Ważna informacja prawna

|

52006PC0829

Wniosek rozporządzenie Rady ustanawiające wspólnotowy system kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania [KOM(2006) 828 final] [SEK(2006) 1696]  /* COM/2006/0829 końcowy - ACC 2006/0266 */

	[pic] | KOMISJA WSPÓLNOT EUROPEJSKICH |Bruksela, dnia 18.12.2006KOM(2006) 829 wersja ostateczna2006/0266 (ACC)WniosekROZPORZĄDZENIE RADYustanawiające wspólnotowy system kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania(przedstawiona przez Komisję)[KOM(2006) 828 final][SEK(2006) 1696]UZASADNIENIE1) KONTEKST WNIOSKU-  Podstawa i cele wnioskuWniosek dotyczący zmiany i przekształcenia rozporządzenia Rady nr (WE) 1334/2000 w sprawie kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania ma na celu wzmocnienie i poprawę systemu kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania w UE. Pozwoli to UE na spełnienie standardów wyznaczonych rezolucją 1540 Rady Bezpieczeństwa Narodów Zjednoczonych oraz realizację większości zaleceń odnotowanych przez Radę ds. Ogólnych po dokonaniu wzajemnej weryfikacji wykonania rozporządzenia przez państwa członkowskie w 2004 r. zgodnie z planem działania zatwierdzonym przez głowy państw i rządów w czerwcu 2003 r. w Salonikach. Ma on również na celu wprowadzenie większej przejrzystości oraz zmniejszenie obciążeń prawnych w przeprowadzaniu kontroli przez eksporterów z UE.-  Kontekst ogólnyRozporządzenie WE w sprawie kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania przyczynia się do realizacji przez państwa członkowskie ich zobowiązań podjętych w ramach międzynarodowych systemów kontroli eksportu oraz jako państwa-strony traktatów i układów nieproliferacyjnych. Wynika to z tego, że produkty podwójnego zastosowania są produktami cywilnymi, które mogą być wykorzystywane do celów wojskowych oraz – w niektórych przypadkach – do produkcji broni masowego rażenia (jądrowej, biologicznej, chemicznej lub pocisków) lub jako środki przenoszenia tej broni.Od dnia 11 września 2001 r. zadania międzynarodowych systemów kontroli eksportu, początkowo stworzonych przez podobnie myślące państwa w celu zapobiegania nielegalnemu nabywaniu przez państwa broni masowego rażenia lub środków jej przenoszenia, zostały poszerzone o uniemożliwianie nabywania produktów podwójnego zastosowania przez podmioty niepaństwowe w celu zapobiegania atakom na ludność cywilną i państwa. W związku z tym Rada Europejska przyjęła w czerwcu 2003 r. w Salonikach plan działania, który zawierał kilka postanowień zalecających wzmocnienie systemu kontroli eksportu w UE oraz wzmocnienie i zwiększenie widoczności roli UE w międzynarodowych systemach kontroli eksportu. Zawierał on rozważania na temat większej roli Komisji na tych forach oraz zalecał strategię UE wsparcia dla wchodzenia nowych państw członkowskich UE do tych systemów.W następstwie przyjęcia tego planu działania jesienią 2003 r. zgłoszono do Rady kilka wniosków. Dotyczyły one roli Komisji w systemach międzynarodowych oraz sposobu wzmocnienia koordynacji UE na tych forach, proponując strategię prowadzącą do członkostwa nowych państw członkowskich UE. Przy wsparciu niewielkiej grupy zadaniowej składającej się z przedstawicieli Komisji, Sekretariatu Rady oraz Finlandii, Komisja koordynowała wzajemną weryfikację dotyczącą wykonania rozporządzenia przez państwa członkowskie, którą państwa członkowskie przeprowadziły. Grupa zadaniowa zaleciła działania, które w grudniu 2004 r. zostały odnotowane przez Radę ds. Ogólnych i Stosunków Zewnętrznych (GAERC). W zaleceniach tych podkreślano wśród innych priorytetów potrzebę bardziej proaktywnego stanowiska Unii Europejskiej wobec nabywania przez państwa i podmioty niepaństwowe produktów podwójnego zastosowania, koncentrując się na zagrożeniu.-  Obowiązujące przepisy w dziedzinie, której dotyczy wniosekObowiązujące rozporządzenie (WE) nr 1334/2000 zostało przyjęte w następstwie dwóch orzeczeń Europejskiego Trybunału Sprawiedliwości z 1995 r., które potwierdziły wyłączne kompetencje Wspólnoty Europejskiej w sferze handlu zewnętrznego produktami podwójnego zastosowania. Niniejszy wniosek ma na celu zmianę tego rozporządzenia.-  Spójność z polityką i celami Unii w innych dziedzinachWniosek dotyczący zmiany rozporządzenia umożliwi UE wdrożenie stosownych aspektów strategii UE przeciwko rozprzestrzenianiu broni masowego rażenia oraz przyczyni się do realizacji innych priorytetów UE, takich jak bezpieczeństwo obywateli UE, zapobieganie biologicznym, chemicznym i jądrowym atakom terrorystycznym, wspieranie przemysłu obronnego UE zgodnie z komunikatem Komisji w sprawie obronności opublikowanym w 2003 r. oraz wzmocnienie bezpieczeństwa w UE i bezpieczeństwa międzynarodowego.2) KONSULTACJE Z ZAINTERESOWANYMI STRONAMI ORAZ OCENA WPłYWUKonsultacje z zainteresowanymi stronamiMetody konsultacji, główne sektory objęte konsultacjami i ogólny profil respondentówKomisja przeprowadziła badanie za pośrednictwem firmy doradczej w celu dokonania oceny opinii eksporterów oraz innych zainteresowanych stron, aby ocenić wpływ możliwych zmian rozporządzenia.Aby zdefiniować reprezentatywną próbę zainteresowanych stron, rozesłano kwestionariusz do ok. 450 potencjalnych eksporterów produktów podwójnego zastosowania mających siedzibę w UE, w tym także do wielu federacji przemysłu w UE. Konsultacjami objęto również potencjalnych zainteresowanych eksporterów, gdyż zostały one ogłoszone na witrynie internetowej Dyrekcji Generalnej ds. Handlu, począwszy od 5 października 2005 r. Ostateczna próba eksporterów, którzy odpowiedzieli na kwestionariusz, była reprezentatywna dla istniejącej struktury dostawców i eksporterów w 10 kategoriach produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I do rozporządzenia. Na podstawie otrzymanych odpowiedzi wybrano konkretne podpróby reprezentatywnych eksporterów w celu zasięgnięcia ich opinii na temat różnych możliwości zreformowania rozporządzenia WE. Ponieważ możliwości te dotyczyły również kontroli tranzytu, przeładunku oraz pośrednictwa, zasięgnięto również opinii przedsiębiorstw transportowych i handlowych.Streszczenie odpowiedzi oraz sposób, w jaki były one uwzględnianeZasięgnięto opinii eksporterów na temat sprawozdania końcowego z oceny wpływu oraz oceny wyników badania przygotowanej przez służby Komisji. Opinie państw członkowskich oraz innych zainteresowanych stron na temat wyników badania oraz zamierzonych dalszych działań ze strony służb Komisji były zbierane od stycznia do początku lipca 2006 r. i zostały w znacznym stopniu uwzględnione w niniejszym wniosku.Gromadzenie i wykorzystanie wiedzy specjalistycznejDziedziny naukowe/dziedziny wiedzy specjalistycznejW całym procesie konsultacji i oceny stanowisk zainteresowanych stron zapewniono niezbędną wiedzę specjalistyczną dotyczącą produktów podwójnego zastosowania. Wiedza specjalistyczna na temat produktów podwójnego zastosowania oraz kontroli eksportu i zagadnień związanych z bezpieczeństwem stanowiła główne kryterium wyboru w zaproszeniu do składania ofert.Zastosowana metodologiaWstępny kwestionariusz mający na celu określenie reprezentatywnej próby eksporterów został przygotowany przez Dyrekcję Generalną ds. Handlu i włączony do zakresu wymagań określonych w zaproszeniu do składania ofert. Został on poprawiony po konsultacjach z szeregiem federacji przemysłowych działających w UE. W trakcie badania firma doradcza przygotowała dodatkowe kwestionariusze na temat badanych opcji. Po zatwierdzeniu przez Komisję zostały one rozesłane do zainteresowanych stron (administracje państw członkowskich oraz eksporterzy).Główne organizacje/eksperci, których opinii zasięgniętoFederacje przemysłowe działające w UE i poszczególni eksporterzy, właściwe organy krajowe państw członkowskich, w szczególności organy krajowe właściwe w sprawie udzielania zezwoleń eksportowych oraz organy celne.Streszczenie otrzymanych i wykorzystanych poradBadanie dotyczące oceny wpływu ujawniło szereg wad wśród możliwości, które Dyrekcja Generalna ds. Handlu poddała badaniu za zgodą innych powiązanych Dyrekcji Generalnych. W niektórych przypadkach znane były Dyrekcji Generalnej ds. Handlu wady rozważanych możliwości, niemniej jednak uznała, że należy je zbadać, aby potwierdzić wstępne opinie przekazywane państwom członkowskim.Niektóre uwagi i sugestie przekazane przez przemysł nie mogły zostać uwzględnione z różnorakich powodów, w szczególności ponieważ wykraczałyby poza to, co jest możliwe do osiągnięcia w kontekście bieżącego przeglądu rozporządzenia. Wśród nich znalazły się na przykład:-  zwolnienie spółki międzynarodowej z kontroli eksportu niematerialnych transferów między centralą znajdującą się w UE a filiami zagranicznymi;-  przejście z obecnego systemu opierającego się na decyzjach kontrolnych dotyczących eksportu, podejmowanych w trybie ex ante lub indywidualnie dla poszczególnych przypadków i wydawanych poszczególnym eksporterom dla większości produktów wymienionych w załączniku I w eksporcie do państw trzecich, na system certyfikowanych eksporterów z regularnymi audytami ich wewnętrznych programów zgodności oraz intensywnym dialogiem między władzami a przemysłem;-  wprowadzenie ustanowionego wcześniej maksymalnego terminu na rozpatrzenie przez organy krajowe wniosków o wydanie zezwolenia na eksport;-  wprowadzenie zwolnienia z obowiązku ubiegania się o zezwolenie na eksport dla wszystkich małych próbek oraz wysyłek o niewielkiej wartości. Komisja rozpatrzy jednak w 2007 r. możliwość zaproponowania nowych wspólnotowych zezwoleń eksportowych w celu ułatwienia wywozu niektórych produktów do niektórych miejsc przeznaczenia w oparciu o stosowne informacje od przedstawicieli przemysłu, przy czym może to także dotyczyć wprowadzenia w niektórych przypadkach zasady de minimis ;-  wyeliminowanie lub radykalne uproszczenie kontroli produktów nieumieszczonych w wykazie, którą to kontrolę państwa członkowskie mogą stosować oprócz kontroli produktów wymienionych w rozporządzeniu.Jednakże Komisja jest wrażliwa na obawy przemysłu i będzie dalej prowadzić prace nad zapewnieniem jak najmniej uciążliwych ram prawnych, aby wzmocnić pozycję konkurencyjną przemysłu na rynku międzynarodowym. Z tego względu do wniosku dotyczącego zmiany rozporządzenia dodano zapis w sprawie przeglądu.Środki wykorzystane do publicznego udostępnienia porad ekspertówWyniki badania zostały udostępnione w Internecie w dniu 23 lutego 2006 r. pod następującym adresem:http://ec.europa.eu/comm/trade/issues/sectoral/industry/dualuse/pr230206_en.htmOcena wpływuJeżeli chodzi o decyzję o doprecyzowaniu definicji niematerialnych transferów technologii, nie jest jasne, czy obecny art. 2 lit. b ppkt iii) obejmuje przekazywanie kontrolowanej technologii podwójnego zastosowania przez strony trzecie mające swoją siedzibę poza UE za pośrednictwem dostępu do intranetu. Może to mieć wpływ na przemysł, gdyż obecnie nie istnieje ogólnounijna definicja, nie zharmonizowano też kwestii egzekwowania kontroli technologii niematerialnych. Wpływ ten można jednak zmniejszyć, przyjmując wytyczne UE w sprawie wdrażania narzędzi kontroli transferów niematerialnych, które obejmowałyby praktyczne rozumienie zakresu technologii w sferze publicznej.Rozważono różnorodne możliwości kontrolowania tranzytu i przeładunku . Ze względu na duży ilość towarów handlowych przechodzących przez terytorium UE możliwość poddania wszystkich tranzytów i przeładunków produktów podwójnego zastosowania wymogowi dokonywania systematycznego uzyskiwania wcześniejszych zezwoleń została wykluczona jako niemożliwa do zrealizowania i nadmiernie uciążliwa. Utrzymano natomiast możliwość zezwolenia właściwym organom wszystkich państw członkowskich na zajęcie produktu podwójnego zastosowania w trakcie tranzytu lub przeładunku, gdy istnieją uzasadnione sygnały (głównie ze źródeł wywiadowczych), że dany produkt jest lub może być przeznaczony do nielegalnego rozprzestrzeniania w państwie trzecim. Możliwość ta istnieje już w niektórych państwach trzecich, gdyż pozwala im ona na realizację inicjatywy dotyczącej przeciwdziałania rozprzestrzenianiu broni masowego rażenia. Wpływ tej możliwości na tę niewielką grupę państw członkowskich, które w przeszłości stosowały wymóg systematycznego uzyskiwania wcześniejszych zezwoleń na tranzyt produktów podwójnego zastosowania powinien być minimalny, gdyż – według informacji z tych krajów – liczba takich zezwoleń nie sięga 10 rocznie.Zbadano różne możliwości nakładania sankcji za nielegalne pośrednictwo w handlu produktami podwójnego zastosowania na podstawie definicji określającej pośrednictwo jako usługę ułatwiającą zawarcie transakcji dotyczącej produktów podwójnego zastosowania. Wzięto pod uwagę, że narzędzia kontroli pośrednictwa objęłyby towary znajdujące się poza UE, a tym samym podlegające ustawodawstwu państw trzecich. Badanie ujawniło ogromną trudność w egzekwowaniu takich kontroli. Uznano, że kontrola powinna obejmować wyłącznie następujące dwa przypadki:-  kiedy pośrednik jest świadomy nielegalnych zastosowań końcowych towarów (związanych z bronią masowego rażenia) w państwach trzecich;-  kiedy państwo członkowskie, w którym ma siedzibę pośrednik, poinformowało go o takim ryzyku.Te dwa przypadki będą skutkowały obowiązkiem złożenia wniosku o zezwolenie przez pośrednika/dostawcę usług pośrednictwa, jeżeli zamierza on zrealizować transakcję.Wyraźne odniesienie do możliwości wprowadzenia przez państwa członkowskie elektronicznego zarządzania wnioskami eksportowymi oraz zezwoleniami w przekształconym art. 10 ust. 4 ułatwi działania administracji krajowych oraz eksporterów.Zbadano różne możliwości zharmonizowania warunków stosowania różnych typów zezwoleń na eksport dostępnych zgodnie z rozporządzeniem, aby stworzyć równe reguły gry i poprawić bezpieczeństwo w UE.W odniesieniu do generalnego wspólnotowego zezwolenia na eksport , pod wpływem badania oceny wpływu Komisja zdecydowała się na doprecyzowanie znaczenia „rejestracji” i „zgłaszania” zdefiniowanych obecnie w załączniku II do rozporządzenia oraz na ograniczenie warunków, na podstawie których wniosek o wydanie generalnego wspólnotowego zezwolenia na eksport może zostać rozpatrzony odmownie (przekształcony artykuł 6 ust. 1 lit. a)). Doprowadziło to do większej zbieżności praktyk w ramach UE.Odnośnie do harmonizacji warunków stosowania generalnych krajowych zezwoleń na eksport, badanie dotyczące oceny wpływu wykazało, że niektóre państwa członkowskie nie miały systemu rejestracji, a tym samym – nie mając informacji o użytkownikach – nie mogły zapewnić wykonania rozporządzenia w pełnym zakresie. Możliwość zmiany rozporządzenia ma na celu wypełnienie tej luki. Badanie uwypukliło również fakt, że eksporterzy, którzy mogliby odnieść korzyść z istnienia generalnych krajowych zezwoleń na eksport na szczeblu krajowym[1] istotnie mają przewagę względem pozostałych eksporterów. Wniosek Komisji dotyczący stworzenia nowych generalnych wspólnotowych zezwoleń na eksport uzyskał szerokie poparcie wśród przedstawicieli przemysłu oraz przychylność państw członkowskich. Komisja będzie starała się wysunąć te propozycje w 2007 r. na podstawie informacji od eksporterów oraz rozmów z państwami członkowskimi.W odniesieniu do możliwości zharmonizowania praktyk państw członkowskich w zakresie udzielania globalnych zezwoleń na eksport poprzez zobowiązanie eksportera do realizacji wewnętrznego programu zgodności , badanie ujawniło, że w przypadku realizacji takich programów są one uznawane za czynniki pozytywne. W rzeczywistości wewnętrzne programy zgodności znacząco zwiększają możliwości eksporterów w zakresie przestrzegania przepisów dotyczących kontroli eksportu. Wniosek Komisji ma na celu zachęcenie państw członkowskich do udzielania globalnych zezwoleń na eksport przedsiębiorstwom posiadającym wewnętrzny program zgodności.Zbadano możliwość zwiększenia koordynacji oraz wymiany przez organy krajowe państw członkowskich informacji szczególnie chronionych na temat wdrażania „kontroli zastosowań docelowych” na poziomie krajowym . Na podstawie wyników Komisja zaproponowała stanowisko o charakterze pośrednim między możliwością badaną w trakcie oceny wpływu (systematyczna wymiana informacji między krajowymi organami celnymi o ważnych wnioskach składanych przez wszystkie państwa członkowskie) oraz obecną sytuacją, która jest niezadowalająca z punktu widzenia handlu oraz bezpieczeństwa. Wniosek ma na celu zobowiązanie państw członkowskich do przekazywania innym państwom członkowskim oraz Komisji ogólnych wymogów, jakie nakładają na krajowych eksporterów w zakresie obowiązku posiadania zezwolenia na eksport produktów nieobecnych w wykazie do określonych użytkowników końcowych. W odpowiednim czasie powinno to doprowadzić do większej zgodności polityki poszczególnych krajów oraz lepszej jakości informacji i większej przejrzystości z perspektywy przemysłu eksportującego.Wprowadzono zmiany w art. 7 ust. 2, art. 9 oraz art. 15 rozporządzenia, aby:-  ujednolicić ramy prawne UE dotyczące nieformalnych, choć politycznie obowiązujących zasad ustalonych w międzynarodowych systemach kontroli eksportu, w ramach których regularnie sprawdza się zasadność odmów;-  zapewnić szersze konsultacje między państwami członkowskimi w przypadku rozbieżności w ocenie niektórych wniosków o wydanie zezwolenia na eksport oraz stworzyć równe reguły gry w ramach UE;-  umożliwić Komisji opracowanie w przyszłości bezpiecznego elektronicznego systemu wymiany informacji chronionych lub niejawnych na poziomie UE.Oczekuje się, że przestawione wyżej propozycje będą miały pozytywny wpływ zarówno na handel, jak i na kwestie bezpieczeństwa.Zgodnie z proponowanym przekształconym artykułem 11 rozporządzenia zmiany w wykazie produktów kontrolowanych będą wprowadzane z zastosowaniem procedury komitologii ustanowionej w przekształconym artykule 19, która zastąpi wymóg wydania przez Radę formalnego rozporządzenia. Przyspieszy to aktualizację wykazu produktów kontrolowanych zgodnie z decyzjami podejmowanymi w ramach systemów kontroli eksportu.Wynikające z art. 16 obowiązki dotyczące przechowywania zapisów zostały zmienione, aby należycie uwzględnić wymagania przemysłu, poparte pracami przeprowadzonymi wspólnie z ekspertami z państw członkowskich. Ma to na celu poprawę obecnej sytuacji poprzez wprowadzenie proporcjonalnych i egzekwowalnych wymogów zależnych od przedmiotowych transferów.Przekształcony art. 21 przewidujący nałożenie sankcji karnych przynajmniej za poważne naruszenia rozporządzenia i przepisów wykonawczych będzie stanowił instrument zniechęcający do naruszania regulacji prawnych dotyczących kontroli eksportu.Przekształcony art.22 dotyczący współpracy międzynarodowej:- przyczyni się do rozwiązywania obecnie występujących sytuacji takich jak m.in. sytuacja, w której eksporterzy w państwach trzecich oraz w UE mają obowiązek stosowania narzędzi kontroli w wypadku transferu produktów podwójnego zastosowania na jednolitym rynku (a konkretnie, gdy prawo państw trzecich wprowadza zasady dotyczące powrotnego wywozu, w ramach jednolitego rynku, importowanych produktów podwójnego zastosowania);- pozwoli na wzajemne uznawanie zezwoleń eksportowych, co potencjalnie może znacznie ułatwić wspólne projekty przemysłowe lub badawcze, w szczególności te realizowane z udziałem państw trzecich będących członkami międzynarodowych systemów kontroli eksportu lub wymienionych w aktualnym generalnym wspólnotowym zezwoleniu na eksport;- pozwoli na przyjęcie szczególnych zasad kontroli eksportu w całej UE, które miałyby zastosowanie do technologii opracowanych w UE w kontekście finansowanych ze środków Wspólnoty programów międzynarodowych z udziałem państw trzecich oraz objęłyby dostęp do tych technologii za pośrednictwem środków niematerialnych.Zastąpienie istniejących obecnie uprzednich zezwoleń na transfer produktów wymienionych w obecnym załączniku IV (przekształcony art. 25) między państwami członkowskimi procedurą wstępnego zgłoszenia ułatwi transfery w ramach rynku wewnętrznego bez wywierania ujemnego wpływu na bezpieczeństwo, gdyż państwa członkowskie zachowają możliwość zablokowania takich transferów z uzasadnionych przyczyn.Istnieje wreszcie szereg propozycji, aby w konkretnych obszarach przyjąć najlepsze praktyki oraz środki administracyjne, których wpływ nie został wprawdzie oceniony, lecz uzasadnienie polityczne można dla nich znaleźć w zmianach zachodzących w międzynarodowych systemach kontroli eksportu oraz w zaleceniach przyjętych przez Radę w następstwie procedury wzajemnej weryfikacji.3) ASPEKTY PRAWNE WNIOSKUKrótki opis proponowanych działańNiniejszy wniosek stanowi przekształcenie rozporządzenia Rady (WE) nr 1334/2000 zgodnie z porozumieniem międzyinstytucjonalnym w sprawie technik przekształcania aktów prawnych. Tekst wniosku łączy w sobie poprawki merytoryczne do rozporządzenia Rady (WE) nr 1334/2000 oraz niezmienione przepisy tego rozporządzenia. Wniosek zastąpi i uchyli powyższe rozporządzenie. Dzięki temu prawodawstwo Wspólnoty stanie się bardziej przystępne i przejrzyste.Wśród proponowanych zmian do rozporządzenia znajduje się w szczególności pięć pozycji, w przypadku których proponowane zmiany wykraczają poza dostosowanie techniczne i aktualizację rozporządzenia (WE) nr 1334/2000. Są to:-  propozycja wprowadzenia procedury komitologii w przypadku dokonywania zmian w załącznikach do rozporządzenia (wykazy produktów kontrolowanych i formularze) oraz w przypadku przyjmowania środków wykonawczych;-  zastąpienie wymogu uzyskania zezwolenia na dokonywany w ramach rynku wewnętrznego transfer produktów wymienionych w przekształconym załączniku V procedurą wstępnego zgłoszenia, co ma ułatwić wymianę handlową w ramach rynku wewnętrznego UE bez powodowania zagrożenia dla bezpieczeństwa;-  wprowadzenie przepisu, zgodnie z którym państwa członkowskie muszą zastosować sankcje karne przynajmniej za naruszenia rozporządzenia; jest to odpowiedź na wezwanie zawarte w planie działania z Salonik dotyczące przyjęcia w UE wspólnego podejścia odnośnie do wprowadzenia odpowiedzialności karnej za nielegalny eksport produktów podwójnego zastosowania, a także na sformułowane w rezolucji 1540 Rady Bezpieczeństwa ONZ wezwania do wprowadzenia odpowiednich kar cywilnych lub sankcji karnych za naruszenia takich przepisów o kontroli eksportu. Obecne systemy sankcji w większości państw członkowskich przewidują zarówno kary administracyjne, jak i sankcje karne. Poprzez minimalną harmonizację na szczeblu UE nowe postanowienie wyeliminuje sytuację, gdy, przynajmniej w przypadku poważnych naruszeń, przestępcy w niektórych państwach członkowskich mogą podlegać sankcjom czysto administracyjnym;-  jeden z motywów wyjaśnia, iż rozporządzenie ustanawia szerokie ramy prawne dla eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania oraz powiązanych z nimi usług. W tym kontekście bezpieczeństwo prawne ma zasadnicze znaczenie dla wywozu produktów, technologii lub usług podwójnego zastosowania podlegającego niniejszemu rozporządzeniu i dokonywanego zgodnie z jego postanowieniami oraz z postanowieniami przyjętymi zgodnie z niniejszym rozporządzeniem w celu jego wykonania. Bezpieczeństwo prawne jest szczególnie ważne w odniesieniu do ustawodawstwa państw trzecich, zgodnie z którym te same przypadku wywozu mogą być uznane za przestępstwo;-  wprowadzenie artykułu przewidującego prowadzenie negocjacji z państwami trzecimi w celu poruszania zagadnień takich jak wymogi dotyczące powrotnego wywozu, w szczególności wtedy, kiedy ich celem jest uniemożliwienia pełnego korzystania z jednolitego rynku przez importerów z UE dokonujących przywozu technologii podwójnego zastosowania pochodzących spoza UE, a także gdy celem jest przyjęcie zasad kontroli eksportu w oparciu o konkretne projekty w przypadku udziału państw trzecich w projektach finansowanych ze środków WE.Pozostałe główne propozycje zmian i przekształcenia rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 przedstawiono niżej:-  wprowadzenie narzędzi kontroli tranzytu;-  wprowadzenie narzędzi kontroli pośrednictwa oraz sankcji za nielegalne pośrednictwo w zakresie produktów podwójnego zastosowania związanych z programem dotyczącym broni masowego rażenia;-  doprecyzowanie oraz aktualizacja narzędzi kontroli niematerialnych transferów technologii, w tym świadczenia pomocy technicznej;-  wprowadzenie pewnych ograniczonych korekt dotyczących stosowania krajowych narzędzi kontroli wobec produktów niewymienionych w rozporządzeniu, aby podnieść ich efektywność i przejrzystość;-  harmonizacja warunków stosowania zezwoleń generalnych;-  włączenie kryterium pozwalającego na łatwiejsze udzielanie pozwoleń globalnych eksporterom realizującym wewnętrzne programy zgodności;-  wprowadzenie możliwości szerszych konsultacji wśród zainteresowanych państw członkowskich przed udzieleniem zezwoleń dla przypadków co do zasady podobnych do transakcji, na które nie udzielono zezwolenia;-  poprawa wymiany informacji o transakcjach, na które nie udzielono zezwolenia, oraz innych informacji szczególnie chronionych oraz możliwość wprowadzenia w przyszłości szyfrowanego systemu elektronicznego umożliwiającego wymianę informacji o decyzjach odmownych oraz innych informacji niejawnych;-  zobowiązanie do rejestracji eksporterów i dostawców najbardziej newralgicznych produktów w ramach Wspólnoty we właściwych organach krajowych;-  zobowiązanie władz krajowych do wprowadzenia orientacyjnych terminów rozpatrywania wniosków o zezwolenia na eksport oraz terminów rozpatrywania wniosków o udzielenie przez organy udzielające koncesji informacji dotyczących stosowania krajowych kontroli.Niektóre środki pozostawiono do dalszych działań regulacyjnych zgodnie z procedurą komitologii. Przykładem jest dostosowanie wzorcowego formularza z załącznika III, aby był on zgodny z wzorcem dokumentów handlowych Organizacji Narodów Zjednoczonych, który stanowi dla rządów, organizacji i środowisk biznesu podstawę standardowego, ujednoliconego schematu dokumentów stosowanych w handlu i transporcie, w celu ułatwienia stosowania pozwoleń.Podstawa prawnaArtykuł 133 traktatu WE.Zasada pomocniczościNiniejszy wniosek wchodzi w zakres wyłącznych kompetencji Wspólnoty. Zasada pomocniczości nie ma zatem zastosowania.Zasada proporcjonalnościWniosek jest zgodny z zasadą proporcjonalności z następujących względów.Zaproponowano wyłącznie takie zmiany do rozporządzenia, które są niezbędne i których uzasadnienie zostało potwierdzone. Inne zagadnienia zostaną poruszone oraz są podejmowane w ramach działań administracyjnych, bądź najlepszych praktyk, czy działań na poziomie krajowym.Jak stwierdzono wyżej obciążenie finansowe i administracyjne zostało zredukowane do minimum, gdyż nowe obowiązki zostały