworpen rotorsamenstellen (bestaande uit turbines, spiegels en lagers). b. elektronische "streak"- en beeld ("framing")-camera's en -buizen, zoals hieronder vermeld: 1. elektronische "streak"-camera's met een tijdresolutie van 50 ns of minder en "streak"-buizen  daarvoor; 2. elektronische (of met een elektronische sluiter uitgeruste) beeld ("framing")-camera's met een  belichtingstijd van 50 ns of minder per beeld; 3. beeld ("framing")-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming, voor gebruik met camera's  bedoeld in 6A203.b.2, zoals: a. beeldversterkersbuizen met zeer korte brandpuntsafstand waarbij de fotokathode wordt afgezet op  een transparante geleidende bekledingslaag ter vermindering van de weerstand van de  fotokathodelaag; b. vidiconbuizen met siliciumversterkerbeeldplaat ("silicon intensifier target" (SIT)) van het  poorttype, waarbij door middel van een snelschakelsysteem het doorlaten van de van de fotokathode  afkomstige foto-elektronen wordt geregeld alvorens deze op de SIT-plaat botsen; c. elektro-optische sluiters welke gebruik maken van een Kerr- of "pockel"-cel; d. andere beeld ("framing")-buizen en halfgeleiderelementen voor beeldvorming met een venstertijd  van minder dan 50 ns, speciaal ontworpen voor camera's bedoeld in 6A203.6.2; c. stralingbestendige televisiecamera's, speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde  tegen een stralingsniveau hoger dan 5 x 104 gray (Si) (5 × 106 rad (Si) zonder verslechtering van  de werking, en speciaal daarvoor ontworpen lenzen. 6A205 "Lasers", anders dan bedoeld in 6A005, zoals hieronder vermeld: a. argon-ionen-"lasers" met een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 40 W en werkend bij een  golflengte van 400 nm tot 515 nm; b. afstembare gepulseerde monomodus kleurstofoscillatoren geschikt voor een gemiddeld  uitgangsvermogen van meer dan 1 W, een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz, een pulsduur korter dan  100 ns en een golflengte van 300 nm tot 800 nm; c. afstembare gepulseerde kleurstof-"laser"-versterkers en oscillatoren, met uitzondering van  monomodus oscillatoren; met een gemiddeld uitgangsvermogen groter dan 30 W, een herhalingssnelheid  groter dan 1 kHz, een pulsduur korter dan 100 ns en een golflengte van 300 nm tot 800 nm; d. gepulseerde koolstofdioxide "lasers" met een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz, een gemiddeld  uitgangsvermogen groter dan 500 W en een pulsduur korter dan 200 ns bij een golflengte van 9 000 nm  tot 11 000 nm; e. para-waterstof-Ramanfrequentieverschuivers, ontworpen om te werken bij een golflengte aan de  uitgang van 16 ìm en een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz. 6A225 Snelheidsinterferometers voor het meten van snelheden van meer dan 1 km per seconde over een  tijdsinterval van minder dan 10 ìs. (Visar's, Doppler laser interferometers, DLI's, enz.). 6A226 Druksensoren, zoals: a. manganinedrukmeters voor drukken hoger dan 100 kilobar, of b. kwartsdruktransducenten voor drukken hoger dan 100 kilobar. 6B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 6B004 a. Optische apparatuur voor het meten van absolute reflectiecoëfficiënten met een  nauwkeurigheid van ± 0,1 % van de reflectiecoëfficiëntswaarde; b. andere apparatuur dan optische meetapparatuur voor de verstrooiing aan oppervlakken, met een  vrije apertuur van meer dan 10 cm, speciaal ontworpen voor contactloze optische meting van een niet  vlak zijnd optisch oppervlak (profiel) met een nauwkeurigheid van 2 nm of minder (beter) ten  opzichte van het gewenste profiel. Noot: Microscopen zijn niet bedoeld in 6B004. 6B005 Speciaal ontworpen of aangepaste apparatuur, met inbegrip van gereedschap, matrijzen,  armaturen of pasmallen, zoals hieronder vermeld, andere speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren  daarvoor: a. voor het vervaardigen of inspecteren van: 1. magneetveldundulatoren ("wigglers") voor vrije-elektronenlasers; 2. fotoinjecteurs voor vrije-elektronenlasers; b. voor de afstelling van het longitudinale magneetveld van vrije-elektronen-"lasers"  overeenkomstig de vereiste toleranties. 6B007 Apparatuur voor de produktie, het richten en het ijken van op de grond gestationeerde  zwaartekrachtmeters met een statische nauwkeurigheid beter dan 0,1 milligal. 6B008 Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwarsdoorsnede met een zendimpulsduur van 100  ns of minder en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. 6B108 Systemen speciaal ontworpen voor het meten van radardwarsdoorsnedes geschikt voor gebruik in  "raketten", alsmede subsystemen daarvan. 6C MATERIALEN 6C002 Materialen voor optische sensoren: a. elementair telluur (Te) met een zuiverheidsgraad gelijk aan of hoger dan 99,9995 %; b. eenkristallen van cadmiumtelluride (CdTe), cadmiumzinktelluride (CdZnTe) of cadmiumkwiktelluride  (CdHgTe) met iedere zuiverheidsgraad, met inbegrip van epitaxiale wafers daarvan; c. "halffabrikaten ("preforms") voor glasvezels", speciaal ontworpen voor het vervaardigen van  sterk dubbelbrekende vezels bedoeld in 6A002.d.3. 6C004 Optische materialen: a. "onafgewerkte substraten" van zinkselenide (ZnSe) en zinksulfide (ZnS) vervaardigd door middel  van chemische afzetting uit de dampfase: 1. met een volume groter dan 100 cm³, of 2. met een diameter groter dan 80 mm en een dikte gelijk aan of groter dan 20 mm; b. eenkristallen van de volgende elektro-optische materialen: 1. kaliumtitanylarsenaat (KTA); 2. zilvergalliumselenide (AgGaSe2); 3. thalliumarsenicumselenide (Tl3AsSe3, ook bekend als TAS); c. niet-lineaire optische materialen met: 1. een gevoeligheid van de derde orde (chi 3) gelijk aan of minder dan 1 W/m², en 2. een reactietijd van minder dan 1 ms; d. "onafgewerkte substraten" bekleed met siliciumcarbide of beryllium beryllium (Be/Be), met een  diameter of lengte van de hoofdas groter dan 300 mm; e. materialen met lage optische absorptie, zoals: 1. fluorideverbindingen in massa die bestanddelen bevatten met een zuiverheid van 99,999 % of  meer; Noot: In 6C004.e.1 worden bedoeld fluoriden van zirkonium of aluminium en varianten daarvan. 2. fluorideglas in massa gemaakt van de verbindingen bedoeld in 6C004.e.1; f. glas, met inbegrip van gesmolten siliciumoxide, fosfaatglas, fluorfosfaatglas, zirkoniumfluoride  (ZrF4) en hafniumfluoride (HfF4) met: 1. een hydroxylion (OH)-concentratie van minder dan 5 ppm; 2. geïntegreerd metaalzuiverheidsniveau van minder dan 1 ppm, en 3. sterke homogeniteit (variantie van de brekingsindex) minder dan 5 x 10-6; g. kunstmatig geproduceerd diamantmateriaal met een absorptie van minder dan 10-5 cm-1 bij een  golflengte groter dan 200 nm doch niet groter dan 14 000 nm; h. "halffabrikaten ("preforms") voor glasvezels" gemaakt van fluorideverbindingen in massa die  bestanddelen bevatten met een zuiverheid van 99,999 % of meer, speciaal ontworpen voor de  vervaardiging van de "fluoridevezels" bedoeld in 6A004.f. 6C005 Synthetisch kristallijn "laser"-materiaal in onafgewerkte vorm, zoals hieronder vermeld: a. titaan-gedoopt saffier; b. alexandriet. 6D PROGRAMMATUUR 6D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of "produktie" van apparatuur  bedoeld in 6A004, 6A005, 6A008 of 6B008. 6D002 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur bedoeld in 6A002.b,  6A008 of 6B008. 6D003 Overige "programmatuur", zoals hieronder vermeld: a. 1. "programmatuur, speciaal ontworpen voor akoestische bundelvorming voor de "tijdgebonden  verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking van gesleepte  samenstellen en van regelmatig gerangschikte hydrofoons ("towed hydrophone arrays"); 2. "broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoestische gegevens voor passieve ontvangst  met gebruikmaking van "towed hydrophone arrays"; b. 1. "programmatuur", speciaal ontworpen voor magnetische compensatiesystemen voor magnetische  sensoren ontworpen voor bedrijf op mobiele tafels; 2. "programmatuur", speciaal ontworpen voor magnetische afwijkingsdetectie op mobiele tafels; c. "programmatuur", speciaal ontworpen voor het corrigeren van bewegingsbeïnvloeding van  zwaartekrachtmeters of zwaartekrachtgradiëntmeters; d. 1. toepassings-"programma's" van luchtverkeersleidings (ATC)-"programmatuur" die zijn  geïnstalleerd op universele computers geplaatst in een luchtverkeersleidingscentrum en geschikt  voor een of meer van de volgende functies: a. verwerking en op het scherm tonen van meer dan 150 gelijktijdige "systeemsporen"; b. ontvangst van radargegevens over een doel afkomstig van meer dan vier primaire radars, of c. automatisch doorgeven van primaire radardoelgegevens (indien niet samengevoegd met secundaire  loodsradar (SSR)-gegevens) van het gastheer-ATC-centrum aan een ander ATC-centrum; 2. "programmatuur" voor het ontwerpen of de "produktie" van radarkoepels die: a. speciaal zijn ontworpen voor het beschermen van de "elektronisch bestuurbare fasegestuurde  antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" ("phased array antennae")  bedoeld in 6A008.e, en b. de gemiddelde toename van het zijlobbenniveau beperken tot minder dan 13 dB bij frequenties  gelijk aan of hoger dan 2 GHz. 6D102 "Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" van in 6A108 bedoelde goederen. 6D103 "Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" van in 6A108 bedoelde goederen. 6E TECHNOLOGIE 6E001 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur,  materialen of "programmatuur" bedoeld in 6A, 6B, 6C of 6D. 6E002 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "produktie" van apparatuur of  materialen bedoeld in 6A, 6B of 6C. 6E003 Overige "technologie": a. 1. "technologie" voor de optische bekleding en behandeling van het oppervlak, benodigd voor het  verkrijgen van een uniformiteit van 99,5 % of beter voor optische bekledingslagen met een diameter  of lengte van de hoofdas van 500 mm of meer en met een totaal verlies (absorptie en verstrooiing)  van minder dan 5 x 10-3; 2. optische fabricagetechnologieën, zoals hieronder vermeld: a. voor serieproduktie van optische componenten in een tempo van meer dan 10 m² oppervlak per jaar  op één enkele as en met: 1. een produktieoppervlak groter dan 1 m², en 2. een oppervlaktegetal groter dan lambda/10 effectief (rms) bij de aangewezen golflengte; b. eenpuntsdiamant-draaitechnieken die afgewerkte oppervlakken leveren met een nauwkeurigheid beter  dan 10 nm effectief (rms) op niet vlakke oppervlakken groter dan 0,5 m²; N.B.: Zie ook 2E003.d. b. 1. "technologie" voor optische filters met een bandbreedte gelijk aan of minder dan 10 nm, een  gezichtsveld (FOV) groter dan 40° en een resolutie groter dan 0,75 lijnenparen per milliradiaal; 2. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling", "produktie" of het "gebruik" van speciaal  ontworpen diagnostische instrumenten of trefplaten in testvoorzieningen voor SHPL-systemen ("super  high power laser") of voor het testen of onderzoek van door SHPL-bundels bestraalde materialen; c. technologie, "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van "magnetometers" of  "magnetometer"-systemen met aardinductie, met een ruisniveau: 1. van minder dan 0,05 nT effectieve waarde bij een frequentie lager dan 1 Hz, of 2. van 1 x 10-3 nT effectieve waarde bij een frequentie van 1 Hz of meer. 6E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur en  "programmatuur" bedoeld in 6A002, 6A007.b en c, 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 of 6D103. Noot: In 6E101 wordt alleen "technologie" bedoeld voor apparatuur bedoeld in 6A008, wanneer deze is  ontworpen voor gebruik in vliegtuigen en geschikt is voor gebruik in "raketten". 6E202 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van apparatuur  bedoeld in 6A003, 6A005.a.1.c, 6A005.a.2.a, 6A005.c.1.b, 6A005.c.2.c.2, 6A005.c.2.d.2.b, 6A202,  6A203, 6A205, 6A225 of 6A226. CATEGORIE 7 NAVIGATIE EN VLIEGTUIGELEKTRONICA 7A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 7A001 Versnellingsmeters ontworpen voor gebruik in traagheidsnavigatie- of geleidingssystemen en  met een of meer van de volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: NB: Zie ook 7A101. a. een "stabiliteit" van de "bias" kleiner (beter) dan 130 micro g ten opzichte van een vaste  ijkwaarde over een periode van één jaar; b. een "stabiliteit" van de "schaalfactor" kleiner (beter) dan 130 ppm ten opzichte van een vaste  ijkwaarde over een periode van één jaar, of c. gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g. 7A002 Gyroscopen met een of meer van de volgende kenmerken en speciaal daarvoor ontworpen  onderdelen: NB: Zie ook 7A102. a. een "stabiliteit" van de "verloopsnelheid", indien gemeten bij een versnellingsniveau van 1 g  over een periode van drie maanden en ten opzichte van een vaste ijkwaarde, van: 1. minder (beter) dan 0,1 graad per uur indien de gyroscoop is gespecificeerd om ononderbroken te  werken bij een lineair versnellingsniveau onder de 10 g, of 2. minder (beter) dan 0,5 graad per uur indien de gyroscoop is gespecificeerd om te werken bij  lineaire versnellingsniveaus van 10 t/m 100 g; b. gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g. 7A003 Traagheidsnavigatiesystemen (zowel met cardanische ophanging als vast) en  traagheidsapparatuur voor standregeling, geleiding of besturing met een of meer van de volgende  kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: NB: Zie ook 7A103. a. voor "vliegtuigen": 1. (vrije-traagheids)navigatiefout van 0,8 zeemijl per uur (50 % circular error probable (CEP)) of  minder (beter) na normale uitrichting; 2. niet gecertificeerd voor gebruik op "civiele vliegtuigen" door een "civiele  luchtvaartautoriteit", of 3. gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 10 g; b. voor gebruik aan land of voor "ruimtevaartuigen": 1. (vrije-traagheids)navigatiefout van 0,8 zeemijl per uur (50 % CEP) of minder (beter) na normale  uitrichting, of 2. gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 10 g. 7A004 Astrogyrokompassen en andere apparaten voor het bepalen van plaats en richting door het  automatisch volgen van hemellichamen of satellieten, met een azimutnauwkeurigheid gelijk aan of  kleiner (beter) dan 5 boogseconden. NB: Zie ook 7A104. 7A005 GPS ("global positioning")-satellietontvangers met één van beide volgende kenmerken, en  speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: NB: Zie ook 7A105. a. maakt gebruik van omzetting/ontcijfering van gegevens in geheime codering, of b. met een bestuurbare antenne met nulstand. 7A006 Hoogtemeters voor gebruik in luchtvaartuigen met werkfrequenties buiten het gebied van 4,2  t/m 4,4 GHz, met één van beide volgende kenmerken: NB: Zie ook 7A106. a. "vermogensaanpassing", of b. maakt gebruik van fasemodulatie ("phase shift key modulation"). (Voor automatische piloten voor onderwatervoertuigen zie categorie 8, voor radar zie categorie 6.) 7A101 Versnellingsmeters, anders dan bedoeld in 7A001, met een drempelwaarde van 0,05 g of minder  of een lineariteitsafwijking binnen 0,25 % van de gehele schaal, die ontworpen zijn voor gebruik in  traagheidsnavigatiesystemen of in geleidingssystemen van alle soorten en speciaal daarvoor  ontworpen onderdelen. Noot: Versnellingsmeters die speciaal ontworpen en ontwikkeld zijn als sensoren voor gebruik  tijdens het boren (MWD-sensoren) en voor gebruik in boorputten zijn niet bedoeld in 7A101. 7A102 Alle types gyroscopen, anders dan bedoeld in 7A002, geschikt voor gebruik in "raketten" met  een gespecificeerde "stabiliteit" van de "verloopsnelheid" (een gespecificeerde vrije precessie)  van minder dan 0,5 graad (1 sigma of effectief (rms)) per uur bij een versnellingsniveau van 1 g en  speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. 7A103 Instrumentatie, navigatieapparatuur en systemen, anders dan bedoeld in 7A003, zoals hieronder  vermeld, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor: a. apparatuur voor traagheidsnavigatie of andere apparatuur, die gebruik maakt van  versnellingsmeters of gyroscopen als bedoeld in 7A001, 7A002, 7A101 of 7A102, en systemen die  dergelijke apparatuur bevatten; b. geïntegreerde besturingssystemen voor vliegtuigen, bevattende gyrostabilisatoren of automatische  piloten, ontworpen of aangepast voor gebruik in de systemen bedoeld in 9A004 of 9A104. 7A104 Astrogyrokompassen en andere apparaten, anders dan bedoeld in 7A004, voor het bepalen van  plaats en richting door het automatisch volgen van hemellichamen of satellieten, en speciaal  daarvoor ontworpen onderdelen. 7A105 GPS-systemen ("global positioning systems") of vergelijkbare satellietontvangers, anders dan  bedoeld in 7A005, geschikt om navigatiegegevens te leveren bij de volgende bedrijfsomstandigheden  en ontworpen of aangepast voor gebruik in systemen bedoeld in 9A004 of 9A104: a. bij snelheden boven 515 m/s, en, b. op hoogten boven 18 km. 7A106 Hoogtemeters, anders dan bedoeld in 7A006, van het radar- of laserradartype, ontworpen of  aangepast voor gebruik in systemen bedoeld in 9A004 of 9A104. 7A115 Passieve sensoren voor het bepalen van de positie ten opzichte van bepaalde  elektromagnetische bronnen (richtingsbepalingsapparatuur) of van karakteristieken van het terrein,  ontworpen of aangepast voor gebruik in systemen bedoeld in 9A004 of 9A104. Noot: Post 7A115 bevat onder meer sensoren voor: a. apparatuur voor het bepalen van het profiel van het aardoppervlak; b. beeldapparatuur; c. interferometers. 7A116 Vluchtregelsystemen, zoals hieronder vermeld, ontworpen of aangepast voor de systemen bedoeld  in 9A004 of 9A104: a. hydraulische, mechanische, elektro-optische, elektromechanische of  "fly-by-wire"-vluchtregelsystemen; b. standregelapparatuur. 7A117 "Geleidingssystemen" geschikt voor gebruik in "raketten" met een systeemnauwkeurigheid van  3,33 % of minder van het bereik (een "CEP" ("circle of equal probability") van 10 km of minder bij  een bereik van 300 km). 7B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 7B001 Test-, ijk- of uitrichtapparatuur speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 7A, met  uitzondering van apparatuur voor onderhoudsniveau I of onderhoudsniveau II. Technische noten: 1. Onderhoudsniveau I De storing van een traagheidsnavigatie-eenheid wordt aan boord van het vliegtuig ontdekt via  aanwijzingen van de besturings- en beeldeenheid ("control and display unit" (CDU)) of via de  toestandinformatie van het overeenkomstige subsysteem. Aan de hand van het handboek van de  fabrikant kan de storing worden gelokaliseerd op het niveau van de niet goed functionerende "line  replaceable unit" (LRU). De operateur verwijdert vervolgens de LRU en vervangt deze door een  reserve-eenheid. 2. Onderhoudsniveau II De defecte LRU wordt naar de onderhoudswerkplaats gestuurd (van de fabrikant of van de voor  onderhoudsniveau II verantwoordelijke operateur). In de werkplaats wordt de defecte LRU getest met  de daarvoor geëigende middelen teneinde het defecte, in de werkplaats vervangbare ("shop  replaceable assembly" (SRA)) moduul dat voor de storing verantwoordelijk is, te controleren en te  lokaliseren. Dit SRA-moduul wordt verwijderd en vervangen door een goedwerkend reservemoduul. De  defecte SRA (of eventueel de complete LRU) wordt vervolgens naar de fabrikant gezonden. NB: Onderhoudsniveau II omvat niet het verwijderen van onder embargo vallende versnellingsmeters of  gyrosensoren uit de SRA. 7B002 Apparatuur, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor het bepalen van de  karakteristieken van spiegels voor ring-"laser"-gyroscopen: NB: Zie ook 7B102. a. verstrooiingsmeters met een meetnauwkeurigheid van 10 ppm of minder (beter); b. profielmeters met een meetnauwkeurigheid van 0,5 nm (5 aangstroem) of minder (beter). 7B003 Apparatuur speciaal ontworpen voor de produktie van apparatuur bedoeld in 7A, met inbegrip  van: a. proefbanken voor het afstemmen van gyroscopen; b. dynamische uitbalanceerbanken voor gyroscopen; c. proefbanken voor het inlopen/testen van de gyromotor; d. apparatuur voor het leegmaken en vullen van gyroscopen; e. centrifugale bevestigingen voor gyroscooplagers; f. uitlijnbanken voor versnellingsmeters. 7B102 Reflectometers speciaal ontworpen voor het karakteriseren van spiegels voor  "laser"-gyroscopen met een meetnauwkeurigheid van minder (of beter) dan 50 ppm. 7B103 Speciaal ontworpen "produktiefaciliteiten" voor apparatuur bedoeld in 7A117. 