ograniczone do zakresu, który może być realnie egzekwowany, a niektóre spośród nowych środków ułatwią zarządzanie narzędziami kontroli eksportu.Wybór instrumentówProponowany instrument: rozporządzenie.Inne instrumenty byłyby niewłaściwe – po pierwsze dlatego, że zmiany istniejącego instrumentu prawnego (rozporządzenie Rady) można dokonać tylko na mocy innego rozporządzenia. Po drugie orzeczenia Europejskiego Trybunału Sprawiedliwości wyraźnie stanowią, że kontrola eksportu produktów podwójnego zastosowania to obszar wyłącznych kompetencji Wspólnoty. Inne środki, mające charakter pozaprawny i spełniające kryterium wnoszenia wartości dodanej dla UE, zostały zaproponowane w komunikacie.4) WPłYW NA BUDżETW KRÓTKIEJ PERSPEKTYWIE CZASOWEJ WNIOSKI NIE BęDą MIAłY ZNACZąCYCH SKUTKÓW FINANSOWYCH DLA UE. EWENTUALNE OPRACOWANIE I USTANOWIENIE BEZPIECZNEGO SYSTEMU UE SłUżąCEGO PRZEKAZYWANIU INFORMACJI O ODMOWACH I INNYCH INFORMACJI SZCZEGÓLNIE CHRONIONYCH BęDZIE MIAłO UMIARKOWANY KOSZT FINANSOWY, JEDNAKżE DECYZJA O TYM, CZY SYSTEM TAKI NALEżY OPRACOWAć, ZOSTANIE PODJęTA W POROZUMIENIU Z PAńSTWAMI CZłONKOWSKIMI NAJWCZEśNIEJ W PIERWSZEJ POłOWIE 2007 R. OCENA KOSZTÓW USTANOWIENIA TAKIEGO SYSTEMU ZNAJDUJE SIę W ZAłąCZNIKU.5) INFORMACJE DODATKOWEUproszczenieWniosek przewiduje uproszczenie przepisów oraz procedur administracyjnych dla władz publicznych (wspólnotowych lub krajowych) oraz dla podmiotów prywatnych.Wykorzystanie techniki przekształcenia umożliwia Wspólnocie połączenie w jednym tekście proponowanych poprawek merytorycznych do rozporządzenia Rady i niezmienionych przepisów tego rozporządzenia. Ponadto poprawiono dotychczasowy tekst rozporządzenia i nadano mu większą jasność w celu poprawy jakości regulacji prawnych.Szereg propozycji uprości pracę administracji Wspólnoty (procedura komitologii w przypadku zmian w załącznikach oraz przyjmowania wytycznych) oraz podmiotów prywatnych (przyswajanie najlepszych praktyk w celu wykonania rozporządzenia, harmonizacja warunków stosowania zezwoleń eksportowych oraz ich formatu, systemy elektroniczne umożliwiające zarządzanie wnioskami o pozwolenia).Uchylenie obowiązującego prawodawstwaPrzyjęcie niniejszego wniosku będzie się wiązało z uchyleniem obowiązującego prawodawstwa.PrzekształcenieWniosek obejmuje przekształcenie.ZałącznikKoszty ewentualnego utworzenia bezpiecznego systemu wymiany informacji, o którym mowa w zmienionym art. 15 ust. 4 wniosku dotyczącego rozporządzeniaWprowadzenieProponowany nowy art. 15 ust. 4 przekształconego rozporządzenia ustanawia możliwość stworzenia bezpiecznego systemu wymiany informacji pomiędzy państwami członkowskimi oraz, o ile właściwe, także z udziałem Komisji. System taki służyłby w szczególności do uzyskiwania dostępu w trybie online do bazy danych zawierającej decyzje odmowne dla wniosków o zezwolenie na eksport (informacje obecnie przekazywane na nośniku CD-ROM), aczkolwiek można również rozważyć inne możliwe zastosowania ułatwiające wymianę informacji przewidzianą w rozporządzeniu.Na tym etapie wniosek ma na celu stworzenie podstawy prawnej na wypadek, gdyby decyzja taka została podjęta; nie przesądza on jednak z góry o żadnej przyszłej decyzji, gdyż musiałaby ona zostać podjęta dopiero po rozważeniu parametrów wymaganych dla takiego systemu oraz w uzgodnieniu z państwami członkowskimi.Linia budżetowa, której dotyczy wniosek20.02.01, w ramach operacyjnej części budżetu oraz w ramach dostępnych kwot bieżących.Szacunkowe kosztyGdyby w przyszłości podjęta została decyzja o stworzeniu takiego systemu, budżet mógłby zostać podzielony na pięć części wyszczególnionych w poniższej tabeli:2007 | 2008 | 2009 | 2010 | Ogółem |Opracowanie | 200.000 | 50.000 | 0 | 0 | 250.000 |Utrzymanie | 10.000 | 20.000 | 20.000 | 50.000 |Infrastruktura | 30.000 | 10.000 | 40.000 |Sieć | 25.000 | 15.000 | 15.000 | 55.000 |Obsługa infrastruktury | 30.000 | 20.000 | 20.000 | 70.000 |Obsługa użytkowników | 40.000 | 30.000 | 30.000 | 100.000 |Ogółem | 200.000 | 185.000 | 85.000 | 95.000 | 565.000 |Opracowanie systemu polegałoby na odnowieniu obecnej bazy danych z zastosowaniem technologii serwerowej oraz na włączeniu dodatkowych funkcji i możliwości. Znacząca część obecnej bazy danych (np. format) zostałaby jednak ponownie wykorzystana.Jeżeli chodzi o koszty sieci, z zasady powinny być one bardzo ograniczone, gdyż wykorzystana zostałaby obecna sieć Testa secure . Koszty te nie obejmują ponoszonych przez państwa członkowskie kosztów połączenia. W przypadku rozważania odrębnej sieci tworzonej doraźnie niezbędny byłby konkretny budżet. Możliwość ta nie jest jednak rozważana.Budżet przeznaczony na obsługę użytkowników uwzględniałby utworzenie punktu kontaktowego, który mógłby obsługiwać jednocześnie inne realizowane obecnie projekty.⎢ 1334/20002006/0266 (ACC)WniosekROZPORZĄDZENIE RADYustanawiające wspólnotowy system kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowaniaRADA UNII EUROPEJSKIEJ,uwzględniając Traktat ustanawiający Wspólnotę Europejską, w szczególności jego art. 133,uwzględniając wniosek Komisji,a także mając na uwadze, co następuje:∫ nowy1.  Rozporządzenie Rady (WE) nr 1334/2000 z dnia 22 czerwca 2000 r. ustanawiające wspólnotowy system kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania[2] uległ znaczącym zmianom i dla zachowania jego jasności należy dokonać jego przekształcenia.⎢ 1334/2000 motyw 1 (dostosowany)(2) Produkty podwójnego zastosowania (włącznie z oprogramowaniem i technologią) powinny podlegać skutecznej kontroli podczas eksportu ze Wspólnoty √ Europejskiej  .⎢ 1334/2000 motyw 2(3) Niezbędny jest efektywny, wspólny system kontroli eksportu produktów podwójnego zastosowania, aby zapewnić wypełnianie międzynarodowych ustaleń i zobowiązań państw członkowskich, (w szczególności odnośnie nieproliferacji), i Unii Europejskiej.⎢ 1334/2000 motyw 3(4) Istnienie wspólnego systemu kontroli i zharmonizowanej polityki w zakresie wykonywania i monitorowania we wszystkich państwach członkowskich, jest warunkiem wstępnym dla ustanowienia swobodnego przepływu produktów podwójnego zastosowania wewnątrz Wspólnoty.⎢ 1334/2000 motyw 4 (dostosowany)(4) Istniejący system kontroli eksportu produktów podwójnego zastosowania, ustanowiony rozporządzeniem Rady (WE) nr 3381/94[3] i decyzją Rady 94/942/WPZiB[4], wymaga dalszej harmonizacji w celu zagwarantowania skutecznej kontroli.⎢ 1334/2000 motyw 6? nowy(5) Odpowiedzialność za podejmowanie decyzji w sprawach składania wniosków o ð indywidualne, globalne lub generalne krajowe ï zezwolenia na eksport ð lub o zezwolenia na świadczenie usług pośrednictwa lub o nadzór transferu produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku V w ramach wspólnego rynku ï spoczywa na władzach krajowych. Przepisy krajowe i decyzje wpływające na eksport produktów podwójnego zastosowania muszą być podejmowane w ramach wspólnej polityki handlowej, w szczególności w oparciu o rozporządzenie Rady (EWG) nr 2603/69 z dnia 20 grudnia 1969 r. ustanawiające wspólne reguły wywozu[5].⎢ 1334/2000 motyw 7 (dostosowany)? nowy(6) Decyzje o aktualizacji wspólnych wykazów ð wspólnego wykazu ï produktów podwójnego zastosowania √ podlegających kontroli eksportu  muszą być całkowicie zgodne ze zobowiązaniami i ustaleniami, jakie każde z państw członkowskich przyjęło ð państwa członkowskie przyjęły ï jako członek ð członkowie ï odpowiednich międzynarodowych reżimów nieproliferacyjnych i porozumień w sprawie kontroli eksportu, lub przez ratyfikowanie stosownych traktatów międzynarodowych.⎢ 1334/2000 motyw 5 (dostosowany)? nowy(7) Podstawowymi elementami skutecznego systemu √ UE w zakresie  kontroli eksportu są wspólne wykazy produktów podwójnego zastosowania, miejsc przeznaczenia i wytycznych; wykazy te zostały ustanowione decyzją 94/942/WPZiB z kolejnymi zmianami, i powinny zostać włączone do niniejszego rozporządzenia. ð decyzje uzgodnione przez państwa członkowskie w ramach międzynarodowych systemów kontroli eksportu powinny być szybko uwzględnione w formie poprawek do załącznika I rozporządzenia, w którym wymienia się produkty podlegające kontroli w UE, a także należy ustanowić procedury w celu przyjęcia przez Komisję środków służących wykonaniu rozporządzenia w porozumieniu z komitetem złożonym z przedstawicieli państw członkowskich. ï⎢ 1334/2000 motyw 8(8) Przekazywanie oprogramowania i technologii za pomocą mediów elektronicznych, faksu lub telefonu, do miejsc przeznaczenia poza Wspólnotą, powinno być także kontrolowane.⎢ 1334/2000 motyw 9(9) Szczególną uwagę należy zwrócić na kwestie powrotnego wywozu i końcowego zastosowania.⎢ 1334/2000 motyw 10(10) Dnia 22 września 1998 r. przedstawiciele państw członkowskich i Komisja Europejska podpisali protokoły dodatkowe do odpowiednich porozumień ochronnych między państwami członkowskimi, Europejską Wspólnotą Energii Atomowej i Międzynarodową Agencją Energii Atomowej, które oprócz innych środków, zobowiązują państwa członkowskie do dostarczania informacji na temat transferów określonego sprzętu i materiałów niejądrowych.⎢ 1334/2000 motyw 11(11) Wspólnota przyjęła zespół zasad celnych, zawartych w rozporządzeniu Rady (EWG) nr 2913/92 z dnia 12 października 1992 r. ustanawiającym Wspólnotowy Kodeks Celny oraz rozporządzeniue Komisji (EWG) nr 2454/93[6] wprowadzająceym rozporządzenie (EWG) nr 2913/92[7], które ustanawiają, między innymi, przepisy dotyczące wywozu i powrotnego wywozu towarów. Niniejsze rozporządzenie to nie ogranicza żadnych jakichkolwiek uprawnień przyznanych na mocy i w zastosowaniu Wspólnotowego Kodeksu Celnego i jego przepisów wykonawczych.⎢ 1334/2000 motyw 12? nowy(12) Na podstawie i w ramach art. 30 Traktatu i do czasu osiągnięcia większego stopnia harmonizacji, państwa członkowskie utrzymają prawo przeprowadzania kontroli transferów niektórych produktów podwójnego zastosowania we Wspólnocie Europejskiej w celu ochrony porządku i bezpieczeństwa publicznego. ? Wspomniane wewnątrzwspólnotowe kontrole produktów wymienionych w załączniku V będą polegać na wstępnych zawiadomieniach o wysyłkach dokonywanych wewnątrz UE, co będzie miało na celu zarówno zapewnienie większej zgodności z postanowieniami Traktatu Euratom, jak i ułatwienie handlu produktami podwójnego zastosowania wewnątrz Wspólnoty. Środki przyjęte przez państwa członkowskie w celu wykonania tych nowych przepisów nie będą obejmować stosowania kontroli na granicach wewnątrz Wspólnoty, lecz jedynie przepisy zmierzające np. do zapewnienia możliwości śledzenia produktów będących w obiegu na wspólnym rynku, stosowane w ramach procedur kontrolnych przeprowadzanych w sposób niedyskryminujący na całym terytorium Wspólnoty. ï W przypadkach gdy takie kontrole wiążą się z efektywnością kontroli eksportu ze Wspólnoty, Rada będzie dokonywać ich okresowych przeglądów będą one okresowo przeglądane przez Radę.⎢ 1334/2000 motyw 13(13) W celu zapewnienia właściwego stosowania niniejszego rozporządzenia, każde z państw członkowskich powinno podjąć środki przyznające właściwym organom odpowiednie uprawnienia.∫ nowy(14) Rezolucja Rady Bezpieczeństwa ONZ nr 1540, przyjęta w dniu 28 kwietnia 2004 r., wzywa w szczególności do odpowiedniego przeciwdziałania nielegalnemu wywozowi, powrotnemu wywozowi , tranzytowi, przeładunkowi i pośrednictwu w handlu produktami podwójnego zastosowania. W związku z tym należy jednoznacznie przewidzieć możliwość przechwytywania i przejmowania przez władze państw członkowskich produktów podwójnego zastosowania w czasie tranzytu, jeśli mają one służyć lub mogą służyć proliferacji broni masowego rażenia lub środków jej przenoszenia w państwie trzecim, a także należy wprowadzić kontrole dotyczące świadczenia usług pośrednictwa w sytuacji, gdy pośrednik został poinformowany przez właściwe organy krajowe bądź jest świadomy, że może to prowadzić do produkcji lub dostarczania nielegalnej broni masowego rażenia w państwie trzecim.(15) Wskazane jest doprowadzenie do jednolitego i konsekwentnego stosowania kontroli w całej Unii Europejskiej, aby uniknąć narażania bezpieczeństwa UE i bezpieczeństwa międzynarodowego oraz nieuczciwej konkurencji między eksporterami z państw UE. W ramach tego celu i zgodnie z zaleceniami planu działań z Salonik przyjętego przez szefów państw i rządów w czerwcu 2003 r. oraz uzupełnionego strategią w sprawie broni masowego rażenia, postanawia się:-  rozszerzyć zakres okoliczności, w których państwa członkowskie mogą konsultować się z innymi państwami członkowskimi przed udzieleniem zezwolenia na eksport, które mogłoby np. zagrozić istotnym interesom innego państwa członkowskiego w zakresie bezpieczeństwa;-  zapewnić większą zbieżność warunków wdrożenia krajowych kontroli produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w rozporządzeniu;-  uzupełnić definicję niematerialnych transferów technologii, tak aby objęła ona udostępnianie kontrolowanych technologii osobom znajdującym się poza UE oraz usługi pomocy technicznej świadczone za pośrednictwem środków elektronicznych; dostosować wymogi rejestrowania niematerialnych transferów technologii do rzeczywistych możliwości eksporterów poprzez wprowadzenie poprawek do art. 16;-  zharmonizować warunki wykorzystywania różnych rodzajów zezwoleń, które mogą być udzielane zgodnie z rozporządzeniem;-  dokonać dalszego dostosowania sposobów wzajemnego przekazywania przez państwa członkowskie szczególnie chronionych informacji do istniejących praktyk w ramach międzynarodowych systemów kontroli eksportu, w szczególności poprzez wprowadzenie do rozporządzenia pojęć faktycznej odmowy lub ważnej odmowy, a także przewidzieć możliwość ustanowienia bezpiecznego elektronicznego systemu wzajemnego przekazywania informacji przez państwa członkowskie.(16) Ponieważ eksporterzy z UE działający w różnych krajach mogą podlegać różnym normom kontroli eksportu, wprowadza się możliwość prowadzenia przez Komisję negocjacji z państwami trzecimi w szczególności w celu uznania przez nie systemu UE oraz jego specyficznych cech, takich jak wspólny rynek produktów podwójnego zastosowania oraz wspólna polityka handlu zagranicznego, mająca zastosowanie do produktów podwójnego zastosowania.⎢ 1334/2000 motyw 14? nowy(17) Każde państwo członkowskie powinno określić ð skuteczne, proporcjonalne i odstraszające ï kary, jakie będą nakładane w przypadkach naruszenia przepisów niniejszego rozporządzenia.∫ nowy(18) W celu poprawy skuteczności systemu UE w zakresie eksportu produktów podwójnego zastosowania oraz powiązanych z nimi usług i zgodnie z rezolucją Rady Bezpieczeństwa ONZ nr 1540, konieczne jest wprowadzenie możliwości nakładania prawnych sankcji karnych, w szczególności za istotne naruszenia rozporządzenia oraz innych przepisów przyjętych przez państwa członkowskie w celu jego wykonania. Ponadto podczas posiedzenia w dniach 17 i 18 czerwca 2004 r. Rada Europejska przyjęła deklarację o sankcjach karnych, nawiązując do przyjętego przez państwa członkowskie zobowiązania do przyjęcia wspólnej polityki dotyczącej sankcji karnych za nielegalny eksport i przemyt materiałów mających związek z bronią masowego rażenia oraz pośrednictwo w handlu nimi, które to zobowiązanie zostało wyrażone w europejskiej strategii przeciwdziałania rozprzestrzenianiu broni masowego rażenia przyjętej w dniu 12 grudnia 2003 r.(19) Rozporządzenie ustala spójne ramy regulujące eksport produktów, technologii i usług podwójnego zastosowania z Unii Europejskiej. Pod tym względem bezpieczeństwo prawne jest kwestią o zasadniczym znaczeniu dla eksporterów produktów lub usług objętych zakresem niniejszego rozporządzenia, którzy działają zgodnie z jego przepisami oraz przepisami wykonawczymi przyjętymi zgodnie z nim, w sytuacji gdy w myśl odmiennego ustawodawstwa państwa trzeciego eksport tego rodzaju może stanowić przestępstwo.(20) W celu skutecznego egzekwowania przepisów rozporządzenia właściwe organy krajowe odpowiedzialne za jego wykonanie muszą znać eksporterów zamierzających eksportować produkty podwójnego zastosowania lub dostawców zamierzających dokonywać w ramach Wspólnoty transferu produktów wymienionych w załączniku V.⎢ 1334/2000 motyw 15 (dostosowany)Parlament Europejski wyraził swoją opinię w rezolucji z dnia 13 kwietnia 1999 r[8].⎢ 1334/2000 motyw 16 (dostosowany)W świetle niniejszego, rozporządzenie (WE) nr 3381/94 traci moc,⎢ 1334/2000PRZYJMUJE NINIEJSZE ROZPORZĄDZENIE:ROZDZIAŁ IPRZEDMIOT I DEFINICJE⎢ 1334/2000? nowyArtykuł 1Niniejsze rozporządzenie ustanawia wspólnotowy system kontroli eksportu produktów podwójnego zastosowania ð i powiązanych z nimi usług oraz tranzytu produktów podwójnego zastosowania ï.⎢ 1334/2000 Art. 2 (dostosowany)? nowyArtykuł 2Do celów niniejszego rozporządzenia:a) „produkty podwójnego zastosowania” oznaczają produkty, włącznie z oprogramowaniem i technologią, które mogą być stosowane zarówno w celach cywilnych jak i wojskowych, oraz obejmująe wszystkie towary, które mogą być stosowane zarówno w celach w zastosowaniach niewybuchowych, jak i w jakikolwiek sposób do wspomagania wytwarzania broni jądrowej lub innych urządzeń do wybuchu jądrowego;b) „eksport” oznacza:(i) procedurę wywozu zgodnie z √ w rozumieniu  art. 161 √ rozporządzenia (WE) nr 2913/92  (Wspólnotowego Kodeksu Celnego);(ii) powrotny wywóz zgodnie z √ w rozumieniu  art. 182 tego Kodeksu oraz(iii) przekazywanie oprogramowania lub technologii ð bądź świadczenie pomocy technicznej ï przez media elektroniczne, √ w tym przez  faks, lub telefon ð , pocztę elektroniczną lub wszelkie inne środki elektroniczne, ï do miejsc przeznaczenia poza Wspólnotą √ Europejską  ; stosuje się to do ustnego przekazywania technologii przez telefon tylko wtedy, gdy technologia zawarta jest w dokumencie, którego odpowiednia część jest odczytywana przez telefon, lub opisywana przez telefon w taki sposób, aby osiągnąć ten sam co do istoty rezultat ð , a także obejmuje udostępnianie takiego oprogramowania, technologii lub pomocy technicznej w formie elektronicznej ï ;? (iv) świadczenie usług pośrednictwa w transakcjach dotyczących produktów podwójnego zastosowania, obejmujących ich przekazanie ze Wspólnoty Europejskiej na terytorium państwa trzeciego; ïc) „eksporter” oznacza każdą osobę fizyczną lub prawną ð bądź spółkę: ï(i) w imieniu której dokonywana jest deklaracja eksportowa, to znaczy osobę, która, w czasie gdy deklaracja jest przyjmowana, ma kontrakt z odbiorcą w państwie trzecim i jest uprawniona do decydowania o wysłaniu produktu poza obszar celny Wspólnoty √ Europejskiej  . Jeżeli nie została zawarta żadna umowa eksportowa lub strona umowy nie działa we własnym imieniu, √ „eksporter” oznacza osobę posiadającą  uprawnienie do decydowania o wysłaniu produktu poza obszar celny Wspólnoty √ Europejskiej  jest decydujące;(ii) „eksporter” oznacza także każdą osobę fizyczną lub prawną, która podejmuje decyzję o przekazaniu ð lub udostępnieniu ï oprogramowania lub technologii ð bądź świadczy pomoc techniczną ï √ za pośrednictwem jakichkolwiek środków elektronicznych  przez media elektroniczne, faks lub telefon do miejsca przeznaczenia znajdującego się poza Wspólnotąę √ Europejską  ;∫ nowy(iii) która świadczy usługi pośrednictwa w rozumieniu lit. e).⎢ 1334/2000Gdy przywilej prawa dysponowania produktem podwójnego zastosowania, należy do osoby posiadającej siedzibę poza Wspólnotą, na podstawie umowy, na której opiera się eksport, za eksportera uważa się uUmawiającą się sStronę mającą siedzibę we Wspólnocie;d) „deklaracja eksportowa” oznacza dokument, za pomocą którego osoba wykazuje, w określonej formie i w określony sposób, wolę poddania produktów podwójnego zastosowania procedurze eksportu;.∫ nowye) „usługi pośrednictwa w odniesieniu do produktów podwójnego zastosowania” oznaczają działalność osób, podmiotów i spółek:-  organizujących transakcje lub prowadzących negocjacje w sprawie transakcji, których przedmiotem jest zakup, sprzedaż lub dostawa produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I z państwa trzeciego do jakiegokolwiek innego państwa trzeciego; lub-  kupujących, sprzedających lub dostarczających takie przedmioty z państwa trzeciego do jakiegokolwiek innego państwa trzeciego;f) „pośrednik” oznacza każdą osobę fizyczną lub prawną bądź spółkę świadczącą usługi pośrednictwa w odniesieniu do produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I z terytorium celnego Wspólnoty Europejskiej na terytorium państwa trzeciego;g) „tranzyt” oznacza transport produktów podwójnego zastosowania wprowadzanych na terytorium celne Wspólnoty Europejskiej i przechodzących przez to terytorium do miejsca przeznaczenia znajdującego się poza Wspólnotą Europejską;h) „indywidualne zezwolenie na eksport” oznacza zezwolenie udzielone jednemu konkretnemu eksporterowi w odniesieniu do jednego użytkownika końcowego w państwie trzecim, obejmujące co najmniej jeden produkt lub technologię podwójnego zastosowania;i) „generalne wspólnotowe zezwolenie na eksport” oznacza zezwolenie na eksport (EU 001) w odniesieniu do eksportu do niektórych krajów docelowych, dostępne dla wszystkich eksporterów przestrzegających warunków jego stosowania, wymienionych w art. 6 ust. 1 oraz w załączniku II;j) „globalne zezwolenie na eksport” oznacza zezwolenie udzielone jednemu konkretnemu eksporterowi w odniesieniu do typu lub kategorii produktu podwójnego zastosowania, które może być ważne na eksport do co najmniej jednego konkretnego użytkownika końcowego w co najmniej jednym określonym państwie trzecim;k) „krajowe generalne zezwolenie na eksport” oznacza krajowe zezwolenie opublikowane w dzienniku urzędowym państwa członkowskiego, ważne w odniesieniu do wszystkich eksporterów mających siedzibę w państwie członkowskim, w którym jest opublikowane, spełniających warunki określone w prawie krajowym, które to zezwolenie obejmuje co najmniej jeden określony kraj oraz pewną liczbę produktów podwójnego zastosowania określonych w prawie krajowym i niepodlegających zgłoszeniu zgodnie z art. 9;l) „dostawca” oznacza każdą osobę fizyczną lub prawną bądź spółkę, która dokonuje transferu produktu podwójnego zastosowania wymienionego w załączniku V do niniejszego rozporządzenia z jednego państwa członkowskiego do innego państwa członkowskiego.⎢ 1334/2000ROZDZIAŁ IIZAKRESARTYKUł 31. Eksport produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I wymaga zezwolenia.2. Zgodnie z art. 4 lub art. 5, wymóg uzyskania zezwolenia może także odnosić się do eksportu do wszystkich lub niektórych miejsc przeznaczenia niektórych produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I.∫ nowy3. Zezwolenie na świadczenie usług pośrednictwa w odniesieniu do produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I jest wymagane, jeśli pośrednik otrzymał informacje od właściwych organów w państwie członkowskim, w którym ma siedzibę, bądź też ma podstawy do podejrzeń, że produkty podwójnego zastosowania, których sprawa dotyczy, są lub mogą być przeznaczane do proliferacji broni masowego rażenia lub środków jej przenoszenia w sposób stanowiący naruszenie traktatów i zobowiązań międzynarodowych.4. Niniejsze rozporządzenie nie stosuje się do produktów podwójnego zastosowania, które tylko przechodzą przez terytorium Wspólnoty, to jest tych, którym nie nadano przeznaczenia celnego innego niż procedura tranzytu zewnętrznego, lub które jedynie zostały umieszczone w strefie wolnocłowej lub w składzie wolnocłowym i gdzie nie musi być prowadzona w określony sposób ich ewidencja towarowa.4. Krajowe organy celne mogą czasowo zatrzymać produkty podwójnego zastosowania wymienione w załączniku I, będące w tranzycie, dla przeprowadzenia kontroli. Jeśli w wyniku przeprowadzonej kontroli właściwe organy krajowe mają uzasadnione podstawy do podejrzeń, że produkty te są lub mogą być przeznaczane do nielegalnej proliferacji lub do prób naruszenia bezpieczeństwa międzynarodowego w sposób stanowiący naruszenie traktatów i zobowiązań międzynarodowych, mogą one postanowić o ich przejęciu.⎢ 1334/200053. Niniejsze rozporządzenie nie stosuje się do przypadków świadczenia usług lub przekazywania technologii, jeżeli to świadczenie lub przekazywanie odbywa się poprzez transgraniczny przepływ osób fizycznych.⎢ 1334/2000? nowyArtykuł 41. W przypadku eksportu produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I wymagane jest zezwolenie, jeżeli eksporter został poinformowany przez właściwe organy państwa członkowskiego, w którym ma on siedzibę, że wskazane produkty są lub mogą być przeznaczone, w całości lub w części, do stosowania do celów związanych z rozwojem, wytwarzaniem, obsługą, eksploatacją, konserwacją, przechowywaniem, wykrywaniem, identyfikacją lub rozprzestrzenianiem broni chemicznej, biologicznej, lub jądrowej lub innych urządzeń do wybuchu jądrowego, lub z rozwojem, wytwarzaniem, konserwacją lub przechowywaniem pocisków zdolnych do przenoszenia takich broni.2. Zezwolenie jest również wymagane w przypadku eksportu produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I, jeżeli kraj nabywający lub kraj przeznaczenia podlega embargu na broń ustanowionemu przez wspólne stanowisko lub wspólne działaniewspólną akcję, przyjęteą przez Radę lub decyzję OBWE, lub embargu na broń nałożonemu przez wiążącą rezolucję Rady Bezpieczeństwa Organizacji Narodów Zjednoczonych, i jeżeli eksporter został poinformowany przez organy określone w ust. 1, że wspomniane produkty są lub mogą być przeznaczone, w całości lub w części, do końcowego zastosowania przez wojskowojskowego. Do celów niniejszego ustępu, „końcowe zastosowanie przez wojsko wojskowe”, oznacza znaczy:a) włączenie do produktów wojskowych wymienionych w wykazie na listach uzbrojenia państw członkowskich;b) użycie sprzętu produkcyjnego, badawczego lub analitycznego i ich podzespołów do rozwoju, wytwarzania lub konserwacji produktów wojskowych wymienionych we na wspomnianym ych wyżej wykazie listach;c) użycie niedokończonego produktu w zakładzie do wytwarzania produktów wojskowych wymienionych we na wspomnianym ych wyżej wykazie listach.3. Zezwolenie jest także wymagane w przypadku eksportu produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I, jeżeli eksporter został poinformowany przez organy określone w ust. 1, że wspomniane produkty są lub mogą być przeznaczone, w całości lub w części, do wykorzystania jako części lub podzespoły w produktach wojskowych wymienionych na krajowej liście uzbrojenia, które zostały wyeksportowane z terytorium państwa członkowskiego bez zezwolenia lub z naruszeniem zezwolenia przewidzianego przez ustawodawstwo krajowe tego państwa członkowskiego.4. Jeżeli eksporter jest świadomy tego, że produkty podwójnego zastosowania niewymienione w załączniku I, które proponuje na eksport, są przeznaczone, w całości lub w części, do jakichkolwiek zastosowań określonych w ust. 1, 2 i 3, musi on powiadomić organy określone w ust. 1, które podejmą decyzję, czy jest, czy nie jest celowe jest wymaganie zezwolenia dla danego eksportu.5. Państwa członkowskie mogą przyjąć lub utrzymać krajowe ustawodawstwo nakładające wymagania uzyskania zezwolenia dotyczące eksportu produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I, jeżeli eksporter ma podstawy do podejrzeń, że te produkty są lub mogą być przeznaczone, w całości lub w części, do jakiegokolwiek zastosowania do celów określonych w ust. 1.6. Państwo członkowskie, które w zastosowaniu ust. 1-5 nakłada wymóg uzyskania zezwolenia w zastosowaniu ust. 1-5 na eksport dotyczący eksportu produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I, gdy jest stosowne, poinformuje o tym w stosownych przypadkach pozostałe państwa członkowskie i Komisję. ? Państwa członkowskie przekazują również innym państwom członkowskim i Komisji informacje o wszelkich wymogach dotyczących uzyskania zezwoleń, stosowanych ogólnie zgodnie z niniejszym artykułem w odniesieniu do eksportu produktów nieujętych na liście, podlegających takim wymogom, a także przekazują nazwy użytkowników końcowych i odbiorców, do których stosują się te wymogi. ï Pozostałe państwa członkowskie należycie uwzględniają wszystkie tego rodzaju informacje i poinformują, na ile to możliwe, swoje urzędy celne i inne właściwe władze krajowe.7. Przepisy art. 9 ust. 2 i 3 stosują się do przypadków dotyczących produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I.