7C MATERIALEN Geen. 7D PROGRAMMATUUR 7D001 "Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of "produktie" van  apparatuur bedoeld in 7A of 7B. 7D002 "Broncode" voor het "gebruik" van iedere traagheidsnavigatie-apparatuur of  standkoersreferentiesystemen ("Attitude Heading Reference System" (AHRS)) (met uitzonderling van  AHRS met cardanische ophanging) met inbegrip van traagheidsapparatuur die niet is bedoeld in 7A003  of 7A004. Technische noot: Het verschil tussen AHRS en traagheidsnavigatiesystemen (INS) is dat in het  algemeen AHRS standkoersgegevens verschaft en gewoonlijk niet de gegevens omtrent versnelling,  snelheid en positie verschaft die een INS wel levert. 7D003 Overige "programmatuur", zoals hieronder vermeld: a. "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor verbetering van de operationele prestaties  of vermindering van de navigatiefout van systemen tot de niveaus vermeld in 7A003 of 7A004; b. "broncode" voor hybride geïntegreerde systemen waardoor de operationele prestaties van het  systeem worden verbeterd of de navigatiefout wordt verkleind tot het niveau vermeld in 7A003, door  middel van continue combinatie van traagheidsgegevens met een of meer van de volgende  navigatiegegevens: 1. Doppler radarsnelheidsbepaling; 2. GPS ("global positioning satellite")-referenties, of 3. terreingegevensbestand;c. "broncode" voor geïntegreerde vliegtuigelektronica- of  vluchtprofielsystemen die gegevens van sensoren combineren en gebruik maken van  kennis-expertsystemen; d. "broncode" voor de "ontwikkeling" van: 1. digitale vluchtbeheersingssystemen voor optimalisering van de vliegroute; 2. geïntegreerde voorstuwings- en vluchtregelsystemen; 3. elektrische of opto-elektronische vluchtregelsystemen ("fly by wire"/"fly by light"); 4. foutbestendige of zichzelf herconfigurerende "actieve vluchtregelsystemen"; 5. automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen; 6. vluchtgegevenssystemen gebaseerd op statische gegevens van het grondoppervlak; 7. voorruitpresentatie ("head up") van het rastertype of met driedimensionale presentatie. 7D101 Speciaal ontworpen "programmatuur" voor vliegtuigelektronica als bedoeld in 7A001 t/m 7A006,  7A101 t/m 7A106, 7A115, 7B002, 7B003, 7B102 of 7B103. 7D102 Integratie-"programmatuur" voor apparatuur als bedoeld in 7A003 en 7A103. 7D103 "Programmatuur" speciaal ontworpen voor het modelleren of simuleren van de  "geleidingssystemen" bedoeld in 7A117 of voor de ontwerp-integratie met systemen bedoeld in 9A004  of 9A104. Noot: "Programmatuur" bedoeld in 7A103 blijft bedoeld, ook wanneer deze wordt gecombineerd met de  speciaal ontworpen apparatuur bedoeld in 4A102. 7E TECHNOLOGIE 7E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van  apparatuur of "programmatuur" bedoeld in 7A, 7B of 7D. 7E002 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "produktie" van apparatuur  bedoeld in 7A of 7B. 7E003 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor reparatie, opknappen of revisie  van apparatuur bedoeld in 7A001 t/m 7A004, met uitzondering van onderhoudstechnologie die direct  verband houdt met de ijking, verwijdering of vervanging van beschadigde of onbruikbare LRU's en  SRA's van "civiele vliegtuigen" als omschreven in onderhoudsniveau I en onderhoudsniveau II. (Zie  de technische noten bij 7B001.) 7E004 Overige "technologie", zoals hieronder vermeld: a. technologie voor de "ontwikkeling" of "produktie" van: 1. automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in vliegtuigen met een werkfrequentie  hoger dan 5 MHz; 2. vluchtgegevenssystemen die uitsluitend zijn gebaseerd op statische gegevens van het  grondoppervlak, d.w.z. die geen conventionele richtantennes nodig hebben; 3. voorruitpresentatie ("head up") van het rastertype of met driedimensionale presentatie voor  "vliegtuigen"; 4. traagheidsnavigatiesystemen of astrogyrokompassen die versnellingsmeters of gyroscopen bevatten  die zijn bedoeld in 7A001 of 7A002; b. "ontwikkelings"-"technologie", zoals hieronder vermeld, voor "actieve vluchtregelsystemen" met  inbegrip van elektrische of opto-elektronische besturing ("fly by wire"/"fly by light"): 1. "technologie" voor het ontwerpen van de configuratie voor het koppelen van meervoudig  samengestelde micro-elektronische verwerkingselementen (boordcomputers) voor het verkrijgen van  "tijdgebonden ("real time") gegevensverwerking" ter uitvoering van de besturingswet ("control  law"); 2. "technologie" voor "control law"-compensatie voor de plaatsing van de sensoren en voor  dynamische belastingen op de romp, d.w.z. compensatie voor het trillen van de sensoren en voor  variatie in de plaats van de sensoren ten opzichte van het zwaartepunt; 3. "technologie" voor elektronische manipulatie van gegevens- of systeemredundantie voor het  opsporen van storingen, storingsbestendigheid, de isolatie van storingen of herconfiguratie; Noot: Niet bedoeld wordt in 7E004.b.3 "technologie" voor het ontwerpen van fysieke redundantie. 4. "technologie" voor het ontwerpen van vluchtregelapparatuur die tijdens de vlucht herindeling van  kracht- en momentregeleenheden mogelijk maakt ten behoeve van autonome tijdgebonden ("real time")  besturing van het luchtvoertuig; 5. "technologie" voor het integreren van digitale vluchtregel-, navigatie- en  voortstuwingsregelgegevens in een digitaal vluchtbeheerssysteem om de vliegroute te optimaliseren,  met uitzondering van "ontwikkelings"-"technologie" voor vluchtinstrumentsystemen voor vliegtuigen,  welke uitsluitend worden geïntegreerd voor navigatie of aanvliegen met behulp van VOR, DME, ILS of  MLS; 6. volledig zelfstandige digitale systemen voor vluchtbeheersing (FADFC), of systemen voor  vluchtprofielbeheersing met behulp van verscheidene sensoren die kennis-"expertsystemen" omvatten; (Zie 9E003.a.10 voor technologie voor "full authority digital engine control" (Fadec).); c. "technologie" voor de "ontwikkeling" van hefschroefvliegtuigsystemen, zoals hieronder vermeld: 1. meerassige elektrische of opto-elektronische besturingen ("fly by wire"/"fly by light") die ten  minste twee van de volgende functies in één regelelement verenigen: a. collectieve bladverstelling ("collective control"); b. cyclische bladverstelling ("cyclic control"); c. gierbesturing ("yaw control"); 2. "luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen"; 3. rotorbladen met "aërodynamische vlakken met variabel profiel" voor toepassing in systemen die  gebruik maken van afzonderlijke besturing van de rotorbladen. 7E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur  bedoeld in 7A001 t/m 7A006, 7A101 t/m 7A106, 7A115 t/m 7A117, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103, 7D101 t/m  7D103. 7E102 Ontwerp-"technologie" voor bescherming van elektronische vliegtuigsystemen en elektrische  subsystemen tegen elektromagnetische impulsen (EMP) en elektromagnetische storingen (EMI) door  buiten het systeem gelegen bronnen, zoals: a. "technologie" voor het ontwerpen van afschermsystemen; b. "technologie" voor het ontwerpen van de configuratie van stralingbestendige elektrische  schakelingen en subsystemen; c. bepaling van criteria voor het stralingbestendig maken van de onder a en b bedoelde systemen. 7E104 "Technologie" voor het integreren van vluchtregel-, navigatie- en voortstuwingsregelgegevens  in een vluchtbeheerssysteem om de baan van de raket te optimaliseren. CATEGORIE 8 ZEEWEZEN EN SCHEPEN 8A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 8A001 Onderwatervoertuigen of oppervlaktevaartuigen, zoals hieronder vermeld: Noot: Voor de embargostatus van apparatuur voor onderwatervoertuigen zie: - categorie 5: "Informatiebeveiliging" voor communicatieapparatuur met cryptografie; - categorie 6 voor sensoren; - de categorieën 7 en 8 voor navigatieapparatuur; - categorie 8A voor onderwaterapparatuur. a. getuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1  000 m; b. ongetuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik: 1. ontworpen om "autonoom te opereren" en met een hijsvermogen van: a. 10 % of meer van het eigen gewicht in de lucht, en b. 15 kN of meer; 2. ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m, of 3. a. ontworpen voor een bemanning van vier of meer personen; b. ontworpen om gedurende tien uur of meer "autonoom te opereren"; c. met een "bereik" van 25 zeemijlen of meer, en d. met een lengte van 21 m of korter; c. getuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik, ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1  000 m: 1. ontworpen voor zelfaangedreven manoeuvreren met gebruik van druk- of stuwmotoren bedoeld in  8A002.a.2, of 2. met een gegevensverbindingskabel van glasvezels; d. ongetuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik: 1. ontworpen voor het bepalen van een koers ten opzichte van een geografisch referentiepunt zonder  tijdgebonden ("real time") ingrijpen van de mens; 2. met een akoestische gegevens- of besturingsverbinding, of 3. met een gegevens- of besturingsverbindingskabel van glasvezels langer dan 1 000 m; e. systemen voor berging op zee met een hijscapaciteit groter dan 5 MN voor berging van voorwerpen  die zich op een diepte van meer dan 250 m bevinden en met één van beide volgende systemen: 1. dynamische positioneersystemen geschikt voor het handhaven van een positie binnen 20 m van een  door het navigatiesysteem opgegeven punt, of 2. systemen voor navigatie op de zeebodem en voor navigatieintegratie voor een diepte groter dan 1  000 m met een positioneernauwkeurigheid tot op 10 m nauwkeurig van een vooraf vastgesteld punt; f. vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten ("fully skirted variety")) met een maximale  ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 30 knopen in golven van 1,25 m of hoger (toestand van  het zeeoppervlak ("sea state"); 3), een luchtkussendruk van meer dan 3 830 Pa en een  ongeladen-volgeladen waterverplaatsingsverhouding van minder dan 0,70; g. vaartuigen met grondeffect (met vaste zijwand ("rigid sidewall")) met een maximale  ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan 40 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand van  het zeeoppervlak ("sea state"): 5);h. draagvleugelboten met actieve systemen voor automatische besturing van de vleugelsystemen, met  een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van 40 knopen of meer in golven van 3,25 m of hoger  (toestand van het zeeoppervlak ("sea state"): 5); i. vaartuigen met geringe rompdoorsnede met: 1. een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij  volle lading van meer dan 35 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak  ("sea state"): 5), of 2. een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 1 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid  bij volle lading van meer dan 25 knopen in golven van 4 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak  ("sea state"): 6). Technische noot: Voor vaartuigen met geringe rompdoorsnede geldt de volgende formule als definitie:  rompdoorsnede bij een operationele ontwerpdiepgang kleiner dan 2 × (waterverplaatsing bij de  operationele ontwerpdiepgang) . 8A002 Systemen of apparatuur, als hieronder vermeld: Noot: Zie categorie 5 (Telecommunicatie) voor communicatiesystemen voor gebruik onder water. a. systemen of apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor onderwatervoertuigen ontworpen voor  een werkdiepte van meer dan 1 000 m, zoals: 1. drukvaste omhullingen of rompen met een maximale inwendige diameter groter dan 1,5 m; 2. gelijkstroom-druk- of -stuwmotoren;3. voedingsleidingen en koppelingen daarvoor waarin glasvezels zijn gebruikt en met synthetische  versterkingen; b. systemen speciaal ontworpen of aangepast voor het automatisch besturen van de bewegingen van  apparatuur voor onderwatervoertuigen bedoeld in 8A001, waarbij gebruik wordt gemaakt van  navigatiegegevens en teruggekoppelde servobesturingen zodat: 1. het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gebracht kan worden; 2. het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt in de waterkolom gehouden kan worden,  of 3. het voertuig binnen 10 m van een te volgen kabel op of onder de zeebodem gehouden kan worden; c. glasvezeldoorvoeren of -doorvoerkoppelingen voor rompen; d. systemen voor onderwaterzien, zoals: 1. a. televisiesystemen (bestaande uit camera, lampen, controleapparatuur en apparatuur voor de  overdracht van signalen) met een systeemoplossend vermogen, gemeten in de lucht, van meer dan 500  lijnen, die speciaal ontworpen of aangepast zijn om op afstand bediend te worden in een  onderwatervoertuig, of b. onderwatertelevisiecamera's met een systeemoplossend vermogen, gemeten in de lucht, van meer dan  700 lijnen; Technische noot: Het systeemoplossende vermogen voor televisie is een maat voor het horizontale oplossende vermogen  dat gewoonlijk wordt uitgedrukt als het maximale aantal lijnen per beeldschermhoogte dat op een  testkaart onderscheiden kan worden, met toepassing van IEEE Standard 208/1960 of een equivalente  norm. 2. systemen speciaal ontworpen of aangepast voor de bediening op afstand in een onderwatervoertuig,  waarbij gebruik wordt gemaakt van technieken, zoals speciaal gerichte verlichting ("range-gated  illuminators") of "laser"-systemen, om de weerkaatsing van het licht zo laag mogelijk te houden; 3. televisiecamera's voor gebruik bij gering lichtniveau, speciaal ontworpen of aangepast voor  gebruik onder water, welke omvatten: a. beeldversterkingsbuizen bedoeld in 6A002.a.2.a, en b. meer dan 150 000 "actieve pixels" per halfgeleider-"array"; e. fotografische camera's speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, met een  filmformaat van 35 mm of groter, en: 1. de film kan worden voorzien van gegevens vanuit een bron van buiten de camera; 2. met automatische focussering of op afstand bestuurde focussering, speciaal ontworpen voor  gebruik onder water;  3.met automatische nacorrectie van de brandpuntsafstand, of 4. met automatische compensatieregeling, speciaal ontworpen om het gebruik van  onderwatercamerahuizen op een diepte van meer dan 1 000 m mogelijk te maken; f. elektronische beeldsystemen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, geschikt  voor digitale opslag van meer dan 50 belichte beelden; g. lichtbronnen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder water, zoals: 1. stroboscopische lichtbronnen met een lichtopbrengst van meer dan 300 J per flits; 2. argonbooglichtbronnen speciaal ontworpen voor gebruik op een diepte van meer dan 1 000 m; h. "robots" speciaal ontworpen voor gebruik onder water, bestuurd door middel van een  toepassinggerichte computer met opgeslagen programma: 1. met systemen die voor de besturing van de "robot" gebruik maken van gegevens van sensoren die  krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of de  aanraking tussen de "robot" en een extern voorwerp meten, of 2. geschikt voor het uitoefenen van een kracht van 250 N of meer of een koppel van 250 Nm of meer  en gebruik makend van op titaan gebaseerde legeringen of "stapel- of continuvezel"  -"composiet"-materialen in hun constructie-elementen; i. op afstand bediende, scharnierende manipulators, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik  met onderwatervoertuigen: 1. met systemen die voor de besturing van de manipulator gebruik maken van gegevens van sensoren  die krachten of koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot een extern voorwerp of  de aanraking tussen de manipulator en een extern voorwerp meten, of 2. bestuurd met behulp van evenredige meester-slaaf-technieken of door gebruik te maken van een  toepassinggerichte computer met opgeslagen programma, en met een aantal vrijheidsgraden van  beweging van 5 of meer; Noot: Bij de bepaling van het aantal vrijheidsgraden van beweging worden uitsluitend meegeteld de  functies met evenredige besturing die gebruik maken van positieterugkoppeling of van een  toepassinggerichte computer met opgeslagen programma. j. geen lucht vereisende aandrijfsystemen speciaal ontworpen voor gebruik onder water, zoals: 1. geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van het type Brayton, Stirling of  Rankinecyclus, met een of meer van de volgende kenmerken: a. chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van  kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor; b. speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen; c. toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties  lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, of d. systemen die speciaal zijn ontworpen: 1. voor het onder druk brengen van verbrandingsprodukten of voor het opnieuw vormen van brandstof; 2. voor de opslag van verbrandingsprodukten, en 3. voor de lozing van verbrandingsprodukten tegen een druk in van 100 kPa of meer; 2. geen lucht vereisende systemen met een dieselmotor met alle volgende kenmerken: a. chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal ontworpen voor het verwijderen van  kooldioxide, koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaatgassen van de motor; b. speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van eenatomige gassen; c. toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties  lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, of d. speciaal ontworpen uitlaatsystemen die niet zonder onderbreking verbrandingsprodukten  uitstoten; 3. geen lucht vereisende brandstofcelsystemen met een uitgangsvermogen van meer dan 2 kW met één  van beide volgende kenmerken: a. toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor geluiddemping onder water voor frequenties  lager dan 10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen, of b. systemen die speciaal zijn ontworpen: 1. voor het onder druk brengen van verbrandingsprodukten of voor het opnieuw vormen van brandstof; 2. voor de opslag van verbrandingsprodukten, en 3. voor de lozing van verbrandingsprodukten tegen een druk in van 100 kPa of meer; k. schorten, afdichtingen en "vingers", zoals hieronder vermeld: 1. ontworpen voor een luchtkussendruk van 3 830 Pa of meer, werkend in golven van 1,25 m of hoger  (toestand van het zeeoppervlak ("sea state"): 3) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met  grondeffect (type volledig met schorten ("fully skirted variety")) bedoeld in 8A001.f; 2. ontworpen voor een luchtkussendruk van 6 224 Pa of meer, werkend in golven van 3,25 m of hoger  (toestand van het zeeoppervlak ("sea state"): 5) en speciaal ontworpen voor vaartuigen met  grondeffect (type met vaste zijwand ("rigid sidewalls")) bedoeld in 8A001.g; l. stuwventilatoren gespecificeerd voor meer dan 400 kW, speciaal ontworpen voor vaartuigen met  grondeffect bedoeld in 8A001.f of 8A001.g; m. geheel onder water werkende sub- of supercaviterende draagvleugels speciaal ontworpen voor  vaartuigen bedoeld in 8A001.h; n. actieve systemen speciaal ontworpen of aangepast voor de automatische beheersing van door de zee  veroorzaakte bewegingen van voertuigen of vaartuigen bedoeld in 8A001.f, g, h of i; o. 1. scheepsschroefsystemen of krachtoverbrengingssystemen, zoals hieronder vermeld, speciaal  ontworpen voor vaartuigen met grondeffect (volledig met schorten ("fully skirted variety") of met  vaste zijwand ("rigid sidewall variety")), draagvleugelboten of vaartuigen met geringe  rompdoorsnede bedoeld in 8A001.f, g, h of i: a. supercaviterende, supergeventileerde, gedeeltelijk onder water werkende ("partially submerged")  of door het wateroppervlak heen brekende schroeven voor een vermogen van meer dan 7,5 MW; b. systemen met tegengesteld draaiende schroeven voor een vermogen van meer dan 15 MW; c. systemen waarin draaikolktechnieken ("pre-swirl" of "post-swirl") worden toegepast voor het  effenen van de waterstroom naar de schroef; d. lichtgewicht tandwieloverbrengingen voor hoge vermogens (K-factor groter dan 300); e. assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt  voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 1 MW; 2. scheepsschroef-, krachtopwekkings- of krachtoverbrengingssystemen voor gebruik in schepen,  zoals: a. schroeven met regelbare spoed en naafsamenstellingen voor een vermogen van meer dan 30 MW; b. met interne vloeistofkoeling en elektrische voortstuwingsmotoren met een vermogen groter dan 2,5  MW; c. "supergeleidende" voortstuwingsmotoren, of elektrische voortstuwingsmotoren met permanente  magneet, met een vermogen van meer dan 0,1 MW; d. assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit "composiete" materialen bevatten, geschikt  voor het overbrengen van een vermogen van meer dan 2 MW; e. geventileerde of basisgeventileerde schroefsystemen voor een vermogen van meer dan 2,5 MW; 3. geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een waterverplaatsing van 1 000 ton of meer,  zoals: a. geluiddempingssystemen die dempen bij frequenties lager dan 500 Hz en bestaan uit samengestelde  akoestische ophanginrichtingen voor het akoestisch isoleren van dieselmotoren, dieselaggregaten,  gasturbines, gasturbineaggregaten, voortstuwingsmotoren of tandwieloverbrengen voor voortstuwing,  speciaal ontworpen voor geluids- of trillingsisolatie, met een dempende massa van meer dan 30 % van  de te monteren apparatuur;  b. actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magnetische lagers, speciaal ontworpen voor  krachtoverbrengingssystemen, die elektronische regelsystemen bevatten geschikt voor actieve demping  van de trillingen van de apparatuur door het voortbrengen van geluid of trilling onderdrukkende  signalen die direct naar de bron worden teruggekoppeld; p. waterstraal ("pumpjet")-voortstuwingssystemen met een vermogen van meer dan 2,5 MW, welke  gebruik maken van uitlopende straalbuizen en geleide-schoepentechnieken om de  voortstuwingsefficiëntie te verbeteren en het onderwatergeluid veroorzaakt door de voortstuwing te  verminderen. 