∫ nowy8. Eksporterzy mogą zwracać się do właściwych organów państwa członkowskiego, w którym mają siedzibę, o odpowiedź na pytanie, czy eksport danego produktu podwójnego zastosowania podlega wymogowi uzyskania zezwolenia zgodnie z niniejszym artykułem. Właściwe organy krajowe udzielają odpowiedzi w terminie 20 dni roboczych od przekazania przez eksportera kompletnego wniosku.⎢ 1334/2000 (dostosowany)89. Niniejsze rozporządzenie pozostaje bez uszczerbku dla prawa państw członkowskich do podejmowania krajowych środków na mocy art. 11 rozporządzenia (EWG) nr 2603/69.Artykuł 51. Państwo członkowskie może, ze względów bezpieczeństwa publicznego lub ze względu na prawa człowieka, zabronić eksportu produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I, lub wymagać zezwolenia na ich eksport produktów podwójnego zastosowania niewymienionych w załączniku I.2. Państwao członkowskie powiadamiają Komisję o wszystkich środkach podjętych na podstawie ust. 1, niezwłocznie po ich podjęciu i podająć wszystkie dokładne powody podjęcia środków.3. Państwao członkowskie powiadamiają również niezwłocznie Komisję o wszelkich modyfikacjach środków podjętych na podstawie ust. 1.4. Komisja opublikuje środki, o których została powiadomiona na podstawie ust. 2 i 3, w serii C Dziennika Urzędowego Wspólnot Europejskich √ Unii Europejskiej  .ROZDZIAŁ IIIZEZWOLENIE NA EKSPORTARTYKUł 61. Niniejsze rozporządzenie ustanawia wspólnotowe generalne zezwolenie w odniesieniu do niektórych rodzajów eksportu, określone w załączniku II.∫ nowya) Eksporterzy zamierzający wykorzystywać generalne wspólnotowe zezwolenie na eksport informują właściwe organy państwa członkowskiego, w którym mają siedzibę, o swoim zamiarze wykorzystania generalnego wspólnotowego zezwolenia na eksport bądź o jego pierwszym wykorzystaniu; powiadomienie takie musi być dokonane najpóźniej trzydzieści dni po dacie pierwszego eksportu. Państwa członkowskie przekazują Komisji i pozostałym państwom członkowskim wspomniane powiadomienia o rejestracji.b) Właściwe organy krajowe państwa członkowskiego, w którym dany eksporter ma siedzibę, odmawiają udzielenia generalnego wspólnotowego zezwolenia na eksport, jeżeli:-  eksporter otrzymał informację od swoich władz, że produkty, których sprawa dotyczy, są lub mogą być w całości lub w części przeznaczane do któregokolwiek z zastosowań, o których mowa w art. 4 ust. 1-3;-  lub jeśli eksporter ma świadomość, że produkty te są przeznaczane do powyższych zastosowań;-  lub jeśli produkty, o których mowa, są eksportowane do strefy wolnocłowej lub składu wolnocłowego znajdującego się w miejscu przeznaczenia objętym danym zezwoleniem.W takich wypadkach właściwe organy państwa członkowskiego oceniają poszczególne zastosowania na podstawie kryteriów wymienionych w art. 8 ust. 1 w celu podjęcia decyzji, czy produkty, o których mowa, mogą być eksportowane w ramach globalnego zezwolenia na eksport, czy indywidualnego zezwolenia na eksport, czy też należy odmówić zezwolenia na eksport.⎢ 1334/2000 (dostosowany)2. W odniesieniu do wszystkich innych rodzajów eksportu, dla których na mocy niniejszego rozporządzenia wymagane jest zezwolenie, zezwolenia takie udzielane są przez właściwe organy państwa członkowskiego, w którym eksporter ma swoją siedzibę. Z zastrzeżeniem ograniczeń określonych w ust. 13, zezwolenia te mogą być indywidualne, globalne lub generalne.√ Wszystkie  Zzezwolenia są ważne na całym terenie Wspólnoty √ Europejskiej  .∫ nowyPaństwa członkowskie ustalają własne cele dotyczące rozpatrywania wniosków o zezwolenie na eksport w określonych terminach i przekazują je Komisji i eksporterom krajowym.⎢ 1334/2000Jeśli jest to uzasadnione W razie konieczności, zezwolenie może podlegać pewnym wymaganiom i warunkom, takim jak obowiązek dostarczenia oświadczenia dotyczące końcowego zastosowania.3. Produkty wymienione w części 2 załącznika II nie są objęte zezwoleniem generalnym.∫ nowy3. Krajowe generalne zezwolenia na eksport:a) nie obejmują swoim zakresem produktów wymienionych w części 2 załącznika II, a także produktów i krajów, których dotyczą ważne odmowy wydane zgodnie z art. 9 ust. 2;b) mogą być wykorzystywane jedynie przez eksporterów, którzy najpóźniej 30 dni po pierwszej wysyłce zgłosili właściwym organom państwa członkowskiego, w którym mają siedzibę, swój zamiar wykorzystania krajowego generalnego zezwolenia na wywóz;⎢ 1334/20004. Państwa Członkowskie wskażą w zezwoleniach generalnych, że nie będą one mogły byćc) nie mogą być wykorzystywane, jeśli eksporter został poinformowany przez organy, że wspomniane produkty są, lub mogą być przeznaczaone, w całości lub części, do któregokolwiek z zastosowań określonych w art. 4 ust. 1, 2 lub 3, lub gdy eksporter jest świadomy, że produkty te są przeznaczone do wyżej wspomnianych zastosowań.45. Państwa członkowskie utrzymają lub wprowadzą w swoim odpowiednim krajowym ustawodawstwie możliwość udzielania zezwolenia globalnego dla szczególnych eksporterów z uwzględnieniem typu lub kategorii produktów podwójnego zastosowania, które może być ważne dla eksportu do jednego lub więcej określonych krajów.56. Państwa członkowskie dostarczają Komisji wykaz organów właściwych do:a) udzielania zezwoleń na eksport produktów podwójnego zastosowania;∫ nowyb) udzielania zezwoleń na eksport w odniesieniu do świadczenia usług pośrednictwa odnoszących się do produktów podwójnego zastosowania;c) podejmowania decyzji o przejęciu produktów podwójnego zastosowania w tranzycie;d) udzielania zezwoleń na transfer – tylko jeśli organy te są inne, niż wymienione w art. 6 ust. 5 lit. a).⎢ 1334/2000 (dostosowany)Komisja opublikuje wykaz tych organów w serii C Dziennika Urzędowego Wspólnot Europejskich √ Unii Europejskiej  .⎢ 1334/2000? nowyArtykuł 71. Jeżeli produkty podwójnego zastosowania, w odniesieniu do których został złożony wniosek o wydanie indywidualnego zezwolenia na eksport do miejsca przeznaczenia niewymienionego w załączniku II, lub do jakiegokolwiek miejsca przeznaczenia w przypadku produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku V IV, są lub będą umieszczone w jednym lub kilku państwach członkowskich, innych niż te, w których składany jest wniosek, fakt taki zostaje wykazany we wniosku. Właściwe organy państwa członkowskiego, do których został złożony wniosek o wydanie zezwolenia, niezwłocznie zasięgają opinii właściwych organów zainteresowanego państwa lub państw członkowskich, i dostarczają stosownych informacji. Państwo lub państwa członkowskie, u których zasięgano opinii, w ciągu dziesięciu dni roboczych powiadamiają o jakichkolwiek zastrzeżeniach, jakie może lub mogą mieć wobec udzielania zezwolenia, które wiążą państwo członkowskie, w którym złożono wniosek.Jeżeli w ciągu dziesięciu dni roboczych nie zostaną przedstawioneo żadneych zastrzeżeniań, uznaje się, że państwo lub państwa członkowskie, u których zasięgano opinii, nie mają są uważane za nie posiadające zastrzeżeń.W wyjątkowych przypadkach, każde państwo członkowskie, u którego zasięgano opinii, może złożyć wniosek o wydłużenie terminu 10-dniowego. Jednakże, wydłużenie to nie może przekroczyć 30 dni roboczych.2. Jeżeli eksport mógłby naruszać podstawowe interesy bezpieczeństwa, państwo członkowskie może prosić inne państwo członkowskie o nie udzielanie zezwolenia na eksport lub, jeżeli takie zezwolenie zostało udzielone, prosić o jego unieważnienie, zawieszenie, modyfikację lub odwołanie. ? O prośbie takiej powiadamia się pozostałe państwa członkowskie oraz Komisję. ï Państwo członkowskie, które otrzymało taką prośbę, niezwłocznie podejmuje konsultacje, o charakterze niewiążącym, z państwem członkowskim występującym z prośbą, które mają się zakończyć w ciągu 10 dni roboczych. ? Państwo członkowskie występujące z prośbą oraz państwo członkowskie, do którego kierowana jest prośba, mogą zwrócić się do Komisji o poruszenie tej kwestii w grupie koordynacyjnej ustanowionej w art. 18 w ciągu 10 dni roboczych. Jeśli państwo członkowskie, do którego kierowana jest prośba, postanowi o udzieleniu zezwolenia, należy poinformować o tym Komisję i pozostałe państwa członkowskie. ï⎢ 1334/2000? nowyArtykuł 81. Przy podejmowaniu decyzji o udzieleniu , czy udzielić ð indywidualnego lub globalnego ï zezwolenia na eksport ð lub zezwolenia na świadczenie usług pośrednictwa ï na mocy niniejszego rozporządzenia, państwa członkowskie biorą pod uwagę wszelkie istotne względy obejmujące:a) własne zobowiązania i obowiązki, które przyjęły, jako członkowieek międzynarodowych reżimów nieproliferacyjnych i porozumień w sprawie kontroli eksportu wrażliwych, lub w drodze ratyfikacji stosownych traktatów międzynarodowych;b) własne zobowiązania w ramach sankcji nałożonych przez wspólne stanowisko lub wspólneą działanieakcję, przyjęteą przez Radę lub decyzję OBWE lub przez wiążącą rezolucję Rady Bezpieczeństwa Organizacji Narodów Zjednoczonych;c) względy krajowej polityki zagranicznej i bezpieczeństwa, w tym włączając dziedziny objęte Kodeksem Postępowania Unii Europejskiej w sprawie eksportu broni;d) względy zamierzonego końcowego zastosowania i ryzyko jego zmiany.∫ nowy2. Oprócz kryteriów określonych w ust. 1, przy ocenie wniosku o globalne zezwolenie na eksport lub o zezwolenie na świadczenie usług pośrednictwa państwa członkowskie biorą pod uwagę stosowanie przez eksportera proporcjonalnych i odpowiednich środków i procedur w celu zapewnienia zgodności z przepisami i celami niniejszego rozporządzenia oraz z warunkami zezwolenia.⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowyArtykuł 91. Eksporterzy dostarczają właściwym organom wszelkie stosowne informacje wymagane we wniosku o udzielenie zezwolenia na eksport ð oraz o udzielenie zezwolenia na świadczenie usług pośrednictwa, w tym wszelkie stosowne informacje uzyskane od stron trzecich, w celu przedstawienia właściwym organom krajowym pełnych informacji, w szczególności dotyczących użytkownika końcowego, kraju przeznaczenia oraz zastosowań końcowych eksportowanego produktu ï .2. Właściwe organy, działając zgodnie z niniejszym rozporządzeniem, mogą odmówić udzielenia zezwolenia na eksport ð lub zezwolenia na świadczenie usług pośrednictwa ï, a także i mogą unieważnić, zawiesić, zmodyfikować lub odwołać zezwolenie na eksport ð lub zezwolenie na świadczenie usług pośrednictwa ï , które już zostało udzielone. Gdy odmówiły, unieważniły, zawiesiły, znacznie ograniczyły lub odwołały W przypadku odmowy, unieważnienia, zawieszenia, znacznego ograniczenia lub odwołania zezwoleniae ð na eksport lub zezwolenia na świadczenie usług pośrednictwa, lub w przypadku ustalenia przez właściwe organy, że nie należy wydawać zezwolenia na eksport produktów podwójnego zastosowania lub świadczenie usług pośrednictwa ï , informują √ powiadamiają  one właściwe organy pozostałych państw członkowskich i Komisję oraz wymieniają √ przekazują im  stosowne informacje z pozostałymi Państwami Członkowskimi i Komisją, stosując się do przy zachowaniu przepisów art. 15 ust. 3 dotyczących poufności takich informacji.∫ nowyPowiadomienia takie odbywają się za pośrednictwem bezpiecznych środków elektronicznych służących do wymiany szczególnie chronionych informacji, dostępnych państwom członkowskim i Komisji, w tym za pośrednictwem bezpiecznego systemu, który może zostać stworzony zgodnie z art. 15 ust. 4. W ciągu trzech lat od powiadomienia państwa członkowskie dokonują przeglądu odmów udzielenia zezwoleń, o których powiadamiano zgodnie z niniejszym ustępem, i w razie potrzeby odwołują, zmieniają lub odnawiają je. Odmowy, które nie zostaly odwołane, pozostają w mocy.W przypadku zawieszenia przez państwa członkowskie zezwoleń na eksport lub zezwoleń na świadczenie usług, dane państwa członkowskie informują o tym pozostałe państwa członkowskie i Komisję oraz przekazują im odpowiednie informacje przy zachowaniu przepisów art. 15 ust. 3 dotyczących poufności takich informacji. Pod koniec okresu zawieszenia ocena końcowa zostaje przekazana państwom członkowskim i Komisji. W wypadku odwołania zezwolenia uznaje się to za powiadomienie zgodnie z drugim akapitem.⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowy3. Przed udzieleniem Państwo członkowskie, zanim udzieli zezwolenia na eksport ð lub zezwolenia na świadczenie usług pośrednictwa ï , którego udzielenia odmówiono nie udzielono w innym państwie członkowskim lub państwach członkowskich w odniesieniu do zasadniczo identycznej transakcji, ð (co oznacza zasadniczo identyczne zastosowanie końcowe lub produkt o zasadniczo identycznych parametrach lub charakterystykach technicznych eksportowany do tego samego użytkownika końcowego lub odbiorcy bądź większego podmiotu obejmującego tego samego użytkownika końcowego) i w stosunku do którego odmowa udzielenia jest nadal ważna ï w ciągu ostatnich trzech lat, dane państwo członkowskie zasięga opinii państwa lub państw członkowskich, które udzieliły ð ważnej ï odmowy odmówiły udzielenia ð , zgodnie z ust. 2, a także dokonuje przeglądu powiadomień dokonanych zgodnie z czwartym akapitem tego ustępu, oraz informuje Komisję o rozpoczęciu opisanych konsultacji ï . Jeżeli po ð przeprowadzeniu opisanych ï konsultacji, państwo członkowskie niemniej jednak zdecyduje się √ w dalszym ciągu zamierza  udzielić zezwolenia na eksport, informuje pozostałe państwa członkowskie i Komisję, oraz dostarcza stosowne informacje o powodach swojej decyzji √ tego zamiaru  .∫ nowy4. Właściwe organy państw członkowskich powiadamiają państwa członkowskie i Komisję o odmowie w stosunku do produktów przejętych w tranzycie w wykonaniu art. 3.⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowyArtykuł 101. Wszelkie Wszystkie indywidualne i globalne zezwolenia na eksport ð oraz zezwolenia na świadczenie usług pośrednictwa ï są wydawane w formie zgodnej z ð zawierającej co najmniej wszystkie elementy oraz kolejność zgodną ze ï wzorem określonym w załączniku IIIa. ?Środki, których celem jest harmonizacja form zezwoleń, mogą być przyjmowane zgodnie z procedurą, o której mowa w art. 19. ï2. Na wniosek eksporterów, globalne zezwolenia na eksport, które zawierają limity ilościowe, są dzielone mogą być podzielone.3. √ Krajowe  gGeneralne zezwolenia na eksport, udzielone na podstawie art. 6 ust. 32, są publikowane zgodnie z prawem krajowym i praktyką. Wydaje się je Powinny one być wydawane zgodnie ze wskazówkami określonymi w załączniku IV IIIb ð , a informację o nich przekazuje się Komisji ï .∫ nowy4. Państwa członkowskie mogą udzielać zezwoleń na eksport w formie elektronicznej. Aby umożliwić organom celnym i innym właściwym organom sprawdzenie, czy zezwolenie na eksport zostało wydane, informacja zawarta w zezwoleniu na eksport może być udostępniana za pomocą bezpiecznego systemu, który można stworzyć do tego celu. Decyzja o wykonaniu niniejszego przepisu oraz o sposobach jego stosowania może być podjęta zgodnie z procedurami, o których mowa w art. 19.⎢ 1334/2000? nowyROZDZIAŁ IVAKTUALIZACJA WYKAZU PRODUKTÓW PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIAARTYKUł 11Wykaz produktów podwójnego zastosowania określony w załączniku I i IV jest aktualizowany ð zgodnie z procedurą, o której mowa w art. 19 ust. 2 oraz ï zgodnie z odpowiednimi zobowiązaniami i obowiązkami i oraz wszystkimi ich modyfikacjami, które każde Państwo Członkowskie przyjęło ð państwa członkowskie przyjęły ï jako członek ð członkowie ï odpowiednich międzynarodowych reżimów nieproliferacyjnych i porozumień w sprawie kontroli eksportu, lub w drodze ratyfikacji stosownych traktatów międzynarodowych.⎢ 1334/2000 (dostosowany)⎝1 2432/2001 Art. 1. lit. a)? nowyROZDZIAŁ VPROCEDURY CELNEARTYKUł 121. Przy dokonywaniu formalności w zakresie eksportu produktów podwójnego zastosowania w urzędzie celnym odpowiedzialnym za obsługę deklaracji eksportowej, eksporter dostarcza dowód, że uzyskał konieczne zezwolenie na eksport.2. Od eksportera może być wymagane tłumaczenie dostarczonych jako dowód dokumentów na język urzędowy państwa członkowskiego, w którym złożona jest deklaracja eksportowa.3. Bez uszczerbku dla uprawnień przyznanych na mocy lub w zastosowaniu Wspólnotowego Kodeksu Celnego, państwo członkowskie może także na okres nie przekraczający okresów określonych w ust. 4, zawiesić eksport ze swojego terytorium produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I, które zostały objęte ważnym zezwoleniem, lub jeżeli to konieczne, w inny sposób zapobiec opuszczeniu przez te produkty terytorium Wspólnoty poprzez swoje terytorium, przez produkty podwójnego zastosowania wymienione w załączniku I, które zostały objęte ważnym zezwoleniem, jeżeli są uzasadnione podejrzenia, że:a) przy udzielaniu zezwolenia nie zostały wzięte pod uwagę stosowne informacje; lubb) od czasu udzielenia zezwolenia okoliczności w znaczący sposób uległy zmianie.4. W przypadku określonym w ust. 3, należy niezwłocznie zasięgnąć opinii właściwych organów państwa członkowskiego, które udzieliło zezwolenia na eksport, w celu ewentualnego podjęcia przez nie działań na podstawie art. 9 ust. 2. Jeżeli takie właściwe organy podejmą decyzję o utrzymaniu zezwolenia, udzielają odpowiedzi w terminie 10 dni roboczych, który, na ich wniosek może być przedłużony do 30 dni roboczych w wyjątkowych okolicznościach. W takim przypadku, bądź jeżeli nie udzielono odpowiedzi w ciągu 10 lub (w opisanym powyżej wyjątkowym przypadku) jak wyżej, 30 dni roboczych, produkty podwójnego zastosowania zostają natychmiast zwolnione. Państwo członkowskie, które udzieliło zezwolenia, poinformuje pozostałe państwa członkowskie i Komisję.Artykuł 131. Państwo członkowskie może ustanowić, że formalności celne w zakresie eksportu produktów podwójnego zastosowania mogą być dokonywane tylko w uprawnionych do tego celu urzędach celnych.2. Państwo członkowskie, korzystające z możliwości określonej w ust. 1, informuje Komisję, które urzędy celne zostały należycie upoważnione. Komisja opublikuje informacje w serii C Dziennika Urzędowego Wspólnot Europejskich √ Unii Europejskiej  .Artykuł 14⎝1 Przepisy art. 843 i 912a–912g rozporządzenia (EWG) nr 2454/93 ⎜ mają zastosowanie do ograniczeń odnoszących się do wywozu, powrotnego wywozu i opuszczania obszaru celnego przez produkty podwójnego zastosowania, w przypadku wywozu których wymagane jest zezwolenie na mocy niniejszego rozporządzenia.ROZDZIAŁ VIWSPÓłPRACA ADMINISTRACYJNAARTYKUł 151. Działając w porozumieniu z Komisją, państwa członkowskie podejmą odpowiednie środki w celu ustanowienia bezpośredniej współpracy i wymiany informacji między właściwymi organami, w szczególności, w celu wyeliminowania ryzyka, że ewentualne rozbieżności możliwy brak równowagi w stosowaniu kontroli eksportu produktów podwójnego zastosowania mogą może prowadzić do zakłóceń w handlu, co może powodować trudności dla jednego lub kilku państw członkowskich.2. Państwa członkowskie podejmują wszystkie odpowiednie środki w celu ustanowienia bezpośredniej współpracy i wymiany informacji między właściwymi organami w sprawie wrażliwych końcowych użytkowników, mając na względzie zapewnienie podobnego poziomu informacji dla eksporterów, których niniejsze to rozporządzenie dotyczy. ?Zakres takich informacji obejmuje: ï∫ nowya) skazanie za przestępstwa związane z eksportem;b) w uzasadnionych przypadkach – inne informacje, dane dotyczące wrażliwych pośredników, tras i odbiorców.⎢ 1334/20003. Rozporządzenie Rady (WE) nr 515/97 z dnia 13 marca 1997 r. w sprawie wzajemnej pomocy między organami administracyjnymi państw członkowskich i współpracy między państwami członkowskimi a Komisją w celu zapewnienia prawidłowego stosowania przepisów prawa celnego i rolnego[9], w szczególności, przepisy dotyczące poufności informacji, stosuje się są stosowane z uwzględnieniem niezbędnych zmian mutatis mutandis, bez uszczerbku dla art. 18 niniejszego rozporządzenia.∫ nowy4. Na potrzeby wymiany informacji pomiędzy państwami członkowskimi, a także, w uzasadnionych przypadkach, między państwami członkowskimi a Komisją, można stworzyć bezpieczny, szyfrowany system na warunkach, które zostaną uzgodnione zgodnie z procedurami, o których mowa w art. 19 ust.3.5. Zgodnie z procedurami, o których mowa w art. 19, można podjąć środki konieczne dla ułatwienia współpracy, określonej w ust. 1–4 niniejszego artykułu.⎢ 1334/2000ROZDZIAŁ VIIŚRODKI KONTROLIARTYKUł 16∫ nowy1. Eksporterzy produktów wymienionych w załączniku I oraz osoby fizyczne i prawne lub spółki zamierzające świadczyć usługi pośrednictwa w odniesieniu do tych produktów podwójnego zastosowania w państwach trzecich, jak również osoby fizyczne lub prawne zamierzające wysyłać produkty podwójnego zastosowania wymienione w załączniku V wewnątrz Wspólnoty, zgłaszają swój zamiar eksportowania takich produktów lub świadczenia takich usług właściwym organom krajowym określonym w art. 6. Państwa członkowskie otrzymujące tego rodzaju rejestracje powiadamiają o tym pozostałe państwa członkowskie i Komisję.⎢ 1334/2000? nowy-1. 2. (i) Eksporterzy ð materialnych produktów podwójnego zastosowania ï przechowują szczegółowe rejestry lub zapisy transakcji eksportowych zgodnie z praktyką obowiązującą w poszczególnych państwach członkowskich. Takie rejestry lub zapisy obejmują w szczególności dokumenty handlowe, takie jak faktury, deklaracje oraz dokumenty transportowe i wysyłkowe zawierające wystarczające informacje umożliwiające identyfikację następujących danych:a) opisu produktów podwójnego zastosowania,b) ilośćci produktów podwójnego zastosowania,c) nazway i adresu eksportera i odbiorcy,d) i jeżeli jest znane - końcowego użyciea i końcowyego użytkownika produktów podwójnego zastosowania, jeśli dane te są znane.∫ nowy(ii) Dostawcy produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku V, dokonujący ich transferu na wspólnym rynku, przechowują szczegółowe rejestry lub zapisy ich wysyłek zgodnie z praktyką obowiązującą w poszczególnych państwach członkowskich. Takie rejestry lub zapisy obejmują w szczególności dokumenty handlowe, takie jak faktury, deklaracje oraz dokumenty transportowe i wysyłkowe oraz informacje zawarte w powiadomieniach poprzedzających transfer, zdefiniowanych w części II załącznika V.(iii) W odniesieniu do eksportu określonego w art. 2 lit. b) ppkt (iii), w celu świadczenia usług pośrednictwa, eksporterzy/pośrednicy przechowują rejestry lub zapisy umożliwiające udowodnienie, na żądanie, charakteru produktów, technologii lub oprogramowania podwójnego zastosowania, które były przedmiotem transferu lub świadczenia usług pośrednictwa, okresu, w którym produkty były przedmiotem transferu lub świadczenia usług pośrednictwa, oraz przeznaczenia takich transferów.⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowy2. 3. Zapisy i rejestry oraz dokumenty określone w ust. 1 ð i 2 ï są przechowywane co najmniej przez trzy lata od końca roku kalendarzowego, w którym miał miejsce eksport ð lub transfer bądź świadczenie usług pośrednictwa ï . Są one okazywane na żądanie właściwym organom państwa członkowskiego, w którym eksporter ð lub dostawca bądź pośrednik ï ma siedzibę.Artykuł 17W celu zapewnienia właściwego stosowania niniejszego rozporządzenia, państwa członkowskie podejmą wszelkie niezbędne środki dla umożliwienia właściwym organom:a) gromadzenia informacji o zamówieniach i transakcjach dotyczących produktów podwójnego zastosowania;b) ustalenia, że ustanowienia, aby środki kontroli eksportu są były właściwie stosowane, co może obejmować w szczególności prawo do wejścia do pomieszczeń osób, które mają interes w transakcji eksportowej.ROZDZIAŁ VIII√ POZOSTAłE  PPRZEPISY OGÓLNE I KOńCOWE √ ORAZ WSPÓłPRACA MIęDZYNARODOWA ARTYKUł 181. Zostanie powołana Grupa Koordynacyjna ð ds. Produktów Podwójnego Zastosowania ï pod przewodnictwem przedstawiciela Komisji. Każde państwo członkowskie wyznaczy przedstawiciela do Grupy Koordynacyjnej przedstawiciela.Grupa Koordynacyjna bada wszelkie kwestie dotyczące stosowania niniejszego rozporządzenia, które mogą być podnoszone przez przewodniczącego lub przedstawicieli państw członkowskich, oraz między innymi √ w szczególności  :a) a) środki, jakie powinny zostać podjęte przez państwa członkowskie w celu poinformowania eksporterów ð lub innych właściwych zainteresowanych stron ï o ich obowiązkach wynikających z niniejszego rozporządzenia;b) informacje dotyczące formularzy zezwoleń na eksport. ?optymalne praktyczne sposoby i procedury administracyjne wykonywania i egzekwowania rozporządzenia; ï∫ nowyc) względy techniczne dotyczące alternatywnych sposobów dokonania poprawek legislacyjnych w celu rozwiązania trudności w wykonaniu przepisów;d) wspólne wytyczne dotyczące przekazania eksporterom w przystępny sposób odpowiednich informacji dotyczących systemu kontroli eksportu produktów podwójnego zastosowania we Wspólnocie oraz sposobów jego stosowania przez państwa członkowskie.Grupa składa Radzie sprawozdania o wynikach swoich posiedzeń.⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowy2. ð Przewodniczący ï Grupya Koordynacyjneja ð ds. Produktów Podwójnego Zastosowania ï może, jeśli uzna to za konieczne, zasięgnąć ð zasięga ï opinii organizacji reprezentujących eksporterów ð oraz innych właściwych zainteresowanych stron ï w sprawach dotyczących rozporządzenia, jeśli uzna to za konieczne.