8B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 8B001 Watertunnels, met een achtergrondruis van minder dan 100 dB (referentie: 1 micropascal, 1 Hz)  in het frequentiegebied van 0 tot 500 Hz, ontworpen voor het meten van akoestische velden  voortgebracht door een waterstroming rond modellen van voortstuwingssystemen. 8C MATERIALEN 8C001 Syntactisch schuim voor gebruik onder water: a. ontworpen voor toepassing onder water bij een diepte groter dan 1 000 m, en b. met een dichtheid lager dan 561 kg/m³. Technische noot: Syntactisch schuim bestaat uit holle bolletjes van kunststof of glas die zijn ingebed in een  harsmatrix. 8D PROGRAMMATUUR 8D001 "Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", "produktie" of het  "gebruik" van apparatuur of materialen bedoeld in 8A, 8B of 8C. 8D002 Specifieke "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de  "produktie", het herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven  die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken. 8E TECHNOLOGIE 8E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of  "produktie" van apparatuur of materialen bedoeld in 8A, 8B of 8C. 8E002 Overige "technologie", zoals hieronder vermeld: a. "technologie" voor de "ontwikkeling", de "produktie", het herstel, de revisie of het opknappen  (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te  beperken; b. "technologie" voor de revisie of het opknappen van apparatuur bedoeld in 8A001, 8A002.b, j, o of  p. CATEGORIE 9 VOORTSTUWINGSSYSTEMEN, RUIMTEVOERTUIGEN EN VERWANTE APPARATUUR 9A APPARATUUR, SAMENSTELLINGEN EN ONDERDELEN 9A001 Gasturbinemotoren voor luchtvaartuigen die technologieën bevatten die bedoeld zijn in  9E003.a, zoals hieronder vermeld: NB: Zie ook 9A101. a. niet gecertificeerd voor de specifieke "civiele vliegtuigen" waarvoor zij zijn bedoeld; b. niet gecertificeerd voor civiel gebruik door een "civiele luchtvaartautoriteit"; c. ontworpen om zich gedurende meer dan 30 minuten voort te bewegen met een snelheid van meer dan  Mach 1,2. 9A002 Gasturbinemotoren voor schepen met een volgens ISO-normen continu vermogen van 24 245 kW of  meer en een specifiek brandstofverbruik van minder dan 0,219 kg/kWh op elk punt binnen het  vermogensbereik van 35 tot 100 %, en speciaal daarvoor ontworpen samenstellingen en onderdelen. Noot: De term "gasturbinemotoren voor schepen" omvat tevens industriële of oorspronkelijk voor  vliegtuigen bestemde gasturbinemotoren die zijn aangepast voor de voortstuwing van schepen of de  opwekking van elektriciteit aan boord van schepen. 9A003 Speciaal ontworpen samenstellingen en onderdelen, die technologieën bevatten die bedoeld zijn  in 9E003.a, voor onderstaande gasturbinemotorvoortstuwingssystemen: a. bedoeld in 9A001, of b. die oorspronkelijk zijn ontworpen of vervaardigd in een aan de fabrikant onbekend land. Noot: Niet bedoeld zijn in 9A003 branders met verscheidene koppen die werken met een gemiddelde  branderuitlaattemperatuur gelijk aan of lager dan 1 813 K (1 540 °C). 9A004 Ruimtelanceervoertuigen of "ruimtevaartuigen" (de nuttige lading daarvoor niet inbegrepen). NB: Zie ook 9A104. (Zie voor de embargostatus van produkten die zich in de nuttige lading van "ruimtevaartuigen"  bevinden de desbetreffende categorieën.) 9A005 Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof die systemen of onderdelen bevatten die  zijn bedoeld in 9A006. NB: Zie ook 9A105 en 9A119. 9A006 Systemen of onderdelen, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor  raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof: NB: Zie ook 9A106 en 9A108. a. cryogene koelinrichtingen, uiterst lichte dewarvaten, cryogene warmtebuizen of cryogene  systemen, speciaal ontworpen voor gebruik in ruimtevoertuigen en in staat om het verlies aan  cryogene vloeistof te beperken tot minder dan 30 % per jaar; b. cryogene vaten of koelsystemen met gesloten kringloop, geschikt voor het bereiken van  temperaturen van 100 K (-173 °C) of lager, voor "vliegtuigen" die ononderbroken kunnen vliegen met  een snelheid van meer dan Mach 3, voor lanceervoertuigen of voor "ruimtevaartuigen"; c. systemen voor opslag of transport van waterstof bij het smeltpunt ("slush hydrogen"); d. hogedrukturbopompen (meer dan 17,5 MPa), pomponderdelen of de aangesloten gasgenerator- of  expansiecyclusturbineaandrijfsystemen; e. hogedrukverbrandingskamers (meer dan 10,6 MPa) en straalpijpen daarvoor; f. stuwstofopslagsystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van het principe van capillaire insluiting  of positieve uitstoting (d.w.z. met flexibele brandstoftanks). 9A007 Raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof met een of meer van de volgende kenmerken: NB: Zie ook 9A119. a. 1. totale impulsvermogen groter dan 1,1 MNs, of 2. specifieke impuls van 2,4 kNs/kg of meer wanneer men de straalpijpstroom laat uitzetten tot  omgevingsomstandigheden op zeeniveau bij een aangepaste druk in de verbrandingskamer van 7 MPa; b. 1. massabeladingstrap hoger dan 88 %, en 2. vaste brandstofbelading groter dan 86 %; c. een of meer van de onderdelen bedoeld in 9A008, of d. isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die direct met de motor zijn  verbonden, ter verkrijging van een sterke mechanische verbinding of een grenslaag die migratie van  chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling  voorkomt. 9A008 Onderdelen, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met  vaste stuwstof: NB: Zie ook 9A108. a. isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof, die gebruik maken van een huls  ("liner"), ter verkrijging van een sterke mechanische verbinding of een grenslaag die migratie van  chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het isolatiemateriaal van de motoromhulling  voorkomt; b. met vezels omwikkelde "composiete" motoromhullingen met een diameter groter dan 0,61 m of met  een structurele rendementsverhouding (PV/W) groter dan 25 km; Technische noot: De structurele rendementsverhouding (PV/W) is de explosiedruk (P) maal het vatvolume (V) gedeeld  door het totale gewicht van het drukvat (W). c. straalpijpen met een stuwdruk groter dan 45 kN of met een erosiesnelheid van de straalpijphals  van minder dan 0,075 mm/s; d. regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de secundaire  vloeistofinjectie, geschikt voor: 1. bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5 °C; 2. vectorhoekrotaties van 20° /s of meer, of 3. vectorhoekversnellingen van 40° /s2 of meer. Technische noot: Voor het doel van 9A007.d en 9A008.a wordt onder een sterke mechanische verbinding verstaan een  verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de sterkte van de stuwstof. 9A009 Hybride raketvoortstuwingssystemen met: NB: Zie ook 9A109 en 9A119. a. een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs, of b. een stuwkracht groter dan 220 kN bij vacuuemcondities aan de uitlaat. 9A010 Speciaal ontworpen onderdelen of structuren, voor lanceervoertuigen of voortstuwingssystemen  voor lanceervoertuigen, vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix"-"composieten",  organische-"matrix"-"composieten", keramische "matrix"-materialen of met legeringen versterkte  materialen bedoeld in 1C007 of 1C010. NB: Zie ook 1A002 en 9A110. 9A011 Stuwstraalmotoren ("ramjet" en "scramjet") of motoren met een gecombineerde thermodynamische  cyclus, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen. NB: Zie ook 9A111 en 9A118. 9A101 Lichtgewicht turbinestraal- en turbofanmotoren (met inbegrip van turbocompoundmotoren)  geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in 9A001, zoals: a. motoren met beide onderstaande kenmerken: 1. maximale stuwkracht groter dan 1 000 N (in niet geïnstalleerde toestand) met uitzondering van  voor civiele toepassingen gecertificeerde motoren met een maximale stuwkracht groter dan 8 890 N  (in niet geïnstalleerde toestand), en 2. specifiek brandstofverbruik 0,13 kg/N/hr of minder (statische standaardomstandigheden op  zeeniveau), of b. motoren die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik in "raketten". 9A104 Sonderingsraketten met een bereik van minstens 300 km. NB: Zie ook 9A004. 9A105 Raketmotoren voor vloeibare stuwstof, zoals: NB: Zie ook 9A119. a. raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in  9A005, met een totaal impulsvermogen van 1,1 MNs of meer; b. raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in raketten met een bereik van 300  km of meer, anders dan bedoeld in 9A005 of 9A105.a, met een totaal impulsvermogen van 0,841 MNs of  meer. 9A106 Systemen of onderdelen, anders dan bedoeld in 9A006, geschikt voor gebruik in "raketten",  zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vloeibare  stuwstof: a. ablatieve bekledingen voor voortstuwings- of verbrandingskamers; b. straalpijpen voor raketten; c. subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting; Technische noot: Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A106.c, zijn: 1. buigzame straalpijp; 2. vloeistof- of secundaire gasinjectie; 3. beweegbare motoren of straalpijpen; 4. afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of 5. het gebruik van stuwstelvlakken. d. Regelsystemen voor vloeibare en "slurry"-stuwstof (met inbegrip van oxidatiemiddelen), en  speciaal daarvoor ontwikkelde onderdelen, die ontworpen of aangepast zijn om te kunnen werken in  trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms tussen 20 Hz en 2000 Hz. Noot: De enige servokleppen en pompen bedoeld in 9A106.d zijn: a. servokleppen ontworpen voor doorstoomsnelheden van 24 liter per minuut of meer, bij een absolute  druk van 7 MPa of meer, en met een responstijd van minder dan 100 ms; b. pompen, voor vloeibare stuwstoffen, met assnelheden van 8 000 toeren per minuut of meer, of met  uitgangsdrukken van 7 MPa of meer. 9A107 Raketmotoren voor vaste stuwstof, geschikt voor gebruik in "raketten" met een bereik van 300  km of meer, anders dan bedoeld in 9A007, met een totaal impulsvermogen van 0,841 MNs of meer. NB: Zie ook 9A119. 9A108 Onderdelen, anders dan bedoeld in 9A008, geschikt voor gebruik in "raketten", zoals hieronder  vermeld, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof: a. raketmotoromhullingen, "binnenbekleding ("lining")" en "isolatie" daarvoor; b. straalpijpen voor raketten; c. subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting. Technische noot: Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen zoals bedoeld in 9A108.c, zijn: 1. buigzame straalpijp; 2. vloeistof- of secundaire gasinjectie; 3. beweegbare motoren of straalpijpen; 4. afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen, of 5. het gebruik van stuwstelvlakken. 9A109 Hybride raketmotoren, geschikt voor gebruik in "raketten", anders dan bedoeld in 9A009, en  speciaal daarvoor ontwikkelde onderdelen. NB: Zie ook 9A119. 9A110 Composiete structuren, laminaten en daarvan vervaardigde produkten, anders dan bedoeld in  9A010, speciaal bestemd voor gebruik in de systemen bedoeld in 9A004 of 9A104 of de subsystemen  bedoeld in 9A005, 9A007, 9A105.a, 9A106 t/m 9A108, 9A116 of 9A119, met hars geïmpregneerde vezels  ("prepregs") en met metaal beklede vezels ("preforms") daarvoor, met een organische of metaalmatrix  versterkt met stapel- of continuvezels met een specifieke treksterkte van meer dan 7,62 × 104 m en  een specifieke modulus van meer dan 3,18 × 106 m. NB: Zie ook 1A002. Noot: De enige met hars geïmpregneerde vezels ("prepregs") bedoeld in 9A110 zijn die welke harsen  gebruiken met een glastemperatuur (Tg), na uitharden, van meer dan 418 K (145 °C) zoals bepaald met  ASTM D 4065- of nationale equivalenten. 9A111 Pulserende straalmotoren, geschikt voor gebruik in "raketten" en speciaal ontworpen  onderdelen daarvoor. NB: Zie ook 9A011 en 9A118. 9A115 Lanceerinrichtingen ontworpen of aangepast voor de systemen bedoeld in 9A004 of 9A104,  zoals: a. apparatuur en toestellen voor het hanteren, regelen, ontsteken of lanceren; b. voertuigen voor het transporteren, hanteren, regelen, ontsteken of lanceren. 9A116 Terugkeervoertuigen geschikt voor gebruik in "raketten" en apparatuur speciaal ontworpen of  aangepast daarvoor, zoals: a. terugkeervoertuigen; b. hitteschilden en onderdelen daarvan gemaakt van keramische of ablatieve materialen; c. koelelementen en onderdelen daarvan gemaakt van lichtgewichtmaterialen met een hoge  warmtecapaciteit; d. elektronische apparatuur speciaal ontworpen voor terugkeervoertuigen. 9A117 Systemen voor het scheiden of afwerpen van rakettrappen en verbindingsstukken tussen  rakettrappen, geschikt voor gebruik in "raketten". 9A118 Apparaten voor het regelen van de verbranding van stuwstof voor motoren geschikt voor gebruik  in "raketten" zoals bedoeld in 9A011 of 9A111. 9A119 Afzonderlijke rakettrappen, geschikt voor gebruik in "raketten" met een bereik van 300 km of  meer, anders dan bedoeld in 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 en 9A109. 9B TEST-, INSPECTIE- EN PRODUKTIEAPPARATUUR 9B001 Uitrusting, gereedschappen en klemmen speciaal ontworpen voor het vervaardigen of meten van  gasturbinebladen of -schoepen of gegoten schoepuiteindeversterkingen, zoals: a. automatische apparatuur die gebruik maakt van niet mechanische methoden voor het meten van de  wanddikte van aërodynamische onderdelen; b. gereedschappen, klemmen of meetuitrusting voor de "laser"-, waterstraal- of ECM/EDM-procédés  voor het boren van gaten, bedoeld in 9E003.c; c. uitrusting voor het gieten met gericht stollen of het gieten in eenkristalvorm; d. keramische kernen en mantels; e. uitrusting of gereedschappen voor het vervaardigen van keramische kernen; f. uitrusting voor het logen van keramische kernen; g. uitrusting voor het bereiden van wasmodellen voor keramische mantels; h. uitrusting voor het uitbranden of bakken van keramische mantels. 9B002 Gekoppelde (onvertraagde ("real time")) regelsystemen, instrumentatie (met inbegrip van  sensoren) of geautomatiseerde apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens, speciaal  ontworpen voor de "ontwikkeling" van gasturbinemotoren, samenstellingen of onderdelen welke  technologieën bevatten die zijn bedoeld in 9E003.a. 9B003 Apparatuur speciaal ontworpen voor het vervaardigen of testen van  gasturbineborstelafsluitingen ontworpen om te werken bij een vleugeltipsnelheid groter dan 335 m/s,  en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen of toebehoren. 9B004 Gereedschappen, stempels of klemmen voor het maken van vaste-fase-verbindingen van  gasturbineonderdelen bestaande uit "superlegeringen" of titaan. 9B005 Gekoppelde (onvertraagde ("real time")) regelsystemen, instrumentatie (met inbegrip van  sensoren) en geautomatiseerde apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens, speciaal  ontworpen voor gebruik met onderstaande windtunnels en toestellen: NB: Zie ook 9B105. a. windtunnels ontworpen voor snelheden van Mach 1,2 of meer, met uitzondering van windtunnels die  speciaal zijn ontworpen voor onderwijsdoeleinden, met een grootte van het meetgedeelte  (dwarsgemeten) kleiner dan 250 mm; Technische noot: Onder "grootte van het meetgedeelte" wordt in 9B005.a, al naar gelang van de vorm, verstaan de  diameter van een cirkel, de zijde van een vierkant of de langste zijde van een rechthoek gemeten  waar het meetgedeelte het breedst is. b. toestellen voor het nabootsen van omstandigheden welke optreden bij stromingssnelheden van meer  dan Mach 5, met inbegrip van "hot shot-tunnels", plasmaboog-tunnels, schokbuizen, schoktunnels,  gastunnels en gaskanonnen; c. windtunnels en inrichtingen, niet zijnde tweedimensionale secties, die stromingen kunnen  nabootsen met een Reynolds-getal hoger dan 25 × 106. 9B006 Speciaal ontworpen apparatuur voor het testen door middel van akoestische trillingen,  geschikt voor het voortbrengen van een geluidsdrukniveau van 160 dB of meer (referentiestandaard:  20 micropascal) met een gespecificeerd uitgangsvermogen van 4 kW of meer bij een temperatuur van de  testruimte hoger dan 1 273 K (1 000 °C), en speciaal daarvoor ontworpen transducenten,  rekstrookjes, versnellingsmeters, thermokoppels en kwarts-verwarmingselementen. 9B007 Apparatuur speciaal ontworpen voor het inspecteren van raketmotoren op de afwezigheid van  defecten met gebruikmaking van technieken die het materiaal niet beschadigen (NDT-technieken),  anders dan analyse door middel van roentgenstraling in een vlak of elementaire fysische of chemische  analyse. (Voor roentgenapparatuur, zie 3A001.e.5.) 9B008 Transducenten speciaal ontworpen voor het direct meten van de oppervlaktewrijving van de  teststroming bij een stagnatietemperatuur van meer dan 833 K (560 °C). 9B009 Gereedschappen speciaal ontworpen voor de "produktie", door middel van poedermetallurgie, van  rotoronderdelen voor turbinemotoren geschikt om te werken bij een druk gelijk aan of hoger dan 60 %  van de breukspanning en bij een metaaltemperatuur van 873 K (600 °C) of hoger. 9B105 Windtunnels voor snelheden van Mach 0,9 of meer, geschikt voor "raketten" en subsystemen  daarvan. NB: Zie ook 9B005. 9B106 Klimaatkamers en echovrije kamers, zoals: a. klimaatkamers geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren: 1. een trildruk van 10 g rms of meer bij frequenties tussen 20 Hz en 2 000 Hz en bij een  stootkracht van 5 kN of meer, en 2. een vlieghoogte van 15 000 m of meer, of 3. een temperatuur van beneden 223 K (-50 °C) tot boven 398 K (125 °C); b. echovrije kamers geschikt om de volgende vliegomstandigheden te simuleren: 1. een akoestische test met een algeheel geluidsdrukniveau van 140 dB of meer (referentie: 20  micorpascal), of die een opgegeven vermogen van 4 kW of meer bezit, en 2. een vlieghoogte van 15 000 m of meer, of 3. een temperatuur van beneden 223 K (-50 °C) tot boven 398 K (125 °C). 9B115 Speciaal ontworpen "produktieapparatuur" voor de systemen, subsystemen en onderdelen in 9A005  t/m 9A009, 9A011, 9A101, 9A105 t/m 9A109, 9A111 of 9A116 t/m 9A119. 9B116 Speciaal ontworpen "produktiefaciliteiten" voor de systemen, subsystemen en onderdelen in  9A004 t/m 9A009, 9A011, 9A101, 9A104 t/m 9A109, 9A111 of 9A116 t/m 9A119. 9B117 Testbanken en testopstellingen voor het testen van raketten of raketmotoren met vaste of  vloeibare stuwstof: a. met meer dan 90 kN stuwvermogen, of b. met de mogelijkheid gelijktijdig de drie axiale stuwstraalvectoren te meten. 9C MATERIALEN Geen. 9D PROGRAMMATUUR 9D001 "Programmatuur" die noodzakelijk is voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "technologie"  bedoeld in 9A, 9B of 9E003. 9D002 "Programmatuur" die noodzakelijk is voor de "produktie" van apparatuur bedoeld in 9A of 9B. 9D003 "Programmatuur" die noodzakelijk is voor het "gebruik" van digitale elektronische  motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen (Fadec), voor  voortstuwingssystemen bedoeld in 9A of apparatuur bedoeld in 9B, zoals: a. "programmatuur" in digitale elektronische regelapparatuur voor voortstuwingssystemen,  testvoorzieningen voor lucht- en ruimtevaart of testvoorzieningen voor vliegtuigmotoren welke lucht  aanzuigen; b. foutbestendige "programmatuur" gebruikt in Fadec-systemen voor voortstuwingssystemen en daarbij  behorende testvoorzieningen. 