∫ nowyArtykuł 19Komitet ds. Produktów Podwójnego Stosowania1. Komisję wspomaga komitet (zwany dalej „Komitetem ds. Produktów Podwójnego Zastosowania”).2. Procedurę, o której mowa w ust. 3 niniejszego artykułu, stosuje się do przyjęcia środków, które mogą być niezbędne do wykonania niniejszego rozporządzenia w obszarach innych, niż objęte zakresem art. 21 i 23, a także do przyjęcia poprawek do załączników do niniejszego rozporządzenia.3. W przypadku odesłań do niniejszego ustępu zastosowanie mają art. 5 i 7 decyzji 1999/468/WE.Okres ustanowiony w art. 5 ust. 6 decyzji 1999/468/WE wynosi dwa miesiące.4. Komitet ds. Produktów Podwójnego Zastosowania przyjmuje swój regulamin.Artykuł 20Przewodniczący Komitetu ds. Produktów Podwójnego Zastosowania może, z własnej inicjatywy lub na wniosek jednego z przedstawicieli państw członkowskich, zasięgać opinii Komitetu ds. Produktów Podwójnego Zastosowania we wszelkich innych kwestiach dotyczących działania lub stosowania niniejszego rozporządzenia.⎢ 1334/2000? nowyArtykuł 1921Każde państwo członkowskie podejm ujie odpowiednie środki, aby zapewnić właściwe egzekwowanie wykonanie wszystkich przepisów niniejszego rozporządzenia. W szczególności, ustanawia kary stosowne do naruszeń przepisów niniejszego rozporządzenia, lub przepisów przyjętych w celu jego wykonania. Kary takie muszą być skuteczne, proporcjonalne i odstraszające zniechęcające. ? Obejmują one sankcje karne przynajmniej za poważne naruszenia przepisów niniejszego rozporządzenia, takie jak celowy eksport z przeznaczeniem do wykorzystania w programie rozwoju lub produkcji broni chemicznej, biologicznej lub nuklearnej bądź pocisków mogących służyć do ich przenoszenia bez uzyskania zezwolenia wymaganego w niniejszym rozporządzeniu, bądź też fałszowanie lub zatajanie informacji w celu uzyskania zezwolenia w sytuacji, w której ujawnienie prawdziwych informacji prowadziłoby do odmowy udzielenia zezwolenia. ï∫ nowyArtykuł 22Współpraca międzynarodowaBez uszczerbku dla przepisów dotyczących uzgodnień w sprawie wzajemnej pomocy administracyjnej lub protokołów w sprawach celnych, zawieranych pomiędzy Wspólnotą a państwami trzecimi, Komisja może prowadzić negocjacje z państwami trzecimi w sprawie umów dotyczących wzajemnego uznawania kontroli eksportu produktów podwójnego zastosowania objętych zakresem niniejszego rozporządzenia, w szczególności w celu eliminacji wymogu uzyskania zezwolenia na powrotny wywóz wewnątrz terytorium Wspólnoty Europejskiej. Negocjacje takie prowadzone są zgodnie z procedurami ustanowionymi w art. 133 ust. 3 Traktatu ustanawiającego Wspólnotę Europejską oraz odpowiednio Traktatu ustanawiającego Europejską Wspólnotę Energii Atomowej.Artykuł 23W uzasadnionych przypadkach, gdy w grę wchodzą projekty finansowane przez Wspólnotę, Komisja może w odpowiednich ramach prawnych Unii Europejskiej lub w ramach uzgodnień z państwami trzecimi składać propozycje dotyczące powołania doraźnego komitetu z udziałem wszystkich właściwych organów państw członkowskich, uprawnionego do podejmowania decyzji o udzieleniu koniecznych zezwoleń na eksport w celu zapewnienia właściwego funkcjonowania tych projektów wykorzystujących produkty lub technologie podwójnego zastosowania.⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowyArtykuł 2024Każde państwo członkowskie poinformuje Komisję o przepisach ustawowych, wykonawczych i administracyjnych przyjętych w celu wykonania niniejszego rozporządzenia, włącznie ze środkami określonymi w art. 1921. Komisja przesyła te informacje do pozostałych państw członkowskich. Co trzy lata Komisja ð dokonuje przeglądu wykonania niniejszego rozporządzenia i ï składa Parlamentowi Europejskiemu i Radzie sprawozdanie ze √ jego  stosowania niniejszego rozporządzenia Parlamentowi Europejskiemu i Radzie ð wraz z ewentualnymi propozycjami jego zmian ï . Państwa członkowskie dostarczają Komisji wszystkich stosownych informacji dla przygotowania tego sprawozdania ð , np. informacji o liczbie eksporterów korzystających z zezwoleń dostępnych w danym państwie członkowskim, o liczbie różnych zezwoleń udzielonych eksporterom, o rejestrach spółek korzystających z generalnego wspólnotowego zezwolenia na eksport lub o liczbie konsultacji dwustronnych przeprowadzonych zgodnie z rozmaitymi artykułami niniejszego rozporządzenia ï .Artykuł 21251. W odniesieniu do transferu wewnątrzwspólnotowego produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku IV wymagane jest zezwolenie. Produkty wymienione w części 2 załącznika IV nie zostają objęte zezwoleniem generalnym.2. a) Państwo Członkowskie może nałożyć wymaganie uzyskania zezwolenia w przypadku transferu innych produktów podwójnego zastosowania ze swojego terytorium do innego Państwa Członkowskiego w przypadkach gdy w czasie przesyłania:-  operator wie, że końcowe miejsce przeznaczenia danych produktów jest poza Wspólnotą,-  eksport tych produktów do miejsca końcowego przeznaczenia podlega wymogowi uzyskania zezwolenia na podstawie art. 3, 4 lub 5 w Państwie Członkowskim, z którego produkty mają być transferowane, a taki eksport bezpośrednio z terytorium nie jest dozwolony na podstawie zezwolenia generalnego lub globalnego,-  w Państwie Członkowskim, do którego mają być transferowane dane produkty, nie bedzie wykonywana ich obróbka lub przetwarzanie określone w art. 24 Wspólnotowego Kodeksu Celnego.b) O zezwolenie na transfer należy ubiegać się w Państwie Członkowskim, z którego produkty podwójnego zastosowania mają być przesyłane.∫ nowy1. Transfer produktu podwójnego zastosowania wymienionego w załączniku V do innego państwa członkowskiego musi zostać zawczasu zgłoszony przez dostawcę właściwym organom krajowym państwa członkowskiego, w którym dany produkt się znajduje 8 dni roboczych przed datą wysyłki; organy te przekazują informację państwu członkowskiemu, w którym dostawca ma siedzibę.2. Zgłoszenie poprzedzające transfer musi zawierać informacje wymienione w części II załącznika V.3. Właściwe organy krajowe państw członkowskich, których sprawa dotyczy, mogą zawiesić transfer, w wypadku gdy:a) dostawca nie dokonał rejestracji w organach krajowych państwa członkowskiego, w którym ma siedzibę, lub nie przedstawił w pełni informacji wymaganych zgodnie z częścią II załącznika V;b) mają one poważne powody podejrzewać, że transfer taki byłby sprzeczny z zasadniczymi interesami UE lub państwa członkowskiego w zakresie bezpieczeństwa.W takim wypadku właściwy krajowy organ, który otrzymał powiadomienie o transferze, zasięga opinii państw członkowskich, których sprawa dotyczy. Jeśli w wyniku rozpatrywania sprawy dane państwo członkowskie utrzyma swoją początkową decyzję o zawieszeniu transferu, państwa członkowskie, których sprawa dotyczy, mogą zwrócić się do Komisji oraz pozostałych państw członkowskich w celu przeprowadzenia szerszych konsultacji. Ostateczna decyzja zostanie przedstawiona państwom członkowskim i Komisji wraz z uzasadnieniem.⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowyc) ð Właściwe organy krajowe nie mogą zawiesić transferu ï wW przypadkach, gdy gdzie kolejny eksport produktów podwójnego zastosowania został już zaakceptowany podczas procedur konsultacyjnych określonych w art. 7 przez państwo członkowskie, z którego produkty mają być transferowane, zezwolenie na transfer zostaje wydane operatorowi niezwłocznie, o ile jeżeli okoliczności nie zmieniły się znacząco.d) Państwo Członkowskie, które przyjmuje ustawodawstwo nakładające takie wymaganie, informuje Komisję i pozostałe Państwa Członkowskie o środkach jakie podjęto. Komisja opublikuje te informacje w serii C Dziennika Urzędowego Wspólnot Europejskich .3.4. Środki przyjęte na podstawie ust. 1 i 2 nie obejmują stosowania nie mają na celu tworzenia wewnętrznych kontroli granicznych we Wspólnocie, ale wyłącznie kontrole, którea są przeprowadzane jako część normalnych procedur kontrolnych stosowanych w sposób niedyskryminujący na całym terytorium Wspólnoty.4.5. Stosowanie środków na podstawie art. 1, i 2 ð i 3 ï nie może w żadnym wypadku powodować tego, że nakładania na transfery z jednego państwa członkowskiego do innego podlegały bardziej restrykcyjnychm warunkówom, niż te, nałożone na eksport tych samych produktów do państw trzecich.5. Dokumenty i rejestry transferów wewnątrzwspólnotowych produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I, należy przechowywać przez co najmniej trzy lata od końca roku kalendarzowego, w którym miało miejsce transfer i należy je okazywać na żądanie właściwym organom Państwa Członkowskiego, z którego były przesyłane.6. Państwo członkowskie może w drodze krajowego ustawodawstwa, może wymagać aby, w przypadku transferów wewnątrzwspólnotowych z tego państwa członkowskiego, produktów wymienionych w kategorii 5 części 2 załącznika I, które nie są wymienione w załączniku V IV, właściwym organom tego państwa członkowskiego dostarczone zostały dodatkowe informacje dotyczące tych produktów.7. Stosowne dokumenty handlowe dotyczące transferów wewnątrzwspólnotowych produktów podwójnego zastosowania wymienionych w załączniku I, zawierają wyraźną informację jasno wskazują, iż produkty podlegają kontroli w przypadku eksportu ze Wspólnoty. Stosowne dokumenty handlowe obejmują w szczególności: umowy sprzedaży, potwierdzenia zamówień, faktury lub zawiadomienia o wysyłce.Artykuł 2226Niniejsze rozporządzenie nie wpływa na narusza:-  stosowaniea art. 296 Traktatu ustanawiającego Wspólnotę Europejską,-  stosowania Traktatu ustanawiającego Europejską Wspólnotę Energii Atomowej.Artykuł 2327Rozporządzenie (WE) nr 3381/94 √ 1334/2000  traci moc uchyla się √ ze skutkiem od dnia […]  .Jednakże, w przypadku wniosków o wydanie zezwoleń na eksport złożonych przed datą wejścia w życie niniejszego rozporządzenia, mają nadal zastosowanie stosowne przepisy rozporządzenia (WE) nr 3381/94 √ 1334/2000  .∫ nowyOdesłania do uchylonego rozporządzenia rozumiane są jako odesłania do niniejszego rozporządzenia i odczytywane są zgodnie z tabelą korelacji znajdującą się w załączniku […].⎢ 1334/2000 (dostosowany)? nowyArtykuł 2428Niniejsze rozporządzenie wchodzi w życie 90 dni dziewięćdziesiątego dnia po jego opublikowaniu w Dzienniku Urzędowym Wspólnot Europejskich √ Unii Europejskiej  .Niniejsze rozporządzenie wiąże w całości i jest bezpośrednio stosowane we wszystkich państwach członkowskich.Sporządzono w Luksemburgu, dnia 22 czerwca 2000 r. ð w Brukseli, dnia […] r. ïW imieniu RadyPrzewodniczący 394/2006ZAŁĄCZNIK IWYKAZ TOWARÓW I TECHNOLOGII PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIA(odnoszący się do art. 3 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000)Niniejszy wykaz wprowadza uzgodnione na poziomie międzynarodowym kontrole produktów i technologii podwójnego zastosowania, w tym przez Porozumienie z Wassenaar, Reżim Kontrolny Technologii Rakietowych (MTCR), Grupę Dostawców Jądrowych (GDJ), Grupę Australijską i Konwencję o Zakazie Broni Chemicznej (CWC). Nie zostały uwzględnione produkty, które państwa członkowskie chcą umieścić w dowolnych odrębnych wykazach. Nie uwzględniono jakiejkolwiek kontroli krajowej (kontrola pochodzenia pozasystemowego), która może być wykonywana przez państwa członkowskie.UWAGI OGÓLNE DO ZAŁĄCZNIKA I:1. W przypadku towarów, które są zaprojektowane lub zmodyfikowane do zastosowań wojskowych, należy sprawdzić także odpowiedni wykaz kontrolny uzbrojenia, publikowany w danym państwie członkowskim. Odsyłacz, który mówi "Sprawdź także Wykaz uzbrojenia", odnosi się do tych wykazów.2. Obowiązek kontroli nałożony niniejszym wykazem nie może być omijany przez eksport jakichkolwiek dóbr niepodlegających kontroli (włącznie z fabrykami) zawierających jeden lub więcej komponentów podlegających kontroli, gdy kontrolowany komponent lub komponenty są zasadniczymi elementami tych dóbr i możliwe jest ich wydzielenie i zastosowanie do innych celów.NB.: Przy rozstrzyganiu, czy kontrolowany komponent lub komponenty mają być uważane za elementy zasadnicze, konieczne jest rozważenie czynników: ilości, wartości, zawartości technologicznego know-how i innych szczególnych okoliczności, które mogą zdecydować, że kontrolowany komponent lub komponenty są zasadniczymi elementami dostarczanych dóbr.3. Towary wymienione w niniejszym wykazie obejmują zarówno towary nowe, jak i używane.UWAGA DO TECHNOLOGII JĄDROWEJ (UdTJ):(Czytać łącznie z grupą E kategorii 0)"Technologia" bezpośrednio związana z jakimikolwiek towarami wymienionymi w kategorii 0 objęta jest kontrolą zgodnie z postanowieniami kategorii 0."Technologia", która jest "niezbędna" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów objętych kontrolą, pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów taką kontrolą nieobjętych.Zgoda na eksport określonych towarów upoważnia również do eksportu do tego samego użytkownika minimalnej "technologii" wymaganej dla instalacji, działania, utrzymania i naprawy tych towarów.Kontrole transferu "technologii" nie mają zastosowania do informacji "będących własnością publiczną" lub związanych z "podstawowymi badaniami naukowymi".UWAGA OGÓLNA DO TECHNOLOGII (UOdT):(Czytać łącznie z grupą E kategorii 1–9)Eksport "technologii", która jest "niezbędna" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów wymienionych w kategoriach 1–9, podlega kontroli na warunkach podanych w każdej z tych kategorii."Technologia", która jest "niezbędna" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów objętych kontrolą, pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów taką kontrolą nieobjętych.Kontrolą eksportu nie obejmuje się minimalnej "technologii" wymaganej do instalacji, działania, utrzymania i naprawy towarów niekontrolowanych lub takich, które uzyskały odrębnie zgodę na eksport.NB.: Powyższe nie zwalnia od kontroli "technologii" wyszczególnionych w pozycjach 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a i 8E002.b.Kontrola transferu "technologii" nie ma zastosowania do informacji "będących własnością publiczną", związanych z "podstawowymi badaniami naukowymi" lub minimum informacji koniecznych przy składaniu wniosków patentowych.UWAGA OGÓLNA DO OPROGRAMOWANIA (UOdO):(Niniejsza uwaga jest nadrzędna w stosunku do zastrzeżeń określonych w grupie D kategorii 0–9)Nie podlega kontroli "oprogramowanie" z kategorii 0–9 niniejszego wykazu, które jest:a. ogólnie dostępne poprzez:1. sprzedaż gotowego oprogramowania w punktach sprzedaży detalicznej bez żadnych ograniczeń w wyniku:a. bezpośrednich transakcji sprzedaży,b. transakcji realizowanych na zamówienie pocztowe,c. transakcji zawieranych drogą elektroniczną,d. transakcji realizowanych na zamówienie telefoniczne i2. przygotowanie do samodzielnej instalacji przez użytkownika bez konieczności dalszej pomocy sprzedawcy;NB.: Punkt a uwagi ogólnej do oprogramowania nie zwalnia od kontroli "oprogramowania" wymienionego w kategorii 5 – część 2 ("Bezpieczeństwo informacji").b. uznawane za "będące własnością publiczną".DEFINICJE TERMINÓW UŻYWANYCH W WYKAZACH:Definicje terminów w cudzysłowie pojedynczym podano w uwadze technicznej do odpowiedniej pozycji.Definicje terminów w cudzysłowie podwójnym są następujące:NB.: Odnośniki do kategorii podano w nawiasach po zdefiniowanym terminie."Adaptacyjny dynamiczny wybór trasy" (5)Automatyczna zmiana trasy w ruchu na podstawie odbieranych i analizowanych informacji o bieżących warunkach w sieci.NB.: Nie dotyczy to przypadków decyzji o zmianie trasy podejmowanych na podstawie określonych wcześniej informacji."Algorytm asymetryczny" (5)Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się różne, powiązane matematycznie, klucze do szyfrowania i deszyfrowania.NB.: Powszechnym zastosowaniem "algorytmu asymetrycznego" jest zarządzanie kluczami."Algorytm symetryczny" (5)Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się identyczne klucze do szyfrowania i deszyfrowania.NB.: Powszechnym zastosowaniem "algorytmu symetrycznego" jest utajnianie danych."Analizatory sygnałów" (3)Urządzenia do pomiaru i pokazywania podstawowych parametrów sygnałów o jednej częstotliwości, będących składowymi sygnałów wieloczęstotliwościowych."Analizatory sygnałów dynamicznych" (3)"Analizatory sygnałów", w których zastosowano techniki cyfrowego próbkowania i przekształcania w celu utworzenia obrazu widma Fouriera danej postaci fali, włącznie z informacjami o jej amplitudzie i fazie.NB.: Patrz także "Analizatory sygnałów"."Atomizacja gazowa" (1)Proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomocą strumienia gazu o wysokim ciśnieniu."Atomizacja próżniowa" (1)Proces rozpylania strumienia strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej poprzez szybkie uwolnienie rozpuszczonego gazu w warunkach podciśnienia."Atomizacja rotacyjna" (1)Proces rozpylania lub jeziorka stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomocą siły odśrodkowej."Automatyczne śledzenie celu" (6)Technika przetwarzania umożliwiająca automatyczne określanie i podawanie na wyjściu w czasie rzeczywistym ekstrapolowanej wartości najbardziej prawdopodobnego położenia celu."Bezzałogowy statek powietrzny" ("UAV") (9)Każdy samolot zdolny do wzniesienia się w powietrze i kontynuowania kontrolowanego lotu i nawigacji bez obecności ludzi na pokładzie."Bicie promieniowe" (odchylenie od właściwego ruchu) (2)Promieniowe przemieszczenie głównego wrzeciona w ciągu jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do osi wrzeciona w punkcie znajdującym się na zewnętrznej lub wewnętrznej badanej powierzchni obrotowej. (Patrz: ISO 230 część 1–1986, paragraf 5.61)."Bicie osiowe" (2)Przemieszczenie osiowe wrzeciona głównego podczas jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do czoła wrzeciona, w punkcie sąsiadującym z obwodem czoła wrzeciona (Patrz: ISO 230 część 1–1986, paragraf 5.63)."Bezpośrednie wytłaczanie hydrauliczne" (2)Technika odkształcania, w której stosowana jest napełniona płynem odkształcalna poduszka, działająca bezpośrednio na powierzchnię obrabianego przedmiotu."Będące własnością publiczną" (UOdT UdTJ UOdO)W odniesieniu do niniejszego dokumentu oznacza "technologię" lub "oprogramowanie" dostępne bez żadnych ograniczeń co do ich dalszego rozpowszechniania (ograniczenia wynikające z praw autorskich nie wykluczają uznania "technologii" lub "oprogramowania" za "będące własnością publiczną")."Całkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami" ("FADEC") (7, 9)Elektroniczny system sterowania turbiną gazową lub silnikami o złożonym cyklu, wykorzystujący komputer cyfrowy do kontroli parametrów niezbędnych do regulacji siły ciągu silnika lub mocy wyjściowej na wale w całym zakresie pracy silnika, od początku dozowania paliwa do odcięcia jego dopływu."Całkowita gęstość prądu" (3)Całkowita liczba amperozwojów w cewce (tj. suma liczby zwojów pomnożona przez maksymalne natężenie prądu przenoszone przez każdy zwój) podzielona przez całkowity przekrój poprzeczny cewki (składającej się z włókienek nadprzewodzących, matrycy metalowej, w której osadzone są włókienka nadprzewodzące, materiału stanowiącego obudowę, kanałów chłodzących itp.)."Całkowita szybkość transmisji cyfrowej" (5)Liczba bitów, włącznie z bitami kodowymi linii, bitami nieinformacyjnymi i podobnymi, przepływających w jednostce czasu pomiędzy odpowiednimi urządzeniami w cyfrowym systemie transmisji.NB.: Patrz także "szybkość przesyłania danych cyfrowych"."CE" – patrz "Element obliczeniowy"."Chwilowa szerokość pasma" (3, 5, 7)Szerokość pasma, w którym moc wyjściowa pozostaje na stałym poziomie z dokładnością do 3 dB bez regulacji innych parametrów roboczych."CTP" – patrz "Teoretyczna moc kombinowana"."Cyrkulacyjne układy równoważenia momentu lub cyrkulacyjne układy sterowania kierunkiem" (7)Układy, w których przepływ powietrza wokół powierzchni aerodynamicznych jest wykorzystywany do zwiększenia powstających na nich sił albo do kierowania nimi."Cywilny statek powietrzny" (1, 7, 9)Wyłącznie "statki powietrzne" mające świadectwa zdatności do lotu opublikowane i wydane przez zarządy lotnictwa cywilnego, zezwalające na ich używanie do celów cywilnych na liniach wewnętrznych i zewnętrznych lub zezwalające na ich stosowanie do celów cywilnych, prywatnych lub związanych z prowadzeniem działalności gospodarczej.NB.: Patrz również "statek powietrzny"."Czas przełączania częstotliwości" (3, 5)Maksymalny czas (tj. opóźnienie), jakiego potrzebuje sygnał przy przełączaniu się z jednej wybranej częstotliwości wyjściowej na inną, żeby osiągnąć:Częstotliwość różniącą się o 100 Hz od częstotliwości końcowej; lubPoziom wyjściowy różniący się o 1 dB od końcowego poziomu wyjściowego."Czas trwania impulsu" (6)Czas trwania impulsu "lasera" mierzony na poziomie połowy natężenia pełnej szerokości (FWHI)."Czas ustalania" (3)Podczas przełączania przetwornika z jednego poziomu na drugi czas potrzebny do otrzymania na wyjściu wartości różniącej się o połowę bitu od wartości końcowej."Dokładność" (2, 6)Zazwyczaj określana w kategoriach niedokładności; jest to maksymalne odchylenie, dodatnie albo ujemne, danej wartości od uznanej wartości standardowej lub prawdziwej."Element obliczeniowy" ("CE") (4)Najmniejsza jednostka obliczeniowa, której działanie daje wynik arytmetyczny lub logiczny."Element o podstawowym znaczeniu" (4)W odniesieniu do kategorii 4 dany element jest "elementem o podstawowym znaczeniu", jeżeli wartość jego wymiany stanowi ponad 35 % całkowitej wartości systemu, w którego skład wchodzi. Wartość elementu jest ceną płaconą za element przez producenta systemu lub przez firmę montującą system. Wartość całkowita jest zwykłą ceną sprzedaży osobom postronnym w miejscu produkcji lub w miejscu przygotowywania wysyłek towarów."FADEC" – patrz "Całkowicie autonomiczne systemy cyfrowego sterowania silnikami"."Formowanie ekstrakcyjne z fazy stopionej" (1)Technika "gwałtownego krzepnięcia" i ekstrahowania wyrobu stopowego podobnego do taśmy, polegająca na wkładaniu krótkiego segmentu wirującego ochłodzonego bloku do wanny stopionego stopu metalowego.NB.:"Gwałtowne krzepnięcie": krzepnięcie stopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1000 K/s."Formowanie rotacyjne z fazy stopionej" (1)Technika "gwałtownego krzepnięcia" polegająca na uderzaniu strumienia stopionego metalu w wirujący ochłodzony blok, wskutek czego powstaje wyrób w postaci płatków, wstęgi lub pręcików.NB.: "Gwałtowne krzepnięcie": krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1000 K/s."Formowanie w stanie nadplastycznym" (1, 2)Technika odkształcania termicznego metali, których wydłużenie całkowite do zerwania, mierzone w temperaturze pokojowej tradycyjnymi technikami badania wytrzymałości na rozciąganie, w normalnych warunkach, jest bardzo małe (poniżej 20 %); jej celem jest co najmniej dwukrotne powiększenie tych wartości podczas obróbki."Gęstość zastępcza" (6)Masa elementu optycznego na jednostkę pola powierzchni optycznej rzutowanej na powierzchnię optyczną."Gram efektywny" (0, 1)"Gram efektywny""specjalnego materiału rozszczepialnego" oznacza:dla izotopów plutonu i uranu-233 – masę izotopu w gramach;dla uranu wzbogaconego do poziomu 1 % lub więcej izotopu uranu-235 – masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez kwadrat jego wzbogacenia wyrażonego w postaci ułamka dziesiętnego udziału wagowego izotopu U-235;dla uranu wzbogaconego w izotop uranu-235 do poziomu poniżej 1 procenta – masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez 0,0001;"Hybrydowy układ scalony" (3)Dowolna kombinacja układu(ów) scalonego(nych) lub układu scalonego z "elementami układu" albo "składnikami dyskretnymi" połączonymi ze sobą w celu realizacji określonej(nych) funkcji, mająca wszystkie wymienione poniżej cechy:Posiada co najmniej jedno urządzenie nieobudowane;Zastosowano w niej typowe metody łączenia stosowane podczas produkcji układów scalonych;Można ją wymieniać tylko w całości; orazW normalnych warunkach nie można jej rozmontować na elementy składowe.NB.1:"Element układu": pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, na przykład jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.NB.2:"Składnik dyskretny": "element układu" w oddzielnej obudowie z własnymi końcówkami wyjściowymi."Immunotoksyna" (1)Koniugat jednokomórkowego przeciwciała monoklonalnego i "toksyny" lub "podjednostki toksyny", który wpływa selektywnie na komórki chorobowo zmienione."Instalacje do naprowadzania" (7)Systemy scalające proces pomiaru i obliczania położenia pojazdu i jego prędkości (tj. nawigację) z obliczeniami i wysyłaniem poleceń do systemów sterowania lotem pojazdu w celu skorygowania jego toru lotu."Instalacje produkcyjne" (7, 9)Sprzęt i specjalnie do niego opracowane oprogramowanie, scalone w instalacje w celu "rozwoju" albo do jednej lub więcej faz "produkcji"."Inteligentna karta osobista" (5)Karta inteligentna zaopatrzona w mikroukład, zaprogramowana do konkretnego zastosowania, bez możliwości przeprogramowania przez użytkownika do jakichkolwiek innych zastosowań."Izolacja" (9)Pojęcie stosowane do podzespołów silnika rakietowego, tj. osłony, dyszy, wlotów, zamknięć osłon, obejmujące utrwalone lub półutrwalone maty kauczukowe zawierające materiał ogniotrwały lub izolacyjny. Można je również stosować na klatki lub klapy odprężające."Izolowane żywe kultury" (1)Żywe kultury w postaci uśpionej i suchych preparatów."Izostatyczne zagęszczanie na gorąco" (2)Technika ciśnieniowania odlewu w temperaturach powyżej 375 K (102 °C) w zamkniętej formie za pomocą różnych czynników (gaz, ciecz, cząstki stałe itp.), której celem jest wytworzenie jednakowej siły we wszystkich kierunkach w celu zmniejszenia albo eliminacji jam wewnętrznych w odlewie."Kable" (1)Wiązki "włókien elementarnych", zazwyczaj w przybliżeniu równoległe."Klasy kosmicznej" (3, 6)Odnosi się do produktów projektowanych, wytwarzanych i testowanych w taki sposób, żeby spełniały specjalne wymagania elektryczne, mechaniczne lub środowiskowe, związane z ich stosowaniem podczas wystrzeliwania i wykorzystywania satelitów lub urządzeń latających na dużych wysokościach, od 100 km wzwyż."Kod wynikowy" (9)Sprzętowo wykonywalna postać dogodnego wyrażenia jednego lub więcej procesów ("kod źródłowy" [język źródłowy]), które zostały przetworzone przez system programowania."Kod źródłowy (albo język źródłowy)" (4, 6, 7, 9)Wygodny sposób wyrażenia jednego lub kilku procesów, który może być przekształcony przez system programowania w postać dającą się wykonać na urządzeniu ("kod wynikowy" [lub język wynikowy])."Kompleksowe sterowanie lotem" (7)Automatyczne sterowanie zmiennymi stanu "statku powietrznego" i toru lotu dla zrealizowania zadania bojowego odpowiednio do zmian w czasie rzeczywistym danych dotyczących celu, zagrożeń lub innego "statku powietrznego".Kompresja