9D004 Overige "programmatuur", zoals: a. "programmatuur", anders dan bedoeld in 2D101, speciaal ontworpen voor apparatuur voor testen  door middel van trillingen waarbij gebruik wordt gemaakt van tijdgebonden ("real time") digitale  besturing met afzonderlijke trillingsopwekkers met een maximale stootkracht van meer dan 100 kN; b. twee- of driedimensionale viskeuse ("viscous") "programmatuur" die is gevalideerd met  windtunnel- of vluchttestgegevens die noodzakelijk zijn voor het nauwkeurig modelleren van de  gasstroming in de motor; c. "programmatuur" noodzakelijk voor de "ontwikkeling" of "produktie" van tijdgebonden ("real  time") volledig automatische elektronische testvoorzieningen voor motoren of onderdelen bedoeld in  9A; d. "programmatuur" voor het testen van gasturbinemotoren voor vliegtuigen en samenstellingen of  onderdelen daarvan, speciaal ontworpen voor het onvertraagd ("real time") vergaren, bewerken en  analyseren van gegevens en geschikt voor een teruggekoppelde regeling, met inbegrip van het  dynamisch aanpassen van te testen produkten of de testomstandigheden tijdens het testen; e. "programmatuur" speciaal ontworpen voor de besturing van het gieten met gericht stollen of  eenkristalgieten; f. "programmatuur" in "broncode", "objectcode" of machinetaal die noodzakelijk is voor het  "gebruik" van actieve compensatiesystemen voor de regeling van de rotorbladtipspeling. Noot: Niet bedoeld wordt in 9D004.f "programmatuur" die is ingebouwd in niet onder embargo vallende  apparatuur of die noodzakelijk is voor onderhoudswerkzaamheden in verband met ijking, reparatie of  modernisering van het actief compenserende spelingsregelsysteem. 9D101 Speciaal ontworpen "programmatuur" voor het "gebruik" van goederen bedoeld in 9B105, 9B106,  9B116 of 9B117. 9D103 Speciaal ontworpen "programmatuur" voor het modelleren, het simuleren of de  ontwerp-integratie van de systemen bedoeld in 9A004 of 9A104, of de subsystemen bedoeld in 9A005,  9A007, 9A105.a, 9A106, 9A108, 9A116 of 9A119. Noot: "Programmatuur" bedoeld in 9D103 blijft bedoeld, ook wanneer deze wordt gecombineerd met  speciaal ontworpen apparatuur bedoeld in 4A102. 9E TECHNOLOGIE 9E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van  apparatuur of "programmatuur" bedoeld in 9A001.c, 94004 t/m 9A011, 9B of 9D. 9E002 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "produktie" van apparatuur  bedoeld in 9A001.c, 9A004 t/m 9A011 of 9B. Noot: "Technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" als bedoeld in 9E voor gasturbinemotoren  blijft bedoeld ook wanneer deze wordt gebruikt als "gebruiks-" technologie ten behoeve van  reparatie, aanbrengen van nieuwe onderdelen en revisie. Niet bedoeld zijn technische gegevens,  tekeningen of documentatie voor onderhoudswerkzaamheden die direct verband houden met ijking, het  verwijderen of vervangen van beschadigde of onbruikbare, uit het assortiment vervangbare, eenheden,  de vervanging van gehele motoren of motorelementen daaronder begrepen. (Zie 1E002.f voor "technologie" voor de reparatie van in de lijst bedoelde constructies, laminaten  of materialen.) 9E003 Overige "technologie", zoals: a. "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling" of "produktie" van de volgende  gasturbinemotoronderdelen of -systemen: 1. door middel van gerichte stolling vervaardigde gasturbinebladen of schoepen of  schoepuiteindeversterkingen gespecificeerd om te werken bij gastrajecttemperaturen hoger dan 1 593  K (1 320 °C); 2. bladen, schoepen of schoepuiteindeversterkingen van eenkristal; 3. branders met verscheidene koppen die werken bij een gemiddelde uitlaattemperatuur hoger dan 1  643 K (1 370 °C), of branders die thermisch ontkoppelde bekleding van de verbrandingskamer, niet  metallieke bekleding of niet metallieke omhulsels bevatten; 4. onderdelen vervaardigd van organische "composiete" materialen ontworpen voor werktemperaturen  hoger dan 588 K (315 °C), of van metaal-"matrix" "composiete" materialen,  keramische-"matrix"-materialen of intermetallische of met legeringen versterkte materialen, bedoeld  in 1A002 of 1C007; 5. ongekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindeversterkingen of andere onderdelen ontworpen  om te werken bij een gastrajecttemperatuur van 1 323 K (1 050 °C) of hoger; 6. gekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindeversterkingen niet zijnde die welke zijn  omschreven in 9E003.a.1 en 2, blootgesteld aan een gastrajecttemperatuur van 1 643 K (1 370 °C) of  hoger; 7. bladen waarbij het aërodynamische vlak doorloopt tot aan de schijf gemaakt door middel van  vaste-faseverbinding; 8. gasturbinemotoronderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt van "technologie" voor "diffusielassen"  bedoeld in 2E003.b; 9. schadebestendige roterende onderdelen van gasturbinemotoren waarbij gebruik wordt gemaakt van  poedermetallurgiemetalen bedoeld in 1C002.b; 10. Fadec voor gasturbinemotoren en motoren met gecombineerde thermodynamische cyclus en hun  aanverwante diagnostische onderdelen, sensoren en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen; 11. instelbare stromingstrajectgeometrie en daarmee verbonden regelsystemen voor: a. gasgeneratorturbines; b. ventilator/vermogensturbines; c. straalpijpmondstukken; Noten: 1. Instelbare stromingstrajectgeometrie en daarmee verbonden regelsystemen omvatten geen  inlaatribben, verstelbare ventilatorbladen, verstelbare stators of aftapkleppen voor compressors. 2. Niet bedoeld wordt in 9E003.a.11 "ontwikkelings-" of "produktie"-"technologie" voor instelbare  stromingstrajectgeometrie voor tegengestelde stuwkracht. 12. regelsystemen voor rotorbladtipspeling waarbij gebruik wordt gemaakt van actief compenserende  omhullingen. De "technologie" is beperkt tot de ontwerp- en ontwikkelings-"data base"; 13. gaslagers voor rotorsamenstellingen voor gasturbinemotoren; 14. holle ventilatorbladen met brede koorde zonder tussensteunen; b. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van:1. vliegtuigmodellen voor windtunnels die zijn uitgerust met niet naar buiten uitstekende sensoren,  die gegevens van de sensoren kunnen overbrengen naar het gegevensverzamelsysteem; 2. "composiete" schroefbladen of propellers geschikt voor het absorberen van meer dan 2 000 kW bij  vluchtsnelheden hoger dan Mach 0,55; c. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van gasturbinemotoronderdelen  met gebruikmaking van "laser"-, waterstraal- of ECM/EDM-procédés voor het boren van gaatjes met: 1. a. een diepte van meer dan viermaal de gatdiameter; b. een diameter van minder dan 0,76 mm, en c. een invalshoek gelijk aan of kleiner dan 25°, of 2. a. een diepte van meer dan vijfmaal de gatdiameter; b. een diameter van minder dan 0,4 mm, en c. een invalshoek groter dan 25°; Technische noot: Voor het doel van 9E003.c wordt de invalshoek gemeten aan een vlak dat het aërodynamische oppervlak  raakt op het punt waar de gatas het aërodynamische oppervlak binnengaat. d. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van krachtoverbrengsystemen  voor hefschroefvliegtuigen of krachtoverbrengsystemen voor verticaal opstijgende "luchtvaartuigen"  (met gekantelde rotor of vleugel): 1. geschikt om gedurende 30 minuten of meer te werken bij smeerolieverlies, of 2. met een verhouding van ingevoerd vermogen tot gewicht gelijk aan of groter dan 8,87 kW/kg; e. 1. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van voortstuwingssystemen voor  grondvoertuigen op basis van dieselzuigermotoren met alle volgende kenmerken: a. een inwendige ruimte van 1,2 m3 of minder; b. een totaal uitgaand vermogen van meer dan 750 kW gebaseerd op Richtlijn 80/1269/EEG, ISO 2534 of  een nationaal equivalent daarvan; en c. een vermogensdichtheid van meer dan 700 kW/m3 inwendige ruimte; Technische noot: Inwendige ruimte: het produkt van drie loodrecht op elkaar staande afmetingen, als volgt gemeten: lengte: de lengte van de krukas van voorflens tot vliegwielvlak; breedte: de grootste van de volgende drie afmetingen: a. de buitenmaat van klepdeksel tot klepdeksel; b. de maat van de buitenranden van de cilinderkoppen, of c. de diameter van de vliegwielbehuizing; hoogte: de grootste van de volgende twee maten: a. de afstand van de middellijn van de krukas tot aan het bovenvlak van het klepdeksel (of  cilinderkop) plus tweemaal de slaghoogte, of b. de diameter van de vliegwielbehuizing. 2. "technologie" "noodzakelijk" voor de "produktie" van speciaal voor dieselmotoren met hoog  vermogen ontworpen onderdelen, zoals: a. "technologie" "noodzakelijk" voor de "produktie" van motorsystemen met alle volgende onderdelen,  met gebruikmaking van in 1C007 bedoelde keramische materialen: 1. cilinderwanden; 2. zuigers; 3. cilinderkoppen, en 4. een of meer andere onderdelen (met inbegrip van uitlaatpoorten, turbocompressors, klepgeleiding,  klepsamenstelling of geïsoleerde brandstofinjectiesystemen); b. "technologie" "noodzakelijk" voor de "produktie" van turbocompressorsystemen, met  eentrapscompressors met alle volgende kenmerken: 1. een werkdrukverhouding van 4:1 of hoger; 2. een massastroom van 30 tot 130 kg per minuut, en 3. uitgerust met variabele doorstroomoppervlakte in de compressor- of turbinesecties; c. "technologie" "noodzakelijk" voor de "produktie" van brandstofinjectiesystemen met speciaal  ontworpen mogelijkheid om met verschillende brandstoffen te werken (b.v. dieselolie of  straalvliegtuigbrandstof) over een viscositeitsgebied van dieselolie (2,5 cSt bij 310,8 K (37,8  °C)) tot benzine (0,5 cSt bij 310,8 K (37,8 °C)), met alle volgende kenmerken: 1. inspuithoeveelheid meer dan 230 mm3 per inspuiting per cilinder; 2. met een speciaal ontworpen elektronische besturing voor het automatisch omschakelen van de  regulateurspecificaties afhankelijk van de brandstofeigenschappen ter verkrijging van gelijke  draaimomenteigenschappen, door middel van geschikte sensoren; 3. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of "produktie" van dieselmotoren met hoog  vermogen voor vaste, gas- of vloeistoffilm-cilinderwandsmering (of combinaties daarvan), welke een  werktemperatuur toelaat van meer dan 723 K (450 °C), gemeten op de cilinderwand aan het eind van de  slag van de bovenste zuigerveer. Technische noot: Onder dieselmotoren met hoog vermogen worden verstaan dieselmotoren met een gemiddelde effectieve  remdruk van 1,8 MPa of meer bij een snelheid van 2 300 omwentelingen per minuut, mits de  gespecificeerde snelheid 2 300 omwentelingen per minuut is of meer. 9E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of  "produktie" van goederen bedoeld in 9A101, 9A104 t/m 9A111 of 9A115 t/m 9A119. 9E102 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor het "gebruik" van goederen  bedoeld in 9A004 t/m 9A011, 9A101, 9A104 t/m 9A111, 9A115 t/m 9A119, 9B105, 9B106, 9B115, 9B116,  9B117, 9D101 of 9D103.  BIJLAGE II Lijst, bedoeld in artikel 3 van Besluit 94/942/GBVB en artikel 6, lid 1,  onder a), van Verordening (EG) nr. 3381/94 (Gemeenschappelijke lijst van de bestemmingen waarvoor  vereenvoudigde formaliteiten kunnen worden toegepast) 1. Er kunnen algemene vergunningen worden gegeven wanneer voor bepaalde bestemmingen toestemming  wordt gegeven voor goederen voor tweeërlei gebruik, in het bijzonder voor de uitvoer naar de  volgende Staten, die toegetreden zijn tot, of volledig samenwerken met, alle regelingen die voor de  non-proliferatie en de controle op gevoelige goederen relevant zijn: Australië Canada Finland Japan Noorwegen Oostenrijk Verenigde Staten Zweden Zwitserland. 2. Dit sluit niet uit dat dergelijke procedures voor de uitvoer naar andere bestemmingen worden  aangenomen. 3. De Lid-Staten stellen elkaar en de Commissie in kennis van vereenvoudigde procedures die zij  voor andere bestemmingen toepassen.  BIJLAGE III Lijst, bedoeld in artikel 4 van Besluit 94/942/GBVB en artikel 8 van  Verordening (EG) nr. 3381/94 (Akkoord van de Lid-Staten over richtsnoeren voor toestemming voor de  uitvoer van goederen voor tweeërlei gebruik) De Lid-Staten nemen de volgende factoren in aanmerking wanneer zij een besluit nemen over een  uitvoervergunning: a) de verbintenissen die zij zijn aangegaan in internationale overeenkomsten over non-proliferatie  en de controle op gevoelige goederen; b) de op hen rustende verplichtingen uit hoofde van sancties die door de Veiligheidsraad van de  Verenigde Naties zijn getroffen of waartoe in andere internationale instanties is besloten (*); c) overwegingen van nationaal buitenlands en veiligheidsbeleid, inclusief waar van toepassing die  welke vallen onder de criteria die zij zijn overeengekomen in de Europese Raad te Luxemburg in juni  1991 en te Lissabon in juni 1992 met betrekking tot de uitvoer van conventionele wapenen; d) overwegingen in verband met het beoogde eindgebruik en het gevaar van onttrekking. De Lid-Staten wisselen van gedachten over deze richtsnoeren wanneer dat wenselijk is, om ze zo  nodig te toetsen. (*) Op de volgende landen rust een algemeen handelsembargo van de Verenigde Naties  (behalve voor humanitaire hulp): - Irak, Servië en Montenegro. Voor de volgende landen geldt niet een algemeen handelsembargo of een embargo op goederen voor  tweeërlei gebruik, doch bestaan wel wapenembargo's van de Verenigde Naties of de Europese Unie: - Angola (bepaalde kopers), China, Liberië, Libië (plus een embargo op vliegtuigen en onderdelen  daarvoor, alsmede op bepaalde raffinage-uitrusting), Myranmar, Rwanda, Somalië, Zaïre, Soedan en de  voormalige Socialistische Federalistische Republiek Joegoslavië.  BIJLAGE IV Lijst, bedoeld in artikel 5 van Besluit 94/942/GBVB en artikel 19, lid 1,  onder b), van Verordening (EG) nr. 3381/94 (Gemeenschappelijke lijst van goederen voor tweeërlei  gebruik waarvoor in de interimperiode een vergunning vereist is voor handelsverkeer binnen de  Gemeenschap) NB: Onderstaande omschrijvingen zijn een verkorte weergave van de betrokken titels. Zie bijlage I  voor de details. NSG - "TRIGGER LIST", DEEL 1, VAN INFCIRC 254 (Deze produkten vallen tevens onder artikel 21 van Verordening (EG) nr. 3381/94.) OB001 Fabrieken voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk" en "verarmd" uranium, "speciale  splijtstoffen" en "andere splijtstoffen" OB002 Speciaal ontworpen hulpsystemen voor verrijkingsfabrieken OB004 Uitrusting en onderdelen voor de produktie van zwaar water, deuterium en  deuteriumverbindingen OB006 Fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor kernreactoren OC002 Alleen de volgende splijtstoffen: a) gescheiden plutonium b) uranium verrijkt in de isotopen 235 of 233 tot meer dan 20 % OD001 In relatie met OB001, OB002, OB004, OB006 en OC002 OE001 In relatie met OB001, OB002, OB004, OB006 en OC002 COMMUNAUTAIRE STRATEGISCHE CONTROLE 3A002.g Atomaire frequentiestandaarden 4A001.b Elektronische computers en aanverwante apparatuur en "elektronische samenstellingen" en  speciaal daarvoor ontworpen componenten met kenmerken of functies die de limieten van categorie 5  (deel 2: Informatiebeveiliging) te boven gaan 4A003.b Alleen computers met "supercomputer"-prestaties, d.w.z. computers met een "totale  theoretische prestatie" ("composite theoretical performance" - CTP) van 2 000 miljoen theoretische  bewerkingen per seconde (Mtops) of meer 4D003.c "programmatuur" die eigenschappen heeft of functies vervult die de limieten van categorie 5  (deel 2: Informatiebeveiliging) te boven gaan, uitgezonderd "programmatuur" die functies biedt  welke in de punten 1 tot en met 4 van categorie 5 in deze bijlage zijn beschreven Categorie 5 Alle in deel 2 (Informatiebeveiliging) aangegeven goederen, uitgezonderd: 1. draagbare of mobiele radiotelefoons, ontworpen om te beantwoorden aan nationale, regionale of  internationale civiele standaarden, bij voorbeeld draagbare of mobiele radiotelefoons voor  toepassing in uit cellen opgebouwde commerciële civiele radiocommunicatiesystemen; 2. toegangscontroleapparatuur, bij voorbeeld bankloketautomaten, transactiebevestigingsprinters of  verkooppuntapparatuur, welke herkenningswoorden of persoonlijke identificatienummers (PIN) of  soortgelijke gegevens beschermt ter voorkoming van onbevoegde toegang tot faciliteiten, doch welke  niet de mogelijkheid biedt tot het omzetten van bestanden of teksten in geheime codering, behalve  voor zover dit direct verband houdt met de bescherming van het herkenningswoord of de PIN-code; 3. apparatuur voor het bevestigen van de authenticiteit van gegevens, welke een "message  authentication code" (MAC) of soortgelijke waarde berekent ter verzekering dat er geen wijziging  van de tekst heeft plaatsgevonden, of ter vaststelling van de authenticiteit van gebruikers, doch  waarmee uitsluitend zodanige omzetting van gegevens, tekst of andere media in geheime codering  mogelijk is als voor de vaststelling van authenticiteit noodzakelijk is; 4. cryptografische apparatuur, speciaal ontworpen, ontwikkeld of aangepast voor gebruik in machines  voor bank- of geldtransacties, bij voorbeeld bankloketautomaten, transactiebevestigingsprinters,  verkooppuntapparatuur, of apparatuur voor omzetting in geheime codering van interbancaire  transacties, welke uitsluitend bestemd is voor gebruik in bedoelde toepassingen; 5. "programmatuur" voor het "gebruik" van de apparatuur die in 1 tot en met 4 is beschreven of  "programmatuur" die een of meer van de functies verschaft van apparatuur die in de punten 1 tot en  met 4 is beschreven. 6A001 Akoestische apparatuur 6D003.a "Programmatuur" voor de tijdgebonden verwerking van akoestische gegevens "STEALTH"-TECHNOLOGIE 1C001 Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van  elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren 1D103 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor de analyse van het beperken van de waarneembaarheid  van bij voorbeeld radarreflectie, ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld 6B008 Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwarsdoorsnede met een zendimpulsduur van 100  ns of minder en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen 6B108 Systemen, speciaal ontworpen voor radardwarsdoorsnedemeting, te gebruiken voor raketten en  subsystemen daarvan MTCR-TECHNOLOGIE 9A005 Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare brandstof 9A007.a.1 Raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof met een totaal impulsvermogen groter dan  1,1 mns 9A008.d. Regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het inspuitstuk of de  secundaire vloeistofinjectie, speciaal ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vaste  brandstof 9A009.a. Hybride raketvoortstuwingssystemen met een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 mns 9A108.c. Subsystemen voor het regelen van de stuwkrachtvector, speciaal ontworpen voor  raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof 9A119 Individuele rakettrappen 9B115 Speciaal ontworpen "produktie-uitrusting" en "produktiefaciliteiten" voor de onder 9A005,  9A007.a.1, 9A008.d, 9A108.c en 9A119 genoemde systemen, subsystemen en onderdelen 9B116 Speciaal ontworpen "produktiefaciliteiten" voor de systemen, subsystemen en onderdelen als  vermeld onder 9A005, 9A007.a.1, 9A008.d, 9A108.c en 9A119 9D001 "Programmatuur" die nodig is voor de "ontwikkeling" van uitrusting of "technologie" als  omschreven in 9A005, 9A007.a.1, 9A008.d, 9A108.c, 9A119, 9B115 en 9B116 9D101 "Programmatuur" die speciaal is ontworpen voor het gebruik van de in 9B116 omschreven  goederen 9D103 "Programmatuur" die speciaal is ontworpen voor het modelleren, simuleren of de  ontwerp-integratie van de in 9A007.a.1, 9A108.c of 9A119 omschreven systemen 9E001 "Technologie" voor de "ontwikkeling" van uitrusting of "programmatuur" als omschreven in  9A005, 9A007.a.1, 9A008.d, 9A108.c, 9A119, 9B115, 9B116 9E002 "Technologie" voor de "vervaardiging" van uitrusting als omschreven in 9A005, 9A007.a.1,  9A008.d, 9A108.c, 9A119, 9B115 en 9B116. De goederen, genoemd in OB001, OB002, OB004, OB006, OC002, 4A003.b, 4D003.c en categorie 5, deel 2,  zijn tevens onderworpen aan de bepalingen van artikel 7, lid 2, van Verordening (EG) nr. 3381/94  met betrekking tot alle bestemmingen, met inbegrip van die in bijlage II bij het besluit.  BIJLAGE V Lijst, bedoeld in artikel 6 van Besluit 94/942/GBVB en artikel 20 bis, lid 1,  van Verordening (EG) nr. 3381/94 NB: Xa = uitzonderingen waarvoor na de overgangsperiode een  besluit zal worden genomen betreffende de definitieve opneming van de goederen in het  toepassingsgebied van de regelgeving met betrekking tot goederen voor tweeërlei gebruik; Xb = uitzonderingen die na de overgangsperiode vervallen. >RUIMTE VOOR DE TABEL>