impulsów (6)Kodowanie i przetwarzanie długiego impulsowego sygnału radarowego na krótki, przy zachowaniu korzyści wynikających z wysokiej energii impulsu."Komputer cyfrowy" (4, 5)Urządzenie zdolne do wykonywania, w postaci jednej albo kilku zmiennych dyskretnych, wszystkich poniższych funkcji:Przyjmowanie danych;Zapamiętywanie danych albo instrukcji na trwałych lub nietrwałych (zapis wymazywalny) urządzeniach pamięciowych;Przetwarzanie danych za pomocą zapamiętanej sekwencji instrukcji, którą można modyfikować; orazWyprowadzanie danych na wyjście.NB.: Modyfikacje zapamiętanej sekwencji instrukcji dotyczą wymiany trwałych urządzeń pamięciowych, ale nie fizycznych zmian przewodów lub połączeń."Komputer hybrydowy" (4)Urządzenie zdolne do wykonywania wszystkich poniższych czynności:Przyjmowanie danych;Przetwarzanie danych, zarówno w postaci analogowej, jak i cyfrowej; orazWyprowadzanie danych wyjściowych."Komputer neuronowy" (4)Urządzenie obliczeniowe przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do naśladowania działalności neuronu lub zbioru neuronów, tj. urządzenie obliczeniowe wyróżniające się możliwością sprzętowego modulowania znaczenia i liczby połączeń pomiędzy wieloma elementami obliczeniowymi w oparciu o poprzednie dane."Komputer optyczny" (4)Komputer zaprojektowany lub zmodyfikowany z przeznaczeniem do używania światła jako nośnika danych oraz taki, którego elementy obliczeniowo-logiczne działają bezpośrednio na sprzężonych urządzeniach optycznych."Komputer z dynamiczną modyfikacją tablic" (4)Komputer, w którym przepływ i modyfikacja danych są dynamicznie sterowane przez użytkownika na poziomie bramek logicznych."Komutacja optyczna" (5)Przekazywanie lub komutacja sygnałów w postaci optycznej bez przetwarzania na sygnały elektryczne."Krąg Równego Prawdopodobieństwa" (CEP) (7)Jest to miara dokładności wyrażana jako promień okręgu ze środkiem w miejscu znajdowania się celu, w który wpada 50 % ładunków użytecznych, przy określonym zasięgu."Kryptografia" (5)Dziedzina wiedzy zajmująca się zasadami, narzędziami i metodami przekształcania danych w celu ukrycia zawartych w nich informacji, zapobiegania możliwości tajnego ich modyfikowania lub eliminacji dostępu do nich osobom niepowołanym. "Kryptografia" ogranicza się do przekształcania informacji za pomocą jednego lub większej liczby "tajnych parametrów" (np. szyfrów) lub związanego z tym zarządzania kluczami.NB.:"Tajny parametr": wartość stała albo klucz trzymany w tajemnicy przed osobami postronnymi albo znany wyłącznie pewnej grupie osób."Kryptografia kwantowa" (5)Grupa technik pozwalających uzyskiwać wspólny klucz do celów "kryptografii" poprzez pomiar własności kwantowych układu fizycznego (w tym własności fizycznych jawnie zależnych od praw optyki kwantowej, kwantowej teorii pola lub elektrodynamiki kwantowej)."Laser" (0, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9)Zespół elementów wytwarzający wiązkę światła spójnego zarówno w przestrzeni, jak i w czasie, wzmocnioną za pomocą stymulowanej emisji promieniowania.NB.: Patrz również: | "Laser chemiczny", "Laser modulowany dobrocią", "Laser o super wysokiej mocy", "Laser z przekazaniem energii". |"Laser chemiczny" (6)"Laser", w którym wzbudzanie czynnika następuje za pomocą energii pochodzącej z reakcji chemicznej."Laser modulowany dobrocią" (6)"Laser", którego energia, gromadzona w postaci odwrócenia obsadzeń, jest emitowana w postaci impulsu wskutek szybkiej zmiany dobroci rezonatora optycznego."Laser o super wysokiej mocy" ("SUPL.") (6)"Laser", który może dostarczyć energię wyjściową (całkowitą lub częściową) powyżej 1 kJ w ciągu 50 ms albo taki, którego moc przeciętna lub moc w przypadku fali ciągłej wynosi powyżej 20 kW."Laser z przekazaniem energii" (6)"Laser", w którym czynnik emitujący promieniowanie laserowe jest wzbudzany dzięki transferowi energii wskutek zderzeń atomów lub molekuł, niebiorących udziału w akcji laserowej, z atomami lub molekułami czynnika emitującego promieniowanie laserowe."Liniowość" (2)"Liniowość" (zazwyczaj określana w kategoriach nieliniowości) stanowi maksymalne odchylenie parametru rzeczywistego (przeciętnej wartości górnego i dolnego odczytu na skali), w kierunku dodatnim lub ujemnym, od linii prostej poprowadzonej w taki sposób, żeby maksymalne odchylenia zostały wyrównane i zminimalizowane."Lokalna sieć komputerowa" (4)System przesyłania danych mający wszystkie następujące cechy charakterystyczne:Umożliwiający bezpośrednie połączenie ze sobą dowolnej liczby niezależnych 'jednostek danych'; orazOgraniczony w sensie geograficznym do pewnego obszaru o umiarkowanym zasięgu (np. biurowiec, przedsiębiorstwo, miasteczko studenckie, magazyn).NB.:"Jednostka danych": urządzenie mające możliwość nadawania lub odbierania sekwencji informacji cyfrowych."Łączność kanałowa" (5)Metoda przesyłania sygnałów, w której pojedynczy kanał pomiędzy centralami telefonicznymi przenosi, za pomocą komunikatów etykietowanych, informacje sygnałowe dotyczące wielu układów lub rozmów oraz inne informacje, np. stosowane do obsługi sieci."Magnetometry" (6)Przyrządy do wykrywania pól magnetycznych źródeł zewnętrznych względem przyrządu pomiarowego. Składają się z pojedynczego czujnika pola magnetycznego i odpowiedniego układu elektronicznego, na którego wyjściu jest wartość mierzonego pola magnetycznego."Manipulatory " (2)"Manipulatory" obejmują uchwyty, 'aktywne jednostki oprzyrządowania' lub wszelkie inne oprzyrządowanie zamontowane na podstawowej (bazowej) płycie kończącej ramię manipulacyjne "robota".NB.:'Aktywne jednostki oprzyrządowania': urządzenia do przyłożenia mocy napędowej, energii procesowej lub czujnika do przedmiotu obrabianego."Materiał kompozytowy" (1, 2, 6, 8, 9)"Matryca" oraz dodatkowa faza lub dodatkowe fazy, składające się z cząstek, włókienek, włókien lub dowolnej ich kombinacji, dodawanych w określonym celu lub celach."Materiały odporne na korozyjne działanie UF6" (0)Mogą nimi być miedź, stal nierdzewna, aluminium, tlenek aluminium, stopy aluminium, nikiel lub stop zawierający 60 % wagowych lub więcej niklu oraz odporne na działanie UF6 fluorowane polimery węglowodorowe, stosownie do rodzaju procesu separacji."Materiały włókniste lub włókienkowe" (0, 1, 2, 8)Termin "materiał włóknisty lub włókienkowy" obejmuje następujące pojęcia:"Włókna elementarne" o strukturze ciągłej;"Przędza" i "rowing" o strukturze ciągłej;"Taśmy", tkaniny, maty i oploty o strukturze bezładnej;Włókna cięte na drobne kawałki, włókna pocięte na dłuższe odcinki oraz spójne maty z włókien;Wiskery, monokrystaliczne lub polikrystaliczne, o dowolnej długości;Pulpa z poliamidu aromatycznego."Matryca" (1, 2, 8, 9)W zasadzie faza o strukturze ciągłej wypełniająca przestrzeń pomiędzy cząstkami, wiskerami lub włóknami."Mechanizmy robocze" (2)Do "mechanizmów roboczych" zalicza się uchwyty, 'aktywne zespoły narzędziowe' oraz wszelkie inne narzędzia mocowane do płyty roboczej na końcu ramienia manipulatora "robota".NB.:'Aktywne zespoły narzędziowe': urządzenia przekazujące obrabianemu elementowi napęd, energię potrzebną do obróbki lub określające parametry obrabianego elementu."Mierniki gradientu magnetycznego" (6)Przyrządy do wykrywania zmian przestrzennych pól magnetycznych ze źródeł zewnętrznych w stosunku do przyrządu pomiarowego. Składają się z wielu "magnetometrów" i odpowiednich układów elektronicznych, na których wyjściu jest mierzony gradient pola magnetycznego.NB.: Patrz również "Miernik gradientu magnetycznego własnego"."Miernik gradientu magnetycznego własnego" (6)Pojedynczy element do pomiaru gradientu pola magnetycznego oraz związane z nim urządzenia elektroniczne, służący do pomiaru gradientu pola magnetycznego.NB.: Patrz również "Miernik gradientu magnetycznego"."Mieszanina chemiczna" (1) oznacza produkt stały, płynny lub gazowy zrobiony z dwóch lub więcej składników, które nie reagują ze sobą w warunkach, w których mieszanina jest przechowywana."Mieszanie" (1)Mieszanie włókien materiałów termoplastycznych z włóknami materiałów wzmacniających w celu wytworzenia mieszanki włókien wzmacniających z "matrycą", mającej w całości formę włóknistą."Mikroorganizmy" (1, 2)Bakterie, wirusy, mikoplazmy, riketsje, chlamydie lub grzyby, naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci wyizolowanych żywych kultur lub materiału zawierającego żywe organizmy, który rozmyślnie zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami."Moc impulsu" (6)Energia na impuls wyrażona w dżulach, podzielona przez czas trwania impulsu w sekundach."Moduł właściwy" (0, 1, 9)Moduł Younga w paskalach, równoważny N/m2 podzielonym przez ciężar właściwy w N/m3, mierzony w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotności względnej (50 ± 5) %."Monolityczny układ scalony" (3)Kombinacja czynnych lub biernych, albo obu, 'elementów obwodu' o następujących cechach charakterystycznych:jest uformowana techniką dyfuzyjną, technikami implantacyjnymi lub technikami osadzania w pojedynczym półprzewodzącym kawałku materiału, tzw. chipie, albo na nim;można ją traktować jak element niepodzielny; orazrealizuje funkcję(e) obwodu.NB.:'Element obwodu': pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, taka jak jedna dioda, tranzystor, rezystor, kondensator itp."Monospektralne czujniki obrazowe" (6)Czujniki pozwalające na zbieranie danych obrazowych z pojedynczego pasma widma dyskretnego."Możliwość programowania przez użytkownika" (6)Możliwość wprowadzania, modyfikacji lub wymiany "programów" przez użytkownika na innej drodze niż poprzez:Fizyczne zmiany przewodów lub połączeń; lubNastawianie regulatorów funkcji, w tym parametrów wejściowych."Nadprzewodniki" (1, 3, 6, 8)Materiały: tj. metale, stopy lub związki, które mogą całkowicie stracić swoją oporność, tj. które mogą uzyskać nieskończoną przewodność elektryczną i przewodzić prąd elektryczny o bardzo wysokich natężeniach bez wytwarzania ciepła Joule'a.NB.:"Nadprzewodzący" stan materiału jest indywidualnie scharakteryzowany "temperaturą krytyczną", krytycznym polem magnetycznym, będącym funkcją temperatury, oraz krytyczną gęstością prądu, która jest funkcją zarówno pola magnetycznego, jak i temperatury."Nadstopy" (2, 9)Stopy na osnowie niklu, kobaltu lub żelaza o bardzo wysokiej wytrzymałości w porównaniu z innymi stopami serii AISI 300 w temperaturach powyżej 922 K (649 °C), w skrajnych warunkach środowiskowych i eksploatacyjnych."Nawigacja na bazie danych z wielu źródeł" ("DBRN") (7) Systemy oparte na danych z wielu źródeł uprzednio zmierzonych danych geograficznych zintegrowanych w celu uzyskania dokładnych informacji nawigacyjnych w warunkach dynamicznych. Do źródeł danych należą mapy batymetryczne, mapy nieba, mapy grawitacji, mapy magnetyczne lub trójwymiarowe cyfrowe mapy terenowe."Niepewność pomiarowa" (2)Parametr charakterystyczny określający, na poziomie ufności 95 %, w jakiej odległości od wartości prawidłowej leży zmienna pomiarowa. W jego skład wchodzą niedające się skorygować odchylenia systematyczne, niedający się skorygować luz oraz odchylenia losowe (Patrz: ISO 10360–2 lub VDI/VDE 2617)."Niezbędne" (UOdT 1–9)W odniesieniu do "technologii" lub "oprogramowania" dotyczy tylko tej części "technologii" lub "oprogramowania", która jest szczególnie odpowiedzialna za osiągnięcie lub przekroczenie wartości parametrów, właściwości lub funkcji objętych kontrolą. Taka "niezbędna""technologia" lub "oprogramowanie" może dotyczyć różnych produktów."Ochrona informacji" (4, 5)Wszystkie rodzaje sposobów i funkcji zapewniających dostęp, poufność lub nienaruszalność informacji lub komunikacji, z wyłączeniem sposobów i funkcji zabezpieczających przed wadliwym działaniem. Obejmuje "kryptografię", "kryptoanalizę", ochronę przed przypadkowym przekazywaniem sygnałów odnoszących się do tajnych informacji oraz zabezpieczanie komputerów.NB.:"Kryptoanaliza": analiza systemów łączności szyfrowej albo ich wejść lub wyjść w celu uzyskania tajnych informacji lub danych, włączając w to tajne teksty."Odchylenie położenia kątowego" (2)Maksymalna różnica pomiędzy położeniem kątowym a rzeczywistym, bardzo dokładnie zmierzonym położeniem kątowym po obróceniu stołu montażowego od jego położenia początkowego. (Patrz: VDI/VDE 2617, Draft "Rotary tables on coordinate measuring machines" – Stoły obrotowe współrzędnościowych maszyn pomiarowych)."Odporność na uszkodzenia" (4)Możliwość systemu komputerowego, po dowolnym wadliwym zadziałaniu części jego sprzętu lub "oprogramowania", do kontynuacji działalności bez interwencji człowieka, na danym poziomie usług, zapewniającym: kontynuowanie działania, zachowanie danych bez ich naruszenia oraz odzyskanie zdolności usługowych w określonym czasie."Opóźnienie sygnału bramki podstawowej" (3)Wartość opóźnienia sygnału odpowiadająca bramce podstawowej, używanej w "rodzinie""monolitycznych układów scalonych". Można ją wyznaczyć, dla danej "rodziny", jako opóźnienie sygnału na bramkę typową w ramach danej "rodziny" albo jako typowe opóźnienie na bramkę w ramach danej "rodziny".NB.1: Nie należy mylić "opóźnienia sygnału bramki podstawowej" z opóźnieniem wyjścia/wejścia złożonego "monolitycznego układu scalonego".NB.2: Do "rodziny" zalicza się wszystkie układy scalone, do których metodologii produkcyjnej i danych technicznych, z wyjątkiem ich odpowiednich funkcji, stosują się następujące punkty:Wspólna architektura hardware'u i software'u;Wspólna technologia projektowania i przetwarzania; orazWspólne charakterystyki podstawowe."Oprogramowanie" (Wszystko UOdO)Zbiór jednego lub więcej "programów" lub "mikroprogramów", wyrażony w dowolny zrozumiały sposób.NB.:"Mikroprogram" oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwołania."Optyczny układ scalony" (3)"Monolityczny układ scalony" lub "hybrydowy układ scalony", zaopatrzony w jedną lub więcej części przeznaczonych do działania w roli fotoczujników lub fotoemiterów albo do wykonywania funkcji optycznych lub elektrooptycznych."Optymalizacja toru lotu" (7)Procedura minimalizująca odchylenia od czterowymiarowej (przestrzeń i czas) planowanej trajektorii lotu, oparta na zasadzie maksymalizacji osiągów lub efektywności realizacji zadania."Pamięć operacyjna" (4)Podstawowa pamięć na dane lub instrukcje szybko dostępna dla jednostki centralnej. Składa się z pamięci wewnętrznej "komputera cyfrowego" oraz jednej z dodatkowych pamięci o strukturze hierarchicznej, takich jak pamięć podręczna (cache) lub pamięć dodatkowa z dostępem niesekwencyjnym."Państwa (nie) będące Stronami Konwencji o Zakazie Broni Chemicznej" (1) są to te Państwa, w którychKonwencja o Zakazie Rozwijania, Produkcji, Składowania i Stosowania Broni Chemicznej (nie) weszła w życie (patrz www.opcw.org)."Państwo Uczestniczące" (7, 9)Każde z Państw uczestniczących w Porozumieniu z Wassenaar (patrz www.wassenaar.org)."Pełzanie zera (żyroskopu)" (7)Zmiana odchylenia wskazań od wartości pożądanej w funkcji czasu. Składa się z elementów przypadkowych i systematycznych i jest wyrażana jako ekwiwalentne wejściowe przemieszczenie kątowe na jednostkę czasu w odniesieniu do pola inercyjnego."Płaski zespół ogniskowy" (6)Płaska warstwa o strukturze liniowej lub dwuwymiarowej albo kombinacja takich płaskich warstw, złożonych z oddzielnych elementów detekcyjnych, z elektronicznym urządzeniem odczytującym lub bez, pracująca w płaszczyźnie ogniskowej.NB.: Nie chodzi tu o stos pojedynczych elementów detekcyjnych ani dwa, trzy lub cztery elementy detekcyjne opóźniające, ani o realizację integracji wewnątrz elementu."Piksel aktywny" (6, 8)Najmniejszy (pojedynczy) element sieci elementów półprzewodnikowych mający możliwość realizacji funkcji fotoelektrycznych w odpowiedzi na promieniowanie świetlne (elektromagnetyczne)."Pociski rakietowe" (1, 3, 6, 7, 9)Kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych, zdolne do przenoszenia ładunku użytecznego o masie co najmniej 500 kg na odległość co najmniej 300 km."Podjednostka toksyny" (1)Strukturalnie i funkcjonalnie oddzielny składnik "toksyny"."Podłoże" (3)Płytka materiału głównego z naniesionymi połączeniami albo bez nich, na której, albo wewnątrz której, można umieszczać "składniki dyskretne" lub układy scalone albo oba z nich.NB.1:"Składnik dyskretny": "element obwodu" w oddzielnej obudowie z własnymi końcówkami wyjściowymi .NB.2:"Element obwodu": pojedyncza, czynna lub bierna, funkcjonalna część układu elektronicznego, taka jak jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp."Podstawowe badania naukowe" (UOdT, UdTJ)Prace doświadczalne lub teoretyczne prowadzone głównie w celu uzyskania nowej wiedzy o podstawach danego zjawiska lub obserwowalnych jego efektach, nienakierowane bezpośrednio na konkretne cele lub zadania praktyczne."Podstawowe sterowanie lotem" (7)Sterowanie stabilnością i manewrowością "samolotu" za pomocą generatorów typu siła/moment, tj. za pomocą aerodynamicznych powierzchni sterujących lub sterowania wektorem ciągu."Pojazdy lżejsze od powietrza" (9)Balony i statki powietrzne, które są wypełniane gorącym powietrzem lub innymi gazami lżejszymi od powietrza, takimi jak hel lub wodór."Połączone czujniki radarowe" (6)Co najmniej dwa czujniki radarowe są ze sobą połączone, kiedy wymieniają między sobą informacje w czasie rzeczywistym."Poziom szumu" (6)Sygnał elektryczny rozumiany w sensie gęstości mocy widmowej. "Poziom szumów" wyrażony w wartościach całkowitych (peak-to-peak) jest określony zależnością S2pp = 8No (f2 – f1), gdzie Spp jest wartością całkowitą (maksymalną) sygnału (np. w nanoteslach), No jest gęstością mocy widmowej (np. {}{nanotesle}}2/Hz), a (f2 – f1) określa daną szerokość pasma."Półprodukt podłoży" (6)Materiał monolityczny o wymiarach umożliwiających wytworzenie z niego elementów optycznych, takich jak zwierciadła albo okienka optyczne."Prasy izostatyczne" (2)Urządzenia umożliwiające ciśnieniowanie zamkniętych komór za pomocą różnych czynników roboczych (gazu, cieczy, cząstek stałych, itp.) w celu wytwarzania w komorze we wszystkich kierunkach równych ciśnień na obrabiany element lub materiał."Preformy włókien węglowych" (1)Uporządkowany układ powlekanych lub niepowlekanych włókien przeznaczony do tworzenia struktur składowych przed użyciem "matrycy" do tworzenia "materiału kompozytowego"."Produkcja" (Wszystkie UOdT, UdTJ)Wszystkie etapy związane z produkcją, takie jak: technologia mechaniczna, wytwarzanie, scalanie, montaż (składanie), kontrola, testowanie, zapewnienie jakości."Profile o zmiennej geometrii" (7)Profile, w których zastosowano klapy lub inne płaszczyzny na krawędzi spływu albo sloty lub osadzone przegubowo noski na krawędzi natarcia, którymi można sterować w locie."Program" (2, 6)Sekwencja instrukcji do realizacji procesu, mająca postać wykonywalną lub przekształcalną na wykonywalną, za pomocą komputera elektronicznego."Przestrajalność" (6)Zdolność "lasera" do wytwarzania ciągłego sygnału wyjściowego we wszystkich długościach fal w przedziale kilku przejść "laserowych". "Laser" z selekcją liniową wytwarza dyskretne długości fal w ramach jednego przejścia "laserowego" i nie jest uważany za "przestrajalny"."Przetwarzanie sygnałów" (3, 4, 5, 6)Przetwarzanie sygnałów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą takich algorytmów, jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciąganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub transformaty Walsha)."Przetwarzanie w czasie rzeczywistym" (6, 7)Przetwarzanie danych przez system komputerowy, zapewniające żądany poziom realizacji zadań w funkcji dostępnych środków, w gwarantowanym czasie odpowiedzi, bez względu na obciążenie systemu, kiedy jest on stymulowany przez wydarzenia zewnętrzne."Przetworniki ciśnienia" (2)Urządzenia przetwarzające wyniki pomiaru ciśnienia na sygnał elektryczny."Przędza" (1)Wiązka skręconych "skrętek".NB.:"Skrętka" oznacza wiązkę "włókien elementarnych" (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle."Przydzielone przez ITU" (3, 5) oznacza przydział pasm częstotliwości zgodnie z Przepisami Radiowymi ITU (International Telecommunication Union – Międzynarodowej Unii Telekomunikacyjnej) (wydanie 1998) dla służb podstawowych, dopuszczonych i pomocniczych.NB.: Nie obejmuje przydziałów dodatkowych i alternatywnych."Przystosowany do użycia w działaniach wojennych" (1)Dowolna modyfikacja lub dobór (np. zmieniona czystość, dopuszczalny okres magazynowania, agresywność, charakterystyki propagacji lub odporność na promieniowanie nadfioletowe) przeznaczone do wzmocnienia efektów wywoływania strat w ludności lub zwierzętach, unieszkodliwiania sprzętu lub powodujących straty w uprawach rolnych lub środowisku."Radar o rozproszonym widmie" (6)(Patrz "Rozproszone widmo radarowe")."Reaktor jądrowy" (0)Obiekt znajdujący się wewnątrz lub bezpośrednio przymocowany do zbiornika reaktora, wyposażenie sterujące poziomem mocy w rdzeniu oraz znajdujące się w nim zazwyczaj składniki wchodzą w bezpośrednią styczność z chłodziwem pierwotnym rdzenia reaktora albo sterują nim."Robot" (2, 8)Manipulator wykonujący ruchy w sposób ciągły albo poruszający się od punktu do punktu, mający możliwość korzystania z "czujników" i mający wszystkie następujące cechy charakterystyczne:jest wielofunkcyjny;ma możliwość ustawiania w odpowiednim położeniu lub orientowania przestrzennego materiałów, części, narzędzi lub urządzeń specjalnych poprzez wykonywanie różnych ruchów w przestrzeni trójwymiarowej;jest wyposażony w trzy lub większą liczbę mechanizmów wspomagających, pracujących w obwodzie zamkniętym lub otwartym, które mogą być poruszane silnikami krokowymi; orazma możliwość "programowania dostępnego dla użytkownika" poprzez uczenie/odgrywanie lub za pomocą komputera elektronicznego, który może być programowanym sterownikiem logicznym, tj. bez ingerencji mechanicznej.NB.: Niniejsza definicja nie obejmuje następujących urządzeń:Mechanizmów poruszanych wyłącznie ręcznie albo zdalnie przez operatora.Manipulatorów o ustalonej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejność ruchów oraz wybór drogi albo kątów nie są zmienne ani zmienialne za pomocą środków mechanicznych, elektronicznych lub elektrycznych.Manipulatorów o zmiennej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejność ruchów oraz wybór drogi albo kątów są zmienne w ramach ustalonego schematu programowego. Zmian lub modyfikacji schematu programowego (np. zmiany kołków lub wymiany krzywek) w jednej lub kilku osiach współrzędnych dokonuje się wyłącznie na drodze działań mechanicznych.Manipulatorów bez sterowania ze sprzężeniem zwrotnym, o zmiennej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie ruchy. Program jest zmienny, ale sekwencja jest realizowana wyłącznie za pomocą sygnału binarnego z elektrycznych urządzeń binarnych o ustalonym mechanicznie położeniu lub nastawnych ograniczników.Żurawi do stertowania, definiowanych jako manipulatory działające w kartezjańskim układzie współrzędnych, produkowanych jako integralne części pionowych zespołów do silosów, i służące do sięgania po zawartość tych silosów w celu składowania lub wyjmowania."Rowing" (1)Wiązka (zazwyczaj 12–120 szt.) w przybliżeniu równoległych "skrętek".NB.:"Skrętka" oznacza wiązkę "włókien elementarnych" (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle."Rozdrabnianie" (1)Technika rozczłonkowania materiału na cząstki przez miażdżenie lub rozcieranie."Rozdzielczość" (2)Najmniejsza działka urządzenia pomiarowego; w przypadku instrumentu cyfrowego jest to najmniej znaczący bit (Patrz: ANSI B–89.1.12)."Rozproszone widmo radarowe" (6)Dowolna technika modulacji służąca do rozpraszania energii sygnału o stosunkowo wąskim paśmie częstotliwości na dużo szersze pasmo częstotliwości, za pomocą kodowania losowego lub pseudolosowego."Rozrzucanie częstotliwości" (frequency hopping) (5)Forma "rozproszenia widma" polegająca na krokowo-dyskretnej zmianie częstotliwości nośnej pojedynczego kanału telekomunikacyjnego, w sposób losowy lub pseudolosowy."Rozrzucone geograficznie" (6)Uważa się, że czujniki są rozrzucone geograficznie w przypadku, kiedy każdy z nich znajduje się w odległości od innego większej niż 1500 m w dowolnym kierunku. Czujniki ruchome są zawsze traktowane jako "rozrzucone geograficznie"."Rozwój" (Wszystkie UOdT, UdTJ)Odnosi się do wszystkich etapów poprzedzających produkcję seryjną, takich jak: projektowanie, badania projektowe, analiza konstrukcyjna, koncepcja projektowania, montaż i testowanie prototypów, plany produkcji pilotowej, dane projektowe, proces przetwarzania danych projektowych w produkt, projektowanie konfiguracji, projektowanie montażu całościowego, rozplanowanie."Ruchliwość częstotliwości w radarach" (6)Dowolna technika zmiany, wg sekwencji pseudolosowej, częstotliwości nośnej impulsowego nadajnika radarowego pomiędzy impulsami lub pomiędzy grupami impulsów, o wartość równą lub większą od szerokości pasma impulsu.Statek powietrzny (1, 7, 9)Stałopłat, statek z obrotowymi skrzydłami, wiropłat (helikopter), statek ze zmiennym wirnikiem lub zmiennopłat.NB.: Patrz również "cywilny statek powietrzny"."SHPL" – patrz "Laser o super wysokiej mocy"."Specjalny materiał rozszczepialny" (0)"Specjalny materiał rozszczepialny" oznacza pluton-239, uran-233, "uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233" oraz dowolne, zawierające je materiały."Stabilność" (7)Odchylenie standardowe (1 sigma) zmienności danego parametru od jego wartości wzorcowej zmierzonej w ustalonych warunkach temperaturowych. Można ją wyrażać w funkcji czasu."Stała czasowa" (6)Czas od chwili bodźca świetlnego do wzrostu prądu do wartości stanowiącej 1–1/e-krotną wartość wielkości końcowej (tj. 63 % wartości końcowej)."Stapianie mechaniczne" (1)Technika wykonywania stopów polegająca na mechanicznym łączeniu, rozdrabnianiu i ponownym łączeniu sproszkowanych pierwiastków i głównego składnika stopowego. Jako składnik stopowy może występować substancja niemetaliczna dodawana w postaci odpowiedniego proszku."Statek kosmiczny" (7, 9)Czynne i bierne satelity i sondy kosmiczne."Sterowanie kształtowe" (2)Co najmniej dwa ruchy "sterowane numerycznie", realizowane zgodnie z instrukcjami określającymi następne położenie oraz potrzebne do osiągnięcia tego położenia prędkości posuwów. Prędkości posuwów nie są jednakowe, wskutek czego powstaje wymagany kształt (Patrz ISO/DIS 2806–1980)."Sterowanie numeryczne" (2)Automatyczne sterowanie procesem wykonywane przez urządzenie korzystające z danych numerycznych zazwyczaj wprowadzanych podczas realizacji operacji (Patrz ISO 2382)."Sterowanie mocą" (7)Zmiana mocy sygnału nadawanego przez wysokościomierz w taki sposób, żeby moc odbierana w "statku powietrznym" na danej wysokości była zawsze na minimalnym poziomie niezbędnym do określenia wysokości."Sterowany elektronicznie układ antenowy fazowany" (5, 6)Antena kształtująca wiązkę za pomocą sprzężenia fazowego, tj. kierunek wiązki jest utrzymywany za pomocą elementów promieniujących o złożonych współczynnikach wzbudzenia, przy czym kierunek takiej wiązki (azymut i (lub) podniesienie kątowe) można zmieniać za pomocą sygnału elektrycznego, zarówno dla nadawania, jak i odbioru."Sterownik dostępu do sieci" (4)Interfejs fizyczny do sieci rozproszonej. Używa się w nim wspólnego nośnika działającego z taką samą "szybkością przesyłania danych cyfrowych" w systemie transmisji z arbitrażem (np. w sensie znacznika lub nośnika). Niezależnie od innych wybiera on adresowane do niego pakiety z danymi lub grupami danych (np. IEEE 802). Jest to zespół, który może być zintegrowany z komputerem lub urządzeniem telekomunikacyjnym, z zadaniem zapewniania dostępu do łączy telekomunikacyjnych."Sterownik toru telekomunikacyjnego" (5)Interfejs fizyczny sterujący przepływem cyfrowych informacji synchronicznych lub asynchronicznych. Jest to zespół, który może stanowić podzespół komputera lub urządzenia telekomunikacyjnego zapewniającego dostęp do łączności."Stół obrotowo-przechylny" (2)Stół umożliwiający obracanie i przechylanie obrabianego przedmiotu względem dwóch osi nierównoległych, które mogą być równocześnie koordynowane, co umożliwia "sterowanie kształtowe"."Strumieniowe wieloprzetwarzanie danych" (4)Technika oparta na "mikroprogramie" lub architekturze sprzętu, umożliwiająca równoczesne przetwarzanie dwóch lub więcej sekwencji danych pod kontrolą jednej lub kilku sekwencji instrukcji za pomocą takich narzędzi, jak:Zespoły o architekturze opartej na jednoinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (SIMD), np. procesory wektorowe lub tablicowe;Zespoły o architekturze opartej na wielokrotnym jednoinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (MSIMD);Zespoły o architekturze opartej na wieloinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (MIMD), włącznie z procesorami połączonymi bezpośrednio, połączonymi silnie lub połączonymi luźno; alboElementy przetwarzające o strukturze tablicowej, włącznie z tablicami dynamicznymi.NB.:"Mikroprogram" oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwołania."Syntetyzator częstotliwości" (3)Dowolny rodzaj źródła częstotliwości lub generatora sygnałów, bez względu na stosowaną technikę, zapewniający uzyskanie wielu równoczesnych lub alternatywnych częstotliwości wyjściowych z jednego lub kilku wyjść sterowanych lub regulowanych za pomocą mniejszej liczby częstotliwości wzorcowych (lub głównych)."Systemy eksperckie" (4, 7)Systemy wypracowujące wyniki poprzez zastosowanie pewnych zasad do danych przechowywanych w pamięci niezależnie od "programu" i mające następujące możliwości:Automatyczna modyfikacja "kodu źródłowego" wprowadzonego przez użytkownika;Dostarczanie informacji związanych z klasą problemów w języku quasi-naturalnym; lubRozszerzanie wiedzy potrzebnej do własnego rozwoju (szkolenie symboliczne)."Szczepionka" (1)Preparat medyczny w postaci wyrobu farmaceutycznego, wytworzony na licencji, albo po próbach badań rynkowych lub klinicznych na podstawie upoważnienia przez władze kraju produkcji lub kraju stosowania, który wprowadzony do ustroju ludzkiego lub zwierzęcego ma za zadanie wytworzenie w nim ochronnej odporności immunologicznej w celu zapobiegania chorobom."Szerokość pasma czasu rzeczywistego" (2, 3)W "dynamicznych analizatorach sygnałów" – największy zakres częstotliwości, jaki analizator może przesłać na wyświetlacz lub do pamięci masowej, bez jakiejkolwiek przerwy w analizowaniu danych wejściowych. W przypadku analizatorów o więcej niż jednym kanale, obliczenia należy przeprowadzić dla takiej konfiguracji kanałów, która daje największą "szerokość pasma czasu rzeczywistego"."Szybkość przesyłania danych cyfrowych" (5)Całkowita szybkość informacji w bitach, przesyłanych bezpośrednio na dowolnym typie nośnika.NB.: Patrz także "całkowita szybkość transmisji danych cyfrowych"."Ścieżki systemowe" (6)Przetworzone, skorelowane (połączenie radiolokacyjnych danych o celu z położeniem lecącego samolotu) i zaktualizowane dane dotyczące położenia lecącego samolotu, przekazane kontrolerom w ośrodku kontroli ruchu powietrznego."Taśma" (1)Materiał zbudowany z przeplatanych lub jednakowo ukierunkowanych "włókien elementarnych", "skrętek", "rowingów", "kabli" lub "przędz" itp., zazwyczaj impregnowany żywicą.NB.:"Skrętka" oznacza wiązkę "włókien elementarnych" (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle."Technologia" (Wszystkie UOdT UdTJ)Specyficzny rodzaj informacji, niezbędny do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" danego wyrobu. Informacja ta ma postać "danych technologicznych" lub "pomocy technicznej".NB.1:"Pomoc techniczna" może przybierać takie formy, jak: przekazanie instrukcji, umiejętności, szkolenie, przekazanie wiedzy na temat eksploatacji oraz usługi konsultacyjne i może obejmować transfer "danych technologicznych".NB.2:"Dane technologiczne" mogą mieć formę odbitek, planów, wykresów, modeli, wzorów, tabel, projektów technicznych i opisów, podręczników i instrukcji w formie pisemnej lub zarejestrowanej na innych nośnikach lub urządzeniach, takich jak dyski, taśmy, pamięci wyłącznie do odczytu."Temperatura krytyczna" (1, 3, 6)"Temperatura krytyczna" (nazywana czasami "temperaturą przemiany") danego materiału "nadprzewodzącego" jest temperaturą, w której materiał całkowicie traci oporność dla przepływu elektrycznego prądu stałego."Teoretyczna moc kombinowana" ("CTP") (3, 4)Miara mocy obliczeniowej podawana w milionach operacji teoretycznych na sekundę (Mtops), obliczana w oparciu o agregację "elementów obliczeniowych" ("CE").NB.: (Patrz Kategoria 4, Uwaga techniczna)."Toksyny" (1, 2)Toksyny w postaci celowo wyizolowanych preparatów lub mieszanek, bez względu na sposób produkcji, różne od toksyn istniejących jako zanieczyszczenia innych materiałów, takich jak próbki patogenne, plony, żywność lub posiewy "mikroorganizmów"."Układ scalony warstwowy" (3)Układ elementów obwodu i metalowych łączników, wytworzony techniką osadzania grubej lub cienkiej warstwy na "podłożu" o właściwościach izolujących.NB.:"Element obwodu": pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp."Układ mikrokomputerowy" (3)"Monolityczny układ scalony" lub "wieloukład scalony", w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji instrukcji ogólnych, zawartych w pamięci wewnętrznej, na danych znajdujących się w pamięci wewnętrznej.NB.: Pamięć wewnętrzna może być wspomagana przez pamięć zewnętrzną."Układ mikroprocesorowy" (3)"Monolityczny układ scalony" lub "wieloukład scalony", w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji szeregu instrukcji ogólnych zawartych w pamięci zewnętrznej.NB.1:"Układ mikroprocesorowy" zazwyczaj nie jest wyposażony w integralną pamięć dostępną dla użytkownika, ale do realizacji jego funkcji logicznych może być wykorzystywana pamięć istniejąca w mikroukładzie.NB.2: Definicja ta obejmuje zespoły układów przeznaczone do pracy razem, w celu realizacji funkcji "układu mikroprocesorowego"."Układy aktywnego sterowania lotem" (7)Układy zapobiegające niepożądanym ruchom lub obciążeniom konstrukcji "samolotu" lub pocisku rakietowego dzięki autonomicznemu przetwarzaniu sygnałów z wielu czujników i wydawaniu niezbędnych poleceń do realizacji sterowania automatycznego."Układy czujników optycznych sterowania lotem" (7)Układ czujników optycznych, wykorzystujący promień "lasera" do dostarczania w czasie rzeczywistym danych sterowania lotem w celu ich przetwarzania na pokładzie."Ultraszybkie chłodzenie" (1)Technika "gwałtownego krzepnięcia" polegająca na uderzaniu stopionego strumienia metalu w ochłodzony blok, w wyniku czego powstaje produkt w postaci płatków.NB.:"Gwałtowne krzepnięcie": krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1000 K/s."Ułamkowa szerokość pasma" (3) oznacza "szerokość chwilową pasma" podzieloną przez częstotliwość środkową, wyrażoną w procentach."Uprzednio separowane" (0, 1)Oddzielone dowolną techniką wzbogacania kontrolowanego izotopu."Uran naturalny" (0)Uran zawierający mieszaninę izotopów występujących w naturze."Uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233" (0)Uran zawierający izotopy 235 lub 233, albo oba, w takich ilościach, że stosunek łącznej zawartości tych izotopów do izotopu 238 jest większy niż stosunek zawartości izotopu 235 do izotopu 238 występujący w naturze (stosunek izotopowy 0,71 procenta)."Uran zubożony" (0)Uran, w którym zawartość izotopu 235 obniżono do ilości mniejszej niż w warunkach naturalnych."Urządzenia produkcyjne" (1, 7, 9)Oprzyrządowanie, szablony, przyrządy obróbkowe, trzpienie, formy, matryce, uchwyty, mechanizmy synchronizujące, urządzenie testujące, inne maszyny i ich wyposażenie, z ograniczeniem do urządzeń specjalnie przeznaczonych lub zmodyfikowanych z przeznaczeniem do "rozwoju" lub jednej albo więcej faz "produkcji"."Ustalony" (5)Algorytm kodowania lub kompresji, który nie może akceptować parametrów dostarczonych z zewnątrz (np. zmiennych do szyfrowania lub kluczy) i nie może być modyfikowany przez użytkownika."Użytkowanie" (Wszystkie UOdT UdTJ)Praca, instalowanie (włącznie z montażem na miejscu), konserwacja (kontrola), naprawa, remonty i odnawianie."Widmo rozproszone" (5)Dowolna technika służąca do rozpraszania energii sygnału ze stosunkowo wąskiego kanału telekomunikacyjnego na dużo szersze widmo energii."Wieloukład scalony" (3)Dwa lub więcej "monolityczne układy scalone", spojone ze wspólnym "podłożem"."Wielospektralne analizatory obrazowe" (6)Umożliwiają równoczesne lub szeregowe odbieranie danych obrazowych z dwóch lub więcej dyskretnych pasm spektralnych. Analizatory o więcej niż dwudziestu dyskretnych pasmach spektralnych są czasami nazywane hiperspektralnymi analizatorami obrazowymi."Włókno elementarne" (lub – włókno) (1)Najmniejszy inkrement włókna, zazwyczaj mający średnicę kilku mikrometrów."Wrzeciono wahadłowe" (2)Wrzeciono na narzędzia, zmieniające podczas procesu obróbki położenie kątowe swojej osi względem dowolnej innej osi."Współczynnik skalowania (żyroskopu lub przyspieszeniomierza)" (7)Stosunek zmiany wartości wyjściowej do zmiany wartości wejściowej, która ma być mierzona. Współczynnik skalowania jest na ogół szacowany jako pochylenie linii prostej, którą można poprowadzić metodą najmniejszych kwadratów pomiędzy punktami określającymi parametry wejściowe/wyjściowe, uzyskanymi poprzez cykliczną zmianę parametrów wejściowych w przedziale ich wartości."Wszystkie dostępne kompensacje" (2)Oznacza, że w celu zminimalizowania wszystkich systematycznych błędów pozycjonowania dla określonej obrabiarki ostatecznie uwzględniane są wszystkie możliwe do wykonania środki dostępne dla producenta."Wychylenie wstępne przyspieszeniomierza" (7)Wartość wskazywana przez przyspieszeniomierz w przypadku braku przyspieszenia."Wykładzina wewnętrzna" (9)Warstwa pośrednia pomiędzy paliwem stałym a osłoną lub warstwą izolacyjną. Zazwyczaj jest to płynna polimerowa zawiesina materiału ogniotrwałego lub izolacyjnego, np. węgiel z wypełniaczem polibutadienowym zakończonym grupami hydroksylowymi (HTPB) lub innym polimerem z dodatkiem środków utrwalających, rozpylonych lub rozsmarowanych na wewnętrznej powierzchni osłony."Wytrzymałość właściwa na rozciąganie" (0, 1, 9)Wytrzymałość na rozciąganie w paskalach, równoważnych N/m2, podzielona przez masę właściwą w N/m3, mierzona w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotności względnej (50 ± 5) %."Wzmacnianie obrazu" (4)Przetwarzanie obrazów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą algorytmów, takich jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciąganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformacji Fouriera lub transformacji Walsha). Nie obejmuje algorytmów, w których stosowane są wyłącznie przekształcenia liniowe lub obrotowe pojedynczego obrazu, takie jak przesunięcie, ekstrahowanie jakiejś cechy, rejestracja lub fałszywe barwienie."Wzmocnienie optyczne" (5)W telekomunikacji optycznej technika wzmacniania polegająca na uzyskiwaniu sygnałów optycznych generowanych przez oddzielne źródło optyczne, bez ich przetwarzania na sygnały elektryczne, tj. za pomocą półprzewodnikowych wzmacniaczy optycznych lub światłowodowych wzmacniaczy luminescencyjnych."Zasięg przyrządowy" (6)Jednoznacznie określony zasięg radaru."Zespół elektroniczny" (2, 3, 4, 5)Pewna liczba elementów elektronicznych (tj. 'układów elementarnych', 'elementów dyskretnych', układów scalonych itp.) połączonych ze sobą w celu realizacji określonej(ych) funkcji, wymienialna w całości, która zazwyczaj może być demontowana.NB.1:'Element obwodu': pojedyncza czynna albo bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.NB.2:'Element dyskretny': oddzielnie obudowany 'układ elementarny' z własnymi końcówkami wyjściowymi."Ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" (2, 3, 8)Sterowanie za pomocą instrukcji zaprogramowanych w pamięci elektronicznej, które procesor może realizować w celu kierowania parametrami uprzednio określonych funkcji.NB.: Urządzenie może być urządzeniem "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci", bez względu na to, czy pamięć elektroniczna jest wewnętrzna, czy też zewnętrzna względem urządzenia."Zgrzewanie dyfuzyjne" (1, 2, 9)Łączenie molekularne w stanie stałym co najmniej dwóch oddzielnych metali w jeden element, przy czym wytrzymałość miejsca połączenia jest równa wytrzymałości najsłabszego z materiałów."Zwierciadła odkształcalne" (6)(Określa się je również adaptacyjnymi zwierciadłami optycznymi). Są to zwierciadła mające:jedną ciągłą odbijającą powierzchnię optyczną, którą można dynamicznie odkształcać za pomocą pojedynczych momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło; lubwiele odbijających elementów optycznych, które można oddzielnie i dynamicznie przemieszczać w inne położenie za pomocą działających na nie momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło.AKRONIMY I SKRÓTY UŻYWANE W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKUAkronimy lub skróty użyte jako zdefiniowany termin znajdują się w "Definicjach terminów użytych w niniejszym Załączniku".Akronim lub skrót | Znaczenie |ABEC | Komitet Inżynierów Łożysk Pierścieniowych |AGMA | Amerykańskie Stowarzyszenie Producentów Przekładni |AHRS | układy informujące o położeniu i kursie |AISI | Amerykański Instytut Żelaza i Stali |ALU | jednostka arytmetyczno-logiczna |ANSI | Amerykański Narodowy Instytut Normalizacji |ASTM | Amerykańskie Towarzystwo Materiałoznawcze |ATC | kontrola ruchu lotniczego |AVLIS | instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą "laserów" w parach atomowych |CAD | projektowanie wspomagane komputerowo |CAS | Serwis Dokumentacji Chemicznej |CCITT | Międzynarodowy Komitet Konsultacyjny Telegraficzny i Telefoniczny |CDU | jednostka sterowania i wyświetlania |CEP | krąg równego prawdopodobieństwa |CNTD | rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem |CRISLA | reakcja chemiczna wywołana selektywną laserową aktywacją izotopów |CVD | osadzanie chemiczne z pary |CW | wojna chemiczna |(CW) (dotyczy laserów) | fala ciągła (w laserach) |DME | radiodalmierz |DS | ukierunkowane krzepnięcie |EB-PVD | fizyczne osadzanie pary z wiązką elektronów |EBU | Europejska Unia Nadawców |ECM | elektromechaniczne techniki obróbki |ECR | rezonans elektronowo-cyklotronowy |EDM | elektroiskrowe obrabiarki |EEPROMS | elektronicznie wymazywalna programowana pamięć tylko do odczytu |EIA | Stowarzyszenie Przemysłu Elektronicznego |EMC | kompatybilność elektromagnetyczna |ETSI | Europejski Instytut Norm Telekomunikacyjnych |FFT | szybka transformata Fouriera |GLONASS | globalny system nawigacji satelitarnej |GPS | globalny system lokalizacji |HBT | tranzystory heterobipolarne |HDDR | cyfrowy zapis magnetyczny z dużą gęstością |HEMT | tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów |ICAO | Międzynarodowa Organizacja Lotnictwa Cywilnego |IEC | Międzynarodowa Komisja Elektrotechniczna |IEEE | Instytut Inżynierów Elektryki i Elektroniki |IFOV | chwilowe pole widzenia |ILS | system lądowania na przyrządy |IRIG | grupa oprzyrządowania międzyzakresowego |ISAR | radar z odwróconą syntezą apertury |ISO | Międzynarodowa Organizacja Normalizacyjna |ITU | Międzynarodowy Związek Telekomunikacyjny |JIS | Japońska Norma Przemysłowa |JT | Joule-Thomson |LIDAR | radar optyczny |LRU | liniowy element wymienny |MAC | kod uwierzytelniania wiadomości |Mach | stosunek prędkości obiektu do prędkości dźwięku (od nazwiska Ernsta Macha) |MLIS | instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą „laserów” molekularnych |MLS | mikrofalowe systemy lądowania |MOCVD | osadzanie z par lotnych związków metaloorganicznych |MRI | tworzenie obrazów za pomocą rezonansu magnetycznego |MTBF | średni czas międzyawaryjny |Mtops | milion teoretycznych operacji na sekundę |MTTF | średni czas do awarii |NBC | jądrowy, biologiczny i chemiczny |NDT | badanie nieniszczące |PAR | urządzenia radiolokacyjne dokładnego podejścia do lądowania |PIN | osobisty numer identyfikacyjny |ppm | części na milion |PSD | gęstość widmowa mocy |QAM | modulacja kwadraturowa |RF | częstotliwość radiowa |SACMA | Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych Materiałów Kompozytowych |SAR | radar z syntezą apertury |SC | monokryształ |SLAR | radar pokładowy obserwacji bocznej |SMPTE | Stowarzyszenie Inżynierów Filmowych i Telewizyjnych |SRA | warsztatowy zespół wymienny |SRAM | statyczna pamięć o dostępie swobodnym |SRM | metody zalecane przez SACMA |SSB | pojedyncza wstęga boczna |SSR | radar wtórnego nadzorowania |TCSEC | kryteria oszacowania poufnych systemów komputerowych |TIR | całkowity wskazany odczyt |UV | nadfiolet |UTS | jednostkowa wytrzymałość na rozciąganie |VOR | radiolatarnia kierunkowa wysokiej częstotliwości |YAG | granat itrowo-aluminiowy |KATEGORIA 0MATERIAŁY, INSTALACJE I URZĄDZENIA JĄDROWE0ASystemy, urządzenia i części0A001Następujące "reaktory jądrowe" oraz specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użytkowania z nimi urządzenia i podzespoły:a."Reaktory jądrowe" zdolne do pracy w taki sposób, żeby mogła w nich przebiegać kontrolowana, samopodtrzymująca się reakcja łańcuchowa;b. Metalowe zbiorniki lub główne części do nich, także wykonane prototypowo w warsztatach, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do umieszczania w nich rdzenia "reaktora jądrowego", w tym górne pokrywy zbiornika ciśnieniowego reaktora;c. Urządzenia manipulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do załadunku i wyładunku elementów paliwowych "reaktorów jądrowych";d. Pręty regulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do sterowania procesem rozszczepienia w "reaktorze jądrowym", odpowiednie elementy nośne lub zawieszenia, mechanizmy napędu oraz prowadnice rurowe do prętów regulacyjnych;e. Przewody ciśnieniowe reaktora specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem na elementy paliwowe i chłodziwo w "reaktorze jądrowym", wytrzymałe na ciśnienia eksploatacyjne powyżej 5,1 MPa;f. Cyrkon metaliczny lub jego stopy w postaci rur lub zespołów rur specjalnie zaprojektowanych lub wykonanych z przeznaczeniem do "reaktorów jądrowych", w których stosunek wagowy hafnu do cyrkonu wynosi poniżej 1:500;g. Pompy pierwotnego obiegu specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przetaczania chłodziwa w "reaktorach jądrowych";h."Zespoły wewnętrzne reaktora" specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do pracy w "reaktorze jądrowym", w tym elementy nośne rdzenia, kanały paliwowe, osłony termiczne, przegrody, siatki dystansujące rdzenia i płyty rozpraszające;Uwaga: W pozycji 0A001.h "zespoły wewnętrzne reaktora" oznaczają dowolną większą strukturę wewnątrz zbiornika reaktora wypełniającą jedną lub więcej funkcji, takich jak podtrzymywanie rdzenia, utrzymywanie osiowania elementów paliwowych, kierowanie przepływem chłodziwa w obiegu pierwotnym, zapewnienie osłon radiacyjnych zbiornika reaktora i oprzyrządowania wewnątrzrdzeniowego.i. Wymienniki ciepła (wytwornice pary) specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do stosowania w obiegu pierwotnym "reaktora jądrowego";j. Aparatura do detekcji i pomiaru promieniowania neutronowego specjalnie zaprojektowana lub przystosowana do określenia poziomu strumienia neutronów wewnątrz rdzenia "reaktora jądrowego".0BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne0B001Następujące instalacje do separacji izotopów z "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" i "specjalnych materiałów rozszczepialnych" oraz urządzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane:a. Następujące instalacje specjalnie przeznaczone do separacji izotopów "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" oraz "specjalnych materiałów rozszczepialnych":1. Instalacje do rozdzielania gazów metodą wirowania;2. Instalacje do dyfuzyjnego rozdzielania gazów;3. Instalacje do rozdzielania metodami aerodynamicznymi;4. Instalacje do rozdzielania metodami wymiany chemicznej;5. Instalacje do rozdzielania techniką wymiany jonów;6. Instalacje do rozdzielania izotopów w postaci par metalu za pomocą "laserów";7. Instalacje do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą "laserów";8. Instalacje do rozdzielania metodami plazmowymi;9. Instalacje do rozdzielania metodami elektromagnetycznymi;b. Następujące wirówki gazowe oraz zespoły i urządzenia, specjalnie zaprojektowane lub wykonane do stosowania w procesach wzbogacania metodą wirowania gazów:Uwaga: W pozycji 0B001.b "materiał o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości" oznacza jeden z poniższych:a.stal maraging o wytrzymałości na rozciąganie równej 2050 MPa lub większej;b.stopy aluminium o wytrzymałości na rozciąganie równej 460 MPa lub większej; lubc."materiały włókniste lub włókienkowe" o "module właściwym" powyżej 3,18 × 10 6 m i "wytrzymałości właściwej na rozciąganie" powyżej 76,2 × 10 3 m;1. Wirówki gazowe;2. Kompletne zespoły rotorów;3. Cylindryczne zespoły rotorów o grubości 12 mm lub mniejszej, średnicy od 75 do 400 mm, wykonane z 'materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości';4. Pierścienie lub mieszki ze ściankami o grubości 3 mm lub mniejszej i średnicy od 75 mm do 400 mm przeznaczone do lokalnego osadzenia cylindra wirnika albo do połączenia ze sobą wielu cylindrów wirników, wykonane z 'materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości';5. Deflektory o średnicy od 75 mm do 400 mm przeznaczone do instalowania wewnątrz cylindra wirnika odśrodkowego, wykonane z 'materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości';6. Pokrywy górne lub dolne o średnicy od 75 mm do 400 mm pasujące do końców cylindra wirnika, wykonane z 'materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości';7. Łożyska na poduszce magnetycznej składające się z pierścieniowego magnesu zawieszonego w obudowie wykonanej z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub chronionej takimi materiałami, zawierającej wewnątrz czynnik tłumiący i posiadające magnes sprzężony z nabiegunnikiem lub drugim magnesem osadzonym w pokrywie górnej wirnika;8. Specjalnie wykonane łożyska składające się z zespołu czop-panewka osadzonego na amortyzatorze;9. Pompy molekularne zawierające cylindry z wewnętrznymi, obrobionymi techniką skrawania lub wytłoczonymi, spiralnymi rowkami i wewnętrznymi wywierconymi otworami;10. Pierścieniowe stojany silników do wysokoobrotowych wielofazowych silników histerezowych (lub reluktancyjnych) do pracy synchronicznej w próżni z częstotliwością 600-2000 Hz i mocą od 50 do 1000 woltoamperów;11. Obudowy (komory) wirówek, w których znajdują się zespoły wirników cylindrycznych wirówki gazowej, składające się ze sztywnego cylindra ze ściankami o grubości do 30 mm z precyzyjnie obrobionymi końcami i wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub też zabezpieczone takimi materiałami;12. Zbieraki składające się z rurek o średnicy wewnętrznej do 12 mm, przeznaczone do ekstrahowania gazowego UF6 z wirnika wirówki na zasadzie rurki Pitota, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub też zabezpieczone takimi materiałami;13. Przemienniki częstotliwości (konwertory lub inwentory) specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do zasilania stojanów silników wirówek gazowych do wzbogacania, posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne i specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:a. Wyjście wielofazowe o częstotliwości od 600 do 2000 Hz;b. Regulacja częstotliwości z dokładnością lepszą niż 0,1 %;c. Zniekształcenia harmoniczne poniżej 2 %; orazd. Sprawność powyżej 80 %;c. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji metodą dyfuzji gazowej:1. Przegrody do dyfuzji gazowej wykonane z porowatych metalowych, polimerowych lub ceramicznych "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6", posiadające pory o średnicach od 10 do 100 nm, grubość 5 mm lub mniejszą oraz, w przypadku elementów cylindrycznych, średnicę 25 mm lub mniejszą;2. Obudowy dyfuzorów gazowych wykonane lub chronione "materiałami odpornymi na korozyjne działanie UF6";3. Sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objętościowej pojemności ssania UF6 wynoszącej 1 m3/min lub więcej oraz o ciśnieniu wylotowym do 667,7 kPa, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" albo chronione takimi materiałami;4. Uszczelnienia wirujących wałów sprężarek lub dmuchaw wymienionych w pozycji 0B001.c.3, skonstruowane w taki sposób, żeby objętościowe natężenie przepływu gazu buforowego przez nieszczelności wynosiło poniżej 1000 cm3/min;5. Wymienniki ciepła wykonane z aluminium, miedzi, niklu lub jego stopów zawierających ponad 60 % wagowych niklu, albo z kombinacji tych metali, takie jak rury platerowane, przeznaczone do pracy w warunkach podciśnienia przy zachowaniu natężenia przepływu przez nieszczelności na takim poziomie, że ogranicza ono wzrost ciśnienia do mniej niż 10 Pa na godzinę przy różnicy ciśnień rzędu 100 kPa;6. Zawory mieszkowe o średnicy od 40 do 1500 mm wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" albo chronione takimi materiałami;d. Następujące urządzenia i podzespoły specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do aerodynamicznego wzbogacania materiałów:1. Dysze separujące składające się ze szczelinowych, zakrzywionych kanałów o promieniu krzywizny poniżej 1 mm, odporne na korozyjne działanie UF6, zawierające w środku ostre krawędzie rozdzielające gaz płynący w dyszach na dwa strumienie;2. Cylindryczne lub stożkowe rury napędzane stycznym strumieniem wlotowym (rurki wirowe) wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub też zabezpieczone takimi materiałami, mające średnicę od 0,5 cm do 4 cm i stosunek długości do średnicy 20:1 lub mniejszy oraz jeden lub kilka stycznych wlotów;3. Sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objętościowej pojemności ssania 2 m3/min, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" albo zabezpieczone takimi materiałami oraz wirujące uszczelnienia wałów do nich;4. Wymienniki ciepła wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub zabezpieczone takimi materiałami;5. Obudowy aerodynamicznych elementów rozdzielających, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" albo zabezpieczone takimi materiałami, przeznaczone na rurki wirowe lub dysze rozdzielające;6. Zawory mieszkowe wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" albo zabezpieczone takimi materiałami, mające średnicę od 40 do 1500 mm;7. Instalacje przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (wodoru lub helu) do zawartości 1 ppm UF6 lub mniejszej, w tym:a. Kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (– 120 °C) lub mniejszych;b. Zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (– 120 °C) lub niższych;c. Dysze rozdzielające lub zespoły rurek wirowych do oddzielania UF6 od gazu nośnego;d. Wymrażarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (– 20 °C) lub niższych;e. Następujące urządzenia i podzespoły do nich, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany chemicznej:1. Cieczowo-cieczowe kolumny impulsowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia rzędu 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowe lub szkło, albo pokryte takimi materiałami);2. Cieczowo-cieczowe kontaktory odśrodkowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia rzędu 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowe lub szkło, albo pokryte takimi materiałami);3. Elektrochemiczne ogniwa redukcyjne, odporne na działanie roztworów kwasu solnego, do obniżania wartościowości uranu;4. Urządzenia do zasilania elektrochemicznych ogniw redukcyjnych, pobierające U+4 ze strumieni substancji organicznych, wykonane w strefach kontaktu z przetwarzanym strumieniem z odpowiednich materiałów lub chronione takimi materiałami (na przykład szkło, polimery fluorowęglowe, polisiarczan fenylu, polisulfon eteru i grafit nasycany żywicą);5. Urządzenia do sporządzania półproduktów do wytwarzania roztworu chlorku uranu o wysokiej czystości, składające się z zespołów do rozpuszczania, ekstrakcji rozpuszczalnikowej i/lub wymiany jonowej, przeznaczone do oczyszczania, oraz ogniwa elektrolityczne do redukowania uranu U+6 lub U+4 do U+3;6. Urządzenia do utleniania uranu ze stanu U+3 do U+4;f. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany jonów:1. Szybko reagujące żywice jonowymienne, żywice błonkowate lub porowate makrosiatkowe, w których grupy chemiczne biorące aktywny udział w wymianie znajdują się wyłącznie w powłoce na powierzchni nieaktywnej porowatej struktury nośnej, oraz inne materiały kompozytowe w dowolnej stosownej formie, w tym w postaci cząstek lub włókien, ze średnicami rzędu 0,2 mm lub mniejszymi, odporne na stężony kwas solny i wykonane w taki sposób, że ich półczas wymiany wynosi poniżej 10 sekund, oraz zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C);2. Kolumny jonitowe (cylindryczne) o średnicy powyżej 1000 mm, wykonane z materiałów odpornych na stężony kwas solny lub chronione takimi materiałami (np. tytan lub tworzywa fluorowęglowe) i zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C) i przy ciśnieniach powyżej 0,7 MPa;3. Jonitowe urządzenia zwrotne (urządzenia do chemicznego lub elektrochemicznego utleniania lub redukcji) przeznaczone do regeneracji substancji do chemicznej redukcji lub utleniania, stosowanych w jonitowych kaskadach do wzbogacania materiałów;g. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci pary metalu za pomocą "laserów" (AVLIS):1. Dużej mocy działa elektronowe wytwarzające strumień elektronów w reakcji zdzierania albo skaningowe działa elektronowe o mocy wyjściowej powyżej 2,5 kW/cm, przeznaczone do urządzeń do przeprowadzania uranu w stan pary;2. Systemy operowania ciekłym uranem metalicznym dla stopionego uranu lub jego stopów składające się z tygli, wykonanych z materiałów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i ciepło (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materiałami oraz instalacji chłodniczych do tygli;NB.: Sprawdź także pozycję 2A225.3. Urządzenia do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne i korozyjne uranu w postaci pary lub cieczy, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal lub wyłożone takimi materiałami;4. Obudowy modułów urządzeń rozdzielających (zbiorniki cylindryczne lub prostopadłościenne) przeznaczone na źródła par uranu metalicznego, działa elektronowe oraz urządzenia do gromadzenia produktu i frakcji końcowych;5."Lasery" lub systemy "laserów" do rozdzielania izotopów uranu wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy czasu;NB.: Sprawdź także pozycje 6A005 i 6A205.h. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą "laserów" (MLIS) lub reakcji chemicznej wywołanej selektywną laserową aktywacją izotopów (CRISLA):1. Naddźwiękowe dysze rozprężne do chłodzenia mieszanin UF6 z gazem nośnym do temperatur 150 K (– 123 °C) lub niższych, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6";2. Urządzenia do gromadzenia pięciofluorku uranu (UF5), składające się z kolektorów filtracyjnych, udarowych lub cyklonowych lub ich kombinacji, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF5/UF6";3. Sprężarki wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" albo zabezpieczone takimi materiałami oraz uszczelnienia wirujących wałów do nich;4. Urządzenia do fluorowania UF5 (stałego) do UF6 (gazowego);5. Urządzenia przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (np. azotu lub argonu), w tym:a. Kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (– 120 °C) lub mniejszych;b. Zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (– 120 °C) lub niższych;c. Wymrażarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (– 20 °C) lub niższych;6."Lasery" lub systemy "laserów" do rozdzielania izotopów uranu wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy czasu;NB.: Sprawdź także pozycje 6A005 i 6A205.i. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do plazmowego rozdzielania materiałów:1. Źródła mikrofal i anteny do wytwarzania lub przyspieszania jonów, o częstotliwości wyjściowej powyżej 30 GHz i średniej mocy wyjściowej powyżej 50 kW;2. Wysokoczęstotliwościowe cewki do wzbudzania jonów pracujące w zakresie częstotliwości powyżej 100 kHz i zdolne do pracy w warunkach średniej mocy powyżej 40 kW;3. Urządzenia do wytwarzania plazmy uranowej;4. Systemy operowania ciekłym metalem dla stopionego uranu lub jego stopów składające się z tygli, wykonanych z materiałów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i ciepło (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materiałami oraz instalacji chłodniczych do tygli;NB.: Sprawdź także pozycję 2A225.5. Urządzenia do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne i korozyjne par uranu, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal lub zabezpieczone takimi materiałami;6. Obudowy modułów separatorów (cylindryczne) na źródło plazmy uranowej, cewki na prądy wysokiej częstotliwości oraz kolektory do produktu i frakcji końcowych, wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. ze stali nierdzewnej).j. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów metodami elektromagnetycznymi:1. Źródła jonów, pojedyncze lub wielokrotne, składające się ze źródła pary, jonizatora oraz akceleratora wiązki wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu, stali nierdzewnej lub miedzi) i zdolne do wytwarzania wiązki jonów o całkowitym natężeniu 50 mA lub większym;2. Płytkowe kolektory jonów do gromadzenia wzbogaconych lub zubożonych wiązek jonów uranu, składające się z dwóch lub więcej szczelin i kieszeni i wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu lub stali nierdzewnej);3. Obudowy próżniowe do elektromagnetycznych separatorów uranu wykonane z materiałów niemagnetycznych (np. z grafitu lub stali nierdzewnej) i skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniach 0,1 Pa lub niższych;4. Elementy biegunów magnesów o średnicy powyżej 2 m;5. Wysokonapięciowe zasilacze do źródeł jonów, posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne:a. Zdolność do pracy w trybie ciągłym;b. Napięcie wyjściowe 20000 V lub większe;c. Natężenie prądu na wyjściu 1A lub większe; orazd. Regulację napięcia z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin;NB.: Sprawdź także pozycję 3A227.6. Zasilacze magnesów (wysokiej mocy, prądu stałego) mające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:a. Zdolność do pracy w trybie ciągłym z prądem wyjściowym o natężeniu 500 A lub większym i napięciu 100 V lub większym; orazb. Regulacja natężenia lub napięcia prądu z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin.NB.: Sprawdź także pozycję 3A226.0B002Następujące specjalnie zaprojektowane lub wykonane pomocnicze instalacje, urządzenia i podzespoły do instalacji separacji izotopów wymienionych w pozycji 0B001, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub chronione materiałami tego typu:a. Autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF6 do instalacji do wzbogacania;b. Desublimatory lub wymrażarki do odprowadzania UF6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transportu po ogrzaniu;c. Instalacje do produktu lub frakcji końcowych do transportu UF6 do zbiorników;d. Instalacje do skraplania lub zestalania stosowane do usuwania UF6 z procesu wzbogacania drogą sprężania i przetwarzania UF6 w ciecz lub ciało stałe;e. Instalacje rurociągowe i zbiorniki specjalnie przeznaczone do transportu i manipulowania UF6 w procesach rozdzielania izotopów metodą dyfuzji, ultrawirowania lub kaskady aerodynamicznej;f.1. Próżniowe instalacje rur rozgałęźnych lub zbiorników o wydajności ssania wynoszącej 5 m3 na minutę lub więcej; lub2. Pompy próżniowe specjalnie przeznaczone do pracy w atmosferze UF6;g. Spektrometry masowe (źródła jonów), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do bieżącego (on-line) pobierania próbek surowca, produktu lub frakcji końcowych ze strumieni zawierających UF6, posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy:1. Jednostkową rozdzielczość masy atomowej powyżej 320;2. Źródła jonów wykonane lub powlekane nichromem lub monelem albo niklowane;3. Elektronowe źródła jonizacyjne;4. Wyposażenie w kolektory umożliwiające analizę izotopową.0B003Następujące instalacje do przetwarzania uranu i urządzenia specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do nich:a. Instalacje do przetwarzania koncentratów rudy uranowej na UO3;b. Instalacje do przetwarzania UO3 na UF6;c. Instalacje do przetwarzania UO3 na UO2;d. Instalacje do przetwarzania UO2 na UF4;e. Instalacje do przetwarzania UF4 na UF6;f. Instalacje do przetwarzania UF4 na metaliczny uran;g. Instalacje do przetwarzania UF6 na UO2;h. Instalacje do przetwarzania UF6 na UF4;i. Instalacje do przetwarzania UO2 na UCl4.0B004Następujące instalacje do produkcji lub stężania ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urządzenia:a. Następujące instalacje do produkcji ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru:1. Instalacje do produkcji metodą wymiany woda-siarkowodór;2. Instalacje do produkcji metodą wymiany amoniak-wodór;b. Następujące urządzenia i podzespoły:1. Kolumnowe wymienniki typu woda-siarkowodór wykonane z oczyszczonej stali węglowej (np. ASTM A516), mające średnicę od 6 m do 9 m i zdolność do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 2 MPa oraz posiadające naddatek korozyjny o wartości 6 mm lub większy;2. Jednostopniowe, niskociśnieniowe (np. 0,2 MPa), odśrodkowe dmuchawy lub kompresory wymuszające cyrkulację gazowego siarkowodoru (tj. gazu zawierającego więcej niż 70 % H2S), o przepustowości równej lub większej niż 56 m3/sekundę podczas pracy przy ciśnieniach zasysania równych lub większych niż 1,8 MPa, posiadające uszczelnienia umożliwiające pracę w środowisku wilgotnego H2S;3. Kolumnowe wymienniki typu amoniak-wodór o wysokości równej lub większej niż 35 m i średnicy od 1,5 m do 2,5 m, zdolne do pracy przy ciśnieniach większych niż 15 MPa;4. Konstrukcje wewnętrzne kolumn włącznie z kontaktorami stopniowymi i pompami stopniowymi, w tym zanurzeniowymi, do produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór;5. Instalacje do krakowania amoniaku zdolne do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 3 MPa przy produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór;6. Podczerwone analizatory absorpcyjne zdolne do bieżącej (on-line) analizy stosunku wodoru do deuteru w warunkach, w których stężenia deuteru są równe lub większe niż 90 %;7. Palniki katalityczne do konwersji wzbogaconego deuteru w ciężką wodę przy użyciu procesu wymiany amoniak-wodór;8. Kompletne systemy wzbogacania ciężkiej wody lub przeznaczone dla nich kolumny, przeznaczone do zwiększania koncentracji deuteru w ciężkiej wodzie do poziomu reaktorowego;0B005Instalacje specjalnie przeznaczone do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów jądrowych" oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urządzenia.Uwaga: Instalacje do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów jądrowych" obejmujące w urządzenia, które:a.Pozostają w bezpośrednim kontakcie z materiałami jądrowymi albo bezpośrednio je przetwarzają lub sterują procesem ich produkcji;b.Uszczelniają materiały jądrowe wewnątrz ich koszulek;c.Kontrolują szczelność koszulek; lubd.Kontrolują końcową obróbkę paliwa stałego.0B006Instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych "reaktorów jądrowych" oraz specjalnie dla nich przeznaczone lub wykonane urządzenia i podzespoły.Uwaga: Pozycja 0B006 obejmuje:a.Instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych "reaktorów jądrowych", w tym urządzenia i podzespoły, które zazwyczaj wchodzą w bezpośredni kontakt z materiałami jądrowymi, służą do ich bezpośredniego przetwarzania lub sterowania ich przepływem;b.Maszyny do rozdrabniania lub kruszenia elementów paliwowych, tj. zdalnie sterowane urządzenia do cięcia, rozdrabniania lub krojenia napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) zespołów, wiązek lub prętów paliwowych "reaktorów jądrowych";c.Urządzenia do rozpuszczania, zbiorniki podkrytyczne (np. pierścieniowe lub płaskie zbiorniki o małych średnicach), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozpuszczania napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) paliwa do "reaktorów jądrowych", odporne na działanie gorących, silnie żrących płynów oraz przystosowane do zdalnego załadunku i obsługi;d.Ekstraktory przeciwprądowe i urządzenia do separacji metodą wymiany jonów, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do przerobu napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" lub "specjalnych materiałów rozszczepialnych";e.Zbiorniki technologiczne lub magazynowe, specjalnie zaprojektowane w taki sposób, że są podkrytyczne i odporne na żrące działanie kwasu azotowego;Uwaga: Zbiorniki technologiczne lub magazynowe mogą mieć następujące właściwości:1.ścianki lub struktury wewnętrzne z co najmniej dwuprocentowym ekwiwalentem borowym (obliczonym dla wszystkich składowych pierwiastków w sposób zdefiniowany w uwadze do pozycji 0C004);2.maksymalną średnicę rzędu 175 mm w przypadku zbiorników cylindrycznych; lub3.maksymalną szerokość 75 mm w przypadku zbiorników płytowych lub pierścieniowych.f.Instrumenty do sterowania procesem przetwarzania, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do monitorowania lub sterowania przerobem napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" lub "specjalnych materiałów rozszczepialnych".0B007Instalacje do przetwarzania plutonu oraz specjalnie dla nich przeznaczone lub wykonane urządzenia i podzespoły.a. Instalacje do przetwarzania azotanu plutonu na tlen;b. Instalacje do wytwarzania metalicznego plutonu.0CMateriały0C001"Uran naturalny" lub "uran zubożony" lub tor w formie metalu, stopu, związku chemicznego lub koncentratu i dowolnego innego materiału zawierającego jeden lub więcej z powyższych materiałów;Uwaga: Pozycja 0C001 nie obejmuje kontrolą:a.Czterech gramów lub mniej "uranu naturalnego" lub "uranu zubożonego", jeżeli znajduje się w czujnikach instrumentów pomiarowych;b."Uranu zubożonego" specjalnie wyprodukowanego z przeznaczeniem do wyrobu następujących produktów cywilnych spoza dziedziny jądrowej:1.Osłony;2.Wypełnienia;3.Balasty o masie nieprzekraczającej 100 kg;4.Przeciwwagi o masie nieprzekraczającej 100 kg;c.Stopów zawierających mniej niż 5 % toru;d.Produktów ceramicznych zawierających tor, ale wykonanych do zastosowań poza dziedziną jądrową.0C002"Specjalne materiały rozszczepialne"Uwaga: Pozycja 0C002 nie obejmuje kontrolą czterech "gramów efektywnych" lub mniej, w przypadku ich stosowania w czujnikach instrumentów pomiarowych.0C002Deuter, ciężka woda (tlenek deuteru) i inne związki deuteru oraz ich mieszaniny i roztwory, w których stosunek liczby atomów deuteru do atomów wodoru jest większy niż 1:5000.0C004Grafit klasy jądrowej, o stopniu zanieczyszczenia poniżej 5 części na milion "ekwiwalentu boru" oraz gęstości większej niż 1,50 g/cm3.NB.: Sprawdź także pozycję 1C107.Uwaga 1: Pozycja 0C004 nie obejmuje kontrolą:a.Wyrobów grafitowych o masie mniejszej niż 1 kg, różnych od specjalnie zaprojektowanych lub przystosowanych do wykorzystania w reaktorach jądrowych;b.Proszku grafitowego.Uwaga 2: W pozycji 0C004 "ekwiwalent boru" (BE) zdefiniowany jest jako suma BE Z dla domieszek (z pominięciem BE C dla węgla, ponieważ węgiel nie jest uważany za domieszkę) z uwzględnieniem boru, gdzie:BE Z (ppm) = CF × stężenie pierwiastka Z określane w ppm (częściach na milion)gdzie CF jest współczynnikiem przeliczeniowym = (σ Z A B )(σ B A Z )a σ B i σ Z są przekrojami czynnymi na wychwyt neutronów termicznych (w barnach) odpowiednio dla boru pochodzenia naturalnego i pierwiastka Z, a A B i A Z są masami atomowymi odpowiednio boru naturalnego i pierwiastka Z.0C005Specjalnie wzbogacone związki lub proszki do wyrobu przegród do dyfuzji gazowej, odporne na korozyjne działanie UF6, np. nikiel lub stop zawierający 60 % wagowych lub więcej niklu, tlenek aluminium i całkowicie fluorowane polimery węglowodorowe o procentowym stopniu czystości w proporcji wagowej 99,9 lub powyżej i średniej wielkości cząstek poniżej 10 mikrometrów, mierzonej według normy Amerykańskiego Towarzystwa Materiałoznawczego (ASTM) B330 i wysokim stopniu jednorodności wymiarowej cząstek.0DOprogramowanie0D001"Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów wymienionych w tej kategorii.0ETechnologia0E001"Technologie" według Uwagi do technologii jądrowej, do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów wymienionych w tej kategorii.KATEGORIA 1MATERIAŁY, SUBSTANCJE CHEMICZNE, "MIKROORGANIZMY" I "TOKSYNY"1ASystemy, urządzenia i części1A001Następujące elementy wykonane ze związków fluorowych:a. Uszczelnienia, uszczelki, masy uszczelniające lub przepony w układach paliwowych, specjalnie przeznaczone do „statków powietrznych” lub rakiet kosmicznych, w których ponad 50 % zawartości wagowej stanowi jeden z materiałów objętych kontrolą według pozycji 1.C009.b lub 1C009.c;b. Polimery i kopolimery piezoelektryczne wykonane z kopolimerów fluorku winylidenu wymienionych w pozycji 1C009.a:1. w postaci arkuszy albo folii; i2. o grubości większej od 200 mikrometrów;c. Uszczelnienia, uszczelki, gniazda zaworów, przepony albo membrany wykonane z elastomerów fluorowych zawierających co najmniej jeden monomer eteru winylowego, specjalnie opracowane do "statków powietrznych", rakiet kosmicznych lub "pocisków rakietowych".Uwaga: W pozycji 1A001.c "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych.1A002Wyroby albo laminaty "kompozytowe" mające następujące właściwości:NB.: Sprawdź także pozycje 1A202, 9A010 i 9A110.a. Posiadające "matrycę" organiczną i wykonane z materiałów objętych kontrolą według pozycji 1C010.c, 1C010.d lub 1C010.e; albob. Posiadające "matrycę" metalową lub węglową i wykonane z:1. Węglowych "materiałów włóknistych lub włókienkowych" o:a."module właściwym" powyżej 10,15 × 106 m; ib."wytrzymałości właściwej na rozciąganie" powyżej 17,7 × 104 m; lub2. Materiałów wymienionych w pozycji 1C010.c.Uwaga 1: Pozycja 1A002 nie dotyczy wyrobów kompozytowych ani laminatów wykonanych z żywic epoksydowych impregnowanych węglowymi "materiałami włóknistymi lub włókienkowymi", przeznaczonych do naprawy elementów lub laminatów samolotowych, pod warunkiem że ich wielkość nie przekracza 1 m 2 .Uwaga 2: Pozycja 1A002 nie obejmuje kontrolą całkowicie lub częściowo wykończonych produktów, specjalnie przeznaczonych do następujących, wyłącznie cywilnych, zastosowań:a.sprzęt sportowy,b.przemysł samochodowy,c.przemysł obrabiarkowy,d.zastosowania medyczne.1A003Wyroby z substancji polimerowych niefluorowanych, określonych w pozycji 1C008.a.3, w postaci folii, arkuszy, taśm lub wstęg, jednej z poniższych właściwości:a. o grubości powyżej 0,254 mm; lubb. powlekane lub laminowane węglem, grafitem, metalami lub substancjami magnetycznymi.Uwaga: Pozycja 1A003 nie obejmuje kontrolą wyrobów powlekanych lub laminowanych miedzią, przeznaczonych do produkcji elektronicznych płytek drukowanych.1A004Następujące urządzenia, wyposażenie i części ochronne i detekcyjne, różne od objętych kontrolą na podstawie Wykazu uzbrojenia:NB.: Sprawdź także pozycje 2B351 i 2B352.a. maski przeciwgazowe, pochłaniacze i wyposażenie dekontaminacyjne do nich, przeznaczone lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materiałami promieniotwórczymi "przystosowanymi do użycia w działaniach wojennych" lub przed chemicznymi środkami bojowymi, a także części specjalnie do nich zaprojektowane;b. ubrania, rękawice i obuwie ochronne specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materiałami promieniotwórczymi "przystosowanymi do użycia w działaniach wojennych" lub przed chemicznymi środkami bojowymi;c. jądrowe, biologiczne i chemiczne systemy detekcji specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla wykrywania lub identyfikacji czynników biologicznych i materiałów promieniotwórczych "przystosowanych do użycia w działaniach wojennych" oraz chemicznych środków bojowych, i specjalnie zaprojektowane do nich części.Uwaga: Pozycja 1A004 nie obejmuje kontrolą:a.Osobistych monitorujących dozymetrów promieniowania jądrowego;b.Urządzeń i wyposażenia, ograniczonych projektowo lub funkcjonalnie do spełniania ochrony przed typowymi cywilnymi zagrożeniami przemysłowymi, np. w górnictwie, przemyśle wydobywczym, rolnictwie, przemyśle farmaceutycznym, medycynie, weterynarii, ochronie środowiska, zagospodarowaniu odpadów lub w przemyśle spożywczym.1A005Kamizelki i okrycia kuloodporne oraz specjalnie zaprojektowane do nich części, różne od wykonanych według norm lub technicznych wymagań wojskowych oraz od ich odpowiedników o porównywalnych parametrach.NB.: Sprawdź także Wykaz uzbrojenia.NB.: W odniesieniu do "materiałów włóknistych lub włókienkowych", stosowanych do produkcji kamizelek kuloodpornych, patrz 1C010.Uwaga 1: Pozycja 1A005 nie obejmuje kontrolą indywidualnych okryć kuloodpornych ani akcesoriów do nich, kiedy służą one ich użytkownikowi do osobistej ochrony.Uwaga 2: Pozycja 1A005 nie obejmuje kontrolą kamizelek kuloodpornych zaprojektowanych do ochrony czołowej wyłącznie zarówno przed odłamkami, jak i wybuchami ładunków i urządzeń niewojskowych.1A102Elementy z przesycanego pirolizowanego materiału typu węgiel-węgiel przeznaczone do pojazdów kosmicznych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.1A202Elementy kompozytowe, różne od wymienionych w pozycji 1A002, w postaci rur i mające obie z następujących cech:NB.: Sprawdź także pozycje 9A010 i 9A110.a. Średnicę wewnętrzną od 75 mm do 400 mm; ib. Są wykonane z jednego z "materiałów włóknistych lub włókienkowych" wymienionych w pozycji 1C010.a, 1C010.b albo 1C210.a lub z materiałów węglowych wyspecyfikowanych w pozycji 1C210.c.1A225Katalizatory platynowe specjalnie opracowane lub przygotowane do wspomagania reakcji wymiany izotopów wodoru pomiędzy wodorem a wodą w celu separacji trytu z ciężkiej wody albo w celu produkcji ciężkiej wody.1A226Wyspecjalizowane wkłady do oddzielania ciężkiej wody od wody zwykłej, mające obydwie z następujących cech:a. Są wykonane z siatek z brązu fosforowego obrabianych chemicznie dla zwiększenia nasiąkliwości; ib. Są przeznaczone do stosowania w próżniowych wieżach destylacyjnych.1A227Przeciwradiacyjne okna ochronne o wysokiej gęstości (ze szkła ołowiowego lub podobnych materiałów), mające wszystkie z następujących cech, oraz specjalnie do nich skonstruowane ramy:a. Powierzchnię w obszarze nieradioaktywnym powyżej 0,09 m2;b. Gęstość powyżej 3 g/cm3; ic. Grubość 100 mm lub większą.Uwaga techniczna;Na użytek poz. 1A227, termin "obszar nieradioaktywny" oznacza pole widzenia okna wystawionego na promieniowanie o poziomie najniższym w danym zastosowaniu.1BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne1B001Następujące urządzenia do produkcji włókien, materiałów do prasowania laminatów zbrojonych, preform lub "kompozytów" wymienionych w pozycji 1A002 lub 1C010 oraz specjalnie do nich skonstruowane elementy i akcesoria:NB.: Sprawdź także pozycje 1B101 i 1B201.a. Maszyny nawojowe do włókien, z koordynowanymi i programowanymi w trzech lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem, owijaniem i nawijaniem włókien, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do produkcji wyrobów "kompozytowych" lub laminatów z "materiałów włóknistych lub włókienkowych";b. Maszyny do układania taśm albo mat z włókien, z koordynowanymi i programowanymi w dwóch lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem w odpowiednim położeniu i układaniem taśm, mat lub płyt, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do "kompozytowych" elementów konstrukcyjnych płatowca samolotu lub "pocisku rakietowego";Uwaga: W pozycji 1B001.b "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych.c. Wielokierunkowe, wielowymiarowe maszyny tkackie albo maszyny do przeplatania, włącznie z zestawami adaptacyjnymi i modyfikacyjnymi, przeznaczone do tkania, przeplatania lub oplatania włókien w celu wytworzenia elementów "kompozytowych";Uwaga techniczna;Na użytek pozycji 1B001.c technika przeplatania obejmuje również dzianie.Uwaga: Pozycja 1B001.c nie obejmuje kontrolą maszyn tekstylnych niezmodyfikowanych do wspomnianych powyżej zastosowań końcowych.d. Następujące urządzenia specjalnie skonstruowane albo przystosowane do produkcji włókien wzmocnionych:1. Urządzenia do przetwarzania włókien polimerowych (takich jak poliakrylonitryl, włókno z celulozy regenerowanej, pak albo polikarbosilan) we włókna węglowe lub włókna węglika krzemu, włącznie ze specjalnymi urządzeniami do naprężania włókien podczas ogrzewania;2. Urządzenia do chemicznego osadzania par pierwiastków lub związków chemicznych na ogrzanych podłożach włóknistych w celu wyprodukowania włókien z węglika krzemu;3. Urządzenia do mokrego przędzenia ogniotrwałych materiałów ceramicznych (takich jak tlenek aluminiowy);4. Urządzenia do przetwarzania za pomocą obróbki cieplnej włókien macierzystych zawierających aluminium we włókna aluminiowe;e. Urządzenia do produkcji materiałów do prasowania laminatów zbrojonych, wymienionych w pozycji 1C010.e, metodą topienia termicznego (hot melt);f. Urządzenia do badań nieniszczących, umożliwiające kontrolę wad w trzech wymiarach, metodą tomografii ultradźwiękowej albo rentgenowskiej i specjalnie skonstruowane do materiałów "kompozytowych".1B002Urządzenia specjalnie zaprojektowane w celu zabezpieczenia przed zanieczyszczeniem i skonstruowane specjalnie z przeznaczeniem do produkcji stopów metali, proszków ze stopów metali lub materiałów stopowych wg jednego z procesów wymienionych w pozycji 1C002.c.2.NB.: Sprawdź także pozycję 1B102.1B003Narzędzia, matryce, formy lub osprzęt o specjalnej konstrukcji, do przetwarzania tytanu albo aluminium lub ich stopów w "stanie nadplastycznym" albo metodą "zgrzewania dyfuzyjnego" z przeznaczeniem do produkcji:a. Konstrukcji lotniczych i kosmicznych;b. Silników do "statków powietrznych" i i rakiet kosmicznych; lubc. Specjalnie skonstruowanych zespołów do wspomnianych powyżej konstrukcji lub silników.1B101Następujące urządzenia, różne od wymienionych w pozycji 1B001, do "produkcji" kompozytów konstrukcyjnych oraz specjalnie do nich skonstruowane elementy i akcesoria:NB.: Sprawdź także pozycję 1B201.Uwaga: Do wymienionych w 1B101 elementów i akcesoriów należą formy, trzpienie, matryce, uchwyty i oprzyrządowanie do wstępnego prasowania, utrwalania, odlewania, spiekania lub spajania elementów kompozytowych, laminatów i wytworzonych z nich wyrobów.a. Maszyny nawojowe do włókien, z koordynowanymi i programowanymi w trzech lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem, owijaniem i nawijaniem włókien, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do produkcji wyrobów kompozytowych lub laminatów z materiałów włóknistych lub włókienkowych;b. Maszyny do układania taśm z koordynowanymi i programowanymi w dwóch lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem w odpowiednim położeniu i układaniem taśm, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do "kompozytowych" elementów konstrukcyjnych płatowca samolotu lub 'pocisku rakietowego';c. Następujące urządzenia specjalnie skonstruowane albo przystosowane do "produkcji""materiałów włóknistych lub włókienkowych":1. Urządzenia do przetwarzania włókien polimerowych (takich jak poliakrylonitryl, włókno z celulozy regenerowanej albo polikarbosilan) włącznie ze specjalnymi urządzeniami do naprężania włókien podczas ogrzewania;2. Urządzenia do chemicznego osadzania par pierwiastków lub związków chemicznych na ogrzanych podłożach włóknistych; oraz3. Urządzenia do mokrego przędzenia ogniotrwałych materiałów ceramicznych (takich jak tlenek aluminiowy);d. Urządzenia skonstruowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do specjalnej obróbki powierzchniowej włókien albo do wytwarzania materiałów do prasowania laminatów zbrojonych i preform wymienionych w pozycji 9C110.Uwaga: Do urządzeń ujętych w 1B101.d zalicza się rolki, naprężacze, zespoły powlekające, urządzenia do cięcia i formy zatrzaskowe.1B102"Urządzenia produkcyjne" do wytwarzania proszków metali, różne od wymienionych w poz. 1B002 i specjalnie zaprojektowane elementy do nich:NB.: Sprawdź także pozycję 1B115.b.a. nadające się do "produkcji", w kontrolowanej atmosferze, sferycznych lub pylistych materiałów wymienionych w pozycjach: 1C011.a, 1C011.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 lub w Wykazie uzbrojenia;b. specjalnie zaprojektowane elementy do "urządzeń produkcyjnych" wyszczególnionych w pozycjach 1B002 lub 1B102.a.Uwaga: Pozycja 1B102 obejmuje:a.Generatory plazmowe (na zasadzie łuku elektrycznego wysokiej częstotliwości) nadające się do otrzymywania pylistych lub sferycznych proszków metali, z organizacją procesu w środowisku argon-woda;b.Urządzenia elektroimpulsowe nadające się do otrzymywania pylistych lub sferycznych proszków metali, z organizacją procesu w środowisku argon-woda;c.Urządzenia nadające się do "produkcji" sferycznych proszków aluminiowych przez rozpylanie roztopionego metalu w atmosferze obojętnej (np. azocie).1B115Urządzenia, różne od wymienionych w 1B002 lub 1B102, do produkcji paliw i składników paliw oraz specjalnie do nich skonstruowane podzespoły:a."Urządzenia produkcyjne" do "produkcji", manipulowania i testowania odbiorczego paliw płynnych i składników paliw wymienionych w pozycji 1C011.a, 1C011.b i 1C111 lub w Wykazie uzbrojenia;b."Urządzenia produkcyjne" do "produkcji", manipulowania, mieszania, utrwalania, odlewania, prasowania, obrabiania, wytłaczania lub testowania odbiorczego paliw stałych i składników paliw wymienionych w pozycji 1C011.a, 1C011.b i 1C111 lub w Wykazie uzbrojenia.Uwaga: Pozycja 1B115.b nie obejmuje mieszarek okresowych, mieszarek ciągłych lub młynów wykorzystujących energię płynów. W sprawie kontroli mieszarek okresowych, mieszarek ciągłych lub młynów wykorzystujących energię płynów sprawdź pozycje 1B117, 1B118 i 1B119.Uwaga 1: Urządzenia specjalnie skonstruowane do produkcji wyrobów militarnych wymagają każdorazowo sprawdzenia Wykazu uzbrojenia.Uwaga 2: Pozycja 1B115 nie obejmuje kontrolą urządzeń do "produkcji", manipulowania i testowania odbiorczego węgliku boru.1B116Dysze o specjalnej konstrukcji, przeznaczone do wytwarzania materiałów pochodzenia pirolitycznego, formowanych w matrycy, na trzpieniu albo innym podłożu, z gazów macierzystych rozkładających się w zakresie temperatur od 1573 K (1300 °C) do 3173 K (2900 °C) przy ciśnieniach w zakresie od 130 Pa do 20 kPa.1B117Mieszarki okresowe umożliwiające mieszanie próżniowe w zakresie od zera do 13,326 kPa, w których można regulować temperaturę w komorze mieszania, mające wszystkie z następujących cech, i specjalnie zaprojektowane do nich elementy:a. całkowitą wydajność objętościową 110 litrów lub większą; ib. co najmniej jeden wał mieszający/ugniatający osadzony mimośrodowo.1B118Mieszarki ciągłe umożliwiające mieszanie próżniowe w zakresie od zera do 13,326 kPa, w których można regulować temperaturę w komorze mieszania, mające wszystkie z następujących cech, i specjalnie zaprojektowane do nich elementy:a. dwa lub więcej wałów mieszających/ugniatających; ib. jeden oscylujący wał obrotowy z zębami/kołkami ugniatającymi na nim, jak również wewnątrz obudowy komory mieszalniczej.1B119Młyny wykorzystujące energię płynów, nadające się do rozdrabniania i mielenia substancji wymienionych w pozycjach 1C011.a, 1C011.b i 1C111 lub w Wykazie uzbrojenia, i specjalnie zaprojektowane do nich elementy.1B201Maszyny do nawijania włókien i związane z nimi wyposażenie, różne od wymienionych w pozycji 1B001 lub 1B101, jak następuje:a. Maszyny do nawijania włókien mające wszystkie z następujących cech:1. koordynację i programowanie ruchów związanych z ustawianiem, owijaniem i nawijaniem włókien, w dwóch lub więcej osiach;2. są specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do produkcji wyrobów kompozytowych lub laminatów z "materiałów włóknistych lub włókienkowych"; i3. zdolne do nawijania cylindrycznych wirników o średnicy od 75 mm do 400 mm i długości 600 mm lub większej;b. Sterowniki koordynujące i programujące do maszyn do nawijania włókien wymienionych w 1B201.a;c. Trzpienie precyzyjne do maszyn do nawijania włókien wymienionych w 1B201.a.1B225Ogniwa elektrolityczne do produkcji fluoru o wydajności większej niż 250 gramów fluoru na godzinę.1B226Elektromagnetyczne separatory izotopów, skonstruowane z przeznaczeniem do współpracy z jednym lub wieloma źródłami jonów zdolnymi do uzyskania wiązki jonów o całkowitym natężeniu rzędu 50 mA lub więcej, albo wyposażone w takie źródło lub źródła.Uwaga: Pozycja 1B226 obejmuje następujące separatory:a.zdolne do wzbogacania izotopów trwałych;b.ze źródłami i kolektorami jonów zarówno w polu magnetycznym, jak i w takich instalacjach, w których zespoły te znajdują się na zewnątrz pola.1B227Konwertery do syntezy amoniaku lub urządzenia do syntezy amoniaku, w których gaz do syntezy (azot lub wodór) jest odprowadzany z wysokociśnieniowej kolumny wymiennej amoniakowo-wodorowej, a zsyntetyzowany amoniak wraca do wspomnianej kolumny.1B228Kolumny do kriogenicznej destylacji wodoru posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy:a. skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy temperaturach wewnętrznych 35 K (– 238 °C) lub mniejszych;b. skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniach wewnętrznych od 0,5 do 5 MPa (od 5 do 50 atmosfer);c. skonstruowane zarówno:1. z drobnoziarnistych stali nierdzewnych klasy 300 o niskiej zawartości siarki i o wielkości ziarna austenitu 5 lub większym według norm ASTM (lub równoważnych); lub2. z materiałów równoważnych nadających się zarówno do działań w warunkach kriogenicznych, jak i w atmosferze H2-; orazd. o średnicach wewnętrznych 1 m lub większych i długościach efektywnych 5 m lub większych.1B229Kolumny półkowe do wymiany typu woda-siarkowodór oraz 'kontaktory wewnętrzne' do nich, jak następuje;NB.: W przypadku kolumn specjalnie skonstruowanych lub spreparowanych do produkcji ciężkiej wody patrz 0B004.a. Kolumny półkowe do wymiany typu woda-siarkowodór, mające wszystkie z następujących cech:1. przeznaczenie do pracy przy ciśnieniu nominalnym 2 MPa lub wyższym;2. są wykonane z drobnoziarnistej stali węglowej o wielkości ziarna 5 lub większym według norm ASTM (lub równoważnych); i3. mają średnicę 1,8 m lub większą;b.'Kontaktory wewnętrzne' dla kolumn półkowych do wymiany typu woda-siarkowodór zdefiniowanych w poz. 1B229.a.Uwaga techniczna:'Kontaktory wewnętrzne' w kolumnach są segmentowymi półkami o zespołowej średnicy roboczej 1,8 m lub większej, skonstruowanymi w sposób ułatwiający kontakt czynników w przepływie przeciwprądowym, wykonanymi ze stali nierdzewnej o zawartości węgla 0,03 % lub mniejszej. Mogą one mieć postać półek sitowych, półek zaworowych, półek dzwonowych lub rusztowych.1B230Pompy do przetłaczania roztworów katalizatora z amidku potasu rozcieńczonego lub stężonego w ciekłym amoniaku (KNH2/NH3), posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy:a. szczelność dla powietrza (tj. hermetycznie zamknięte);b. wydajność powyżej 8,5 m3/god; orazc. nadające się do:1. stężonych roztworów amidku potasu (1 % lub powyżej) – ciśnienie robocze 1,5–60 MPa (15–600 atmosfer); lub2. do rozcieńczonych roztworów amidku potasu (poniżej 1 %) – ciśnienie robocze 20–60 MPa (200–600 atmosfer).1B231Następujące urządzenia i instalacje do obróbki trytu lub ich podzespoły:a. Urządzenia lub instalacje do produkcji, odzyskiwania, ekstrakcji, stężania lub manipulowania trytem;b. Następujące urządzenia instalacji lub fabryk trytu:1. urządzenia do chłodzenia wodoru lub helu zdolne do chłodzenia do temperatury 23 K (– 250 °C) lub poniżej, o wydajności odprowadzania ciepła powyżej 150 watów; lub2. instalacje do magazynowania i oczyszczania izotopów wodoru za pomocą wodorków metali jako środków do magazynowania lub oczyszczania.1B232Turborozprężarki lub zestawy turborozprężarka-sprężarka mające obie z wymienionych niżej cech:a. przeznaczone do działania przy temperaturze wylotowej poniżej 35 K (– 238 °C) lub niższej; ib. posiadające przepustowość wodoru większą lub równą 1000 kg/godz.1B233Następujące urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu lub ich podzespoły:a. Urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu;b. Następujące podzespoły do separacji izotopów litu:1. Kolumny z wypełnieniem do wymiany cieczowo-cieczowej specjalnie przeznaczone do amalgamatów litu;2. Pompy do pompowania rtęci oraz (lub) amalgamatu litu;3. Cele do elektrolizy amalgamatu litu;4. Aparaty wyparne do zagęszczonych roztworów wodorotlenku litu.1CMateriałyUwaga techniczna:Metale i stopy:Jeżeli nie stwierdzono inaczej, terminy 'metale' i 'stopy' używane w pozycjach od 1C001 do 1C012 dotyczą następujących wyrobów surowych i półfabrykatów:Wyroby surowe:Anody, kule, pręty (łącznie z prętami karbowanymi i ciągnionymi), kęsy, bloki, bochny, brykiety, placki, katody, kryształy, kostki, struktury, ziarna, sztaby, bryły, pastylki, surówki, proszki, podkładki, śruty, płyty, owale osadnicze, gąbki i drążki;Półfabrykaty (zarówno powlekane, pokrywane galwanicznie, wiercone i wykrawane, jak i niepoddane żadnej z tych obróbek):a.Przerobione plastycznie lub obrobione materiały wyprodukowane poprzez walcowanie, wyciąganie, wytłaczanie, prasowanie, granulowanie, rozpylanie, mielenie, tj.: kątowniki, ceowniki, koła, tarcze, pyły, płatki, folie, odkuwki, płyty, proszki, wytłoczki, wypraski, wstęgi, pierścienie, pręty (w tym pręty spawalnicze, walcówki i druty walcowane), kształtowniki, arkusze, taśmy, rury, rurki (w tym rury bezszwowe, rury o przekroju kwadratowym i tuleje rurowe), druty ciągnione i tłoczone;b.Materiały odlewnicze produkowane przez odlewanie w piasku, kokile, formy metalowe, gipsowe i inne, w tym odlewanie pod ciśnieniem, formy spiekane i formy wykonywane w metalurgii proszkowej.Przedmioty nie powinny być zwalniane z kontroli poprzez eksport form niewymienionych, uważanych za produkty finalne, ale będące w rzeczywistości formami surowymi lub półfabrykatami.1C001Następujące materiały specjalnie opracowane z przeznaczeniem na pochłaniacze fal elektromagnetycznych albo polimery przewodzące samoistnie:NB.: Sprawdź także pozycję 1C101.a. Materiały pochłaniające fale o częstotliwościach powyżej 2 × 108 Hz, ale poniżej 3 × 1012 Hz;Uwaga 1: Pozycja 1C001.a nie obejmuje kontrolą:a.Pochłaniaczy typu włosowego, wykonanych z włókien naturalnych albo syntetycznych, w których pochłanianie osiąga się innym sposobem niż magnetyczny;b.Pochłaniaczy niewykazujących strat magnetycznych oraz takich, których powierzchnia, na którą pada promieniowanie, nie jest planarna, w tym ostrosłupów, stożków, klinów i powierzchni zwichrowanych;c.Pochłaniaczy planarnych posiadających wszystkie poniższe cechy:1.Wykonane z jednego z poniższych materiałów:a.ze spienionych tworzyw sztucznych (elastycznych albo nieelastycznych) wzmacnianych węglem albo z materiałów organicznych, włącznie z materiałami wiążącymi, dających więcej niż 5 % echa w porównaniu z metalami, w paśmie o szerokości wyższej o ± 15 % od częstotliwości centralnej padającej fali, i nieodpornych na temperatury przekraczające 450 K (177 °C); lubb.z materiałów ceramicznych dających ponad 20 % echa więcej w porównaniu z metalami, w paśmie o szerokości wyższej o ± 15 % od częstotliwości centralnej padającej fali, i nieodpornych na temperatury przekraczające 800 K (527 °C).Uwaga techniczna:Próbki do badania stopnia pochłaniania materiałów wymienionych w uwadze 1.c.1. do pozycji 1C001.a powinny być kwadratami o boku równym co najmniej 5 długościom fali o częstotliwości centralnej i umieszczone w polu dalekim elementu promieniującego fale elektromagnetyczne.2.Wytrzymałość na rozciąganie poniżej 7 × 10 6 N/m 2 ; oraz3. Wytrzymałość na ściskanie poniżej 14 × 106 N/m2;d.Pochłaniaczy planarnych wykonanych ze spieku ferrytowego, charakteryzującego się:1.Ciężarem właściwym powyżej 4,4; oraz2.Maksymalną temperaturą roboczą 548 K (275 °C);Uwaga 2: Żadne sformułowanie w pozycji 1C001.a nie zwalnia z kontroli materiałów magnetycznych używanych jako pochłaniacze fal w farbach.b. Materiały pochłaniające fale o częstotliwościach w zakresie od 1,5 × 1014 Hz do 3,7 × 1014 Hz i nieprzezroczyste dla promieniowania widzialnego;c. Materiały polimerowe przewodzące samoistnie, o objętościowej przewodności elektrycznej powyżej 10000 S/m (simensów na metr) albo oporności powierzchniowej poniżej 100 omów/m2, których podstawowym składnikiem jest jeden z następujących polimerów:1. Polianilina;2. Polipirol;3. Politiofen;4. Polifenylenowinylen; lub5. Politienylenowinylen.Uwaga techniczna:'Objętościową przewodność elektryczną' oraz 'oporność powierzchniową' należy określać zgodnie z normą ASTM D-257 albo jej odpowiednikami.1C002Następujące stopy metali, proszki stopów metali albo materiały stopowe:NB.: Sprawdź także pozycję 1C202.Uwaga: Pozycja 1C002 nie obejmuje kontrolą stopów metali, proszków stopów metali ani materiałów stopowych do podłoży powlekanych.Uwagi techniczne:1.Do stopów metalu według pozycji 1C002 zalicza się takie, które zawierają wyższy procent wagowy danego metalu niż dowolnego innego pierwiastka.2.Trwałość w próbie pełzania do zerwania powinna być określana według normy ASTM E-139 lub jej krajowych odpowiedników.3.Trwałość w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych należy określać według normy ASTM E-606 "Zalecana metoda niskocyklowego badania zmęczeniowego przy stałej amplitudzie" albo jej krajowych odpowiedników. Badania należy prowadzić przy obciążeniu skierowanym osiowo, przy średniej wartości współczynnika asymetrii cyklu 1 oraz wartości współczynnika spiętrzenia naprężeń (K t ) równej 1. Naprężenie średnie definiuje się jako różnicę naprężenia maksymalnego i minimalnego podzieloną przez naprężenie maksymalne.a. Następujące glinki:1. Glinki niklu zawierające wagowo minimum 15, maksimum 38 procent aluminium i przynajmniej jeden dodatek stopowy;2. Glinki tytanu zawierające wagowo 10 procent lub więcej aluminium i przynajmniej jeden dodatek stopowy;b. Następujące stopy metali wykonane z materiałów wymienionych w pozycji 1C002.c:1. Stopy niklu o:a. Trwałości w próbie pełzania do zerwania wynoszącej 10000 lub więcej godzin, w temperaturze 923 K (650 °C) przy naprężeniach 676 MPa; lubb. Trwałości w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych wynoszącej 10000 lub więcej cykli w temperaturze 823 K (550 °C) przy maksymalnym naprężeniu 1095 MPa;2. Stopy niobu o:a. Trwałości w próbie pełzania do zerwania wynoszącej 10000 lub więcej godzin, w temperaturze 1073 K (800 °C) przy naprężeniach 400 MPa; lubb. Trwałości w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych wynoszącej 10000 lub więcej cykli w temperaturze 973 K (700 °C) przy maksymalnym naprężeniu 700 MPa;3. Stopy tytanu o:a. Trwałości w próbie pełzania do zerwania wynoszącej 10000 lub więcej godzin, w temperaturze 723 K (450 °C) przy naprężeniu 200 MPa; lubb. Trwałości w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych wynoszącej 10000 lub więcej w temperaturze 723 K (450 °C) przy maksymalnym naprężeniu 400 MPa;4. Stopy aluminium o wytrzymałości na rozciąganie:a. 240 MPa lub większej w temperaturze 473 K (200 °C); lubb. 415 MPa lub większej w temperaturze 298 K (25 °C);5. Stopy magnezu o:a. wytrzymałości na rozciąganie 345 MPa lub większej; orazb. szybkości korozji w 3 % wodnym roztworze chlorku sodowego, mierzonej według normy ASTM G-31 albo jej krajowych odpowiedników, wynoszącej poniżej 1 mm/rok;c. Proszki stopu metalu albo materiału jednorodnego mające wszystkie następujące cechy:1. Wykonanie z dowolnego z podanych poniżej komponentów:Uwaga techniczna:W podanych poniżej związkach X oznacza jeden lub więcej składników stopu.a. Stopów niklu (Ni-Al-X, Ni-X-Al) przeznaczonych do wyrobu części albo zespołów silników turbinowych, tj. zawierających mniej niż 3 cząsteczki niemetalowe (wprowadzone podczas procesu produkcji) o wielkości przekraczającej 100 mikrometrów, na 109 cząsteczek stopu;b. Stopów niobu (Nb-Al-X lub Nb-X-Al, Nb-Si-X lub Nb-X-Si, Nb-Ti-X lub Nb-X-Ti);c. Stopów tytanu (Ti-Al-X lub Ti-X-Al);d. Stopów aluminium (Al-Mg-X lub Al-X-Mg, Al-Zn-X lub Al-X-Zn, Al-Fe-X lub Al-X-Fe); lube. Stopów magnezu (Mg-Al-X lub Mg-X-Al);2. Wyprodukowane w atmosferze o regulowanych parametrach jedną z następujących metod:a."Rozpylania próżniowego";b."Rozpylania gazowego";c."Rozpylania rotacyjnego";d."Chłodzenia ultraszybkiego";e."Przędzenia ze stopu" i "proszkowania";f."Ekstrakcji ze stopu" i "proszkowania"; lubg."Stapiania mechanicznego"; oraz3. Nadające się do formowania materiałów wymienionych w poz. 1C002.a. lub 1C002.b.d. Materiały stopowe mające wszystkie następujące cechy:1. Wykonane z dowolnego z wymienionych w pozycji 1C002.c.1 komponentów;2. W postaci niesproszkowanych płatków, wstążek lub cienkich pręcików; oraz3. Produkowanych w atmosferze o regulowanych parametrach dowolną z następujących metod:a."ultraszybkiego chłodzenia";b."przędzenia ze stopu"; lubc."ekstrakcji ze stopu".1C003Metale magnetyczne, bez względu na typ i postać, posiadające jedną z następujących cech charakterystycznych:a. Początkową względną przenikalność magnetyczną 120000 lub wyższą i grubość 0,05 mm, albo mniejszą;Uwaga techniczna:Początkową względną przenikalność magnetyczną należy mierzyć na materiałach całkowicie wyżarzonych.b. Stopy magnetostrykcyjne mające jedną z poniższych cech:1. Magnetostrykcja nasycenia powyżej 5 × 10–4; lub2. Współczynnik sprzężenia żyromagnetycznego (k) powyżej 0,8; lubc. Taśmy ze stopów amorficznych lub nanokrystalicznych mające wszystkie z poniższych cech:1. Skład minimum 75 % wagowych żelaza, kobaltu lub niklu; i2. Indukcję magnetyczną nasycenia (BS) 1,6 T lub wyższą; oraz3. Jeden z poniższych parametrów:a. Grubość taśmy 0,02 mm lub mniejszą; lubb. Oporność właściwą 2 × 10–4 ohm cm lub większą.Uwaga techniczna:Pod pojęciem 'stopy nanokrystaliczne' w pozycji 1C003.c rozumie się materiały o rozmiarze ziarna krystalicznego wynoszącym 50 nm lub mniej, zmierzonym metodą dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego.1C004Stopy uranowo-tytanowe lub stopy wolframu na "matrycy" z żelaza, niklu lub miedzi, posiadające wszystkie wymienione poniżej właściwości:a. Gęstość powyżej 17,5 g/cm3;b. Granicę sprężystości powyżej 880 MPa;c. Wytrzymałość na rozciąganie powyżej 1270 MPa; orazd. Wydłużenie powyżej 8 %.1C005Następujące "nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe" o długości powyżej 100 m lub masie powyżej 100 g:a. Wielowłókienkowe "nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe", w których skład wchodzi jedno albo więcej włókien niobowo-tytanowych:1. Osadzonych w "matrycy" różnej od miedzianej lub "matrycy" mieszanej na osnowie miedzi; lub2. Mające pole przekroju poprzecznego poniżej 0,28 × 10–4 mm2 (o średnicy 6 mikrometrów w przypadku włókien o przekroju kołowym);b."Nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe", w których skład wchodzi jedno albo więcej włókien "nadprzewodzących" różnych od niobowo-tytanowych, mające wszystkie z poniższych właściwości:1."Temperaturę krytyczną" przy zerowej indukcji magnetycznej powyżej 9,85 K (– 263,31 °C) ale poniżej 24 K (– 249,16 °C);2. Pole przekroju poprzecznego poniżej 0,28 × 10–4 mm2; oraz3. Pozostawanie w stanie "nadprzewodzącym" w temperaturze 4,2 K (– 268,96 °C) pod działaniem pola magnetycznego równoważnego indukcji magnetycznej 12 T.1C006Następujące ciecze i materiały smarne:a. Ciecze hydrauliczne zawierające jako składniki podstawowe dowolny z następujących związków chemicznych albo materiałów:1. Syntetyczne oleje węglowodorowe lub krzemowęglowodorowe mające wszystkie z poniższych właściwości:Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 1C006.a.1 zakłada się, że oleje krzemowęglowodorowe zawierają wyłącznie krzem, wodór i węgiel.a. Temperatura zapłonu powyżej 477 K (204 °C);b. Temperatura krzepnięcia 239 K (– 34 °C) lub niższa;c. Wskaźnik lepkości 75 lub więcej; orazd. Stabilność termiczna w temperaturze 616 K (343 °C); lub2. Chlorofluoropochodne węglowodorów mające wszystkie z poniższych właściwości:Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 1C006.a.2 zakłada się, że chlorofluoropochodne węglowodorów zawierają wyłącznie węgiel, fluor i chlor.a. Brak temperatury zapłonu;b. Temperatura samozapłonu powyżej 977 K (704 °C);c. Temperatura krzepnięcia 219 K (– 54 °C) lub niższa;d. Wskaźnik lepkości 80 lub więcej; oraze. Temperatura wrzenia 473 K (200 °C) lub wyższa;b. Materiały smarne zawierające jako składniki podstawowe dowolny z następujących związków chemicznych albo materiałów:1. Etery albo tioetery fenylenowe lub alkilofenylenowe, albo ich mieszaniny, zawierające powyżej dwóch grup funkcyjnych eteru lub tioeteru, lub ich mieszaninę; lub2. Fluorowe oleje silikonowe o lepkości kinematycznej poniżej 5000 mm2/s (5000 centystokesów) mierzonej w temperaturze 298 K (25 °C);c. Ciecze zwilżające lub flotacyjne o czystości powyżej 99,8 %, zawierające mniej niż 25 cząstek o średnicy 200 mikrometrów lub większej w 100 ml i wykonane co najmniej w 85 % z dowolnego z następujących związków chemicznych lub materiałów:1. Dibromotetrafluoroetanu;2. Polichlorotrifluoroetylenu (tylko modyfikowanego olejem albo woskiem); lub3. Polibromotrifluoroetylenu;d. Fluorowęglowe elektroniczne płyny chłodzące posiadające wszystkie z poniższych cech:1. Zawartość wagową 85 % lub więcej następujących związków lub ich mieszanin:a. Monomeryczne postaci perfluoropolialkiloeterotriazyn lub perfluoropolialkiloeterów;b. Perfluoroalkiloaminy;c. Perfluorocykloalkany; lubd. Perfluoroalkany;2. Gęstość przy 298 K (25 °C) wynoszącą 1,5 g/cm3 lub więcej;3. Stan ciekły w temperaturze 273 K (0 °C); oraz4. Zawartość fluoru 60 % wagowych lub więcej.Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 1C006:a.Temperaturę zapłonu określa się metodą Cleveland Open Cup Method (Otwartego Kubka) opisaną w normie ASTM D-92 lub jej krajowych odpowiednikach.b.Temperaturę krzepnięcia określa się metodą opisaną w normie ASTM D-97 albo jej krajowych odpowiednikach.c.Wskaźnik lepkości określa się metodą opisaną w normie ASTM D-2270 albo jej krajowych odpowiednikach.d.Stabilność termiczną określa się według przedstawionej poniżej procedury albo jej krajowych odpowiedników:Umieścić dwadzieścia ml badanej cieczy w komorze ze stali nierdzewnej typu 317 o pojemności 46 ml, w której znajdują się trzy kulki o średnicy (nominalnej) 12,5 mm, jedna ze stali narzędziowej M-10, druga ze stali 52100 i trzecia z mosiądzu morskiego dwufazowego (60 % Cu, 39 % Zn, 0,75 % Sn).Następnie napełnić komorę azotem, zamknąć pod ciśnieniem atmosferycznym, podnieść temperaturę do 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) i utrzymać ją na tym poziomie przez sześć godzin. Próbkę uznaje się za stabilną termicznie, jeżeli po zakończeniu badania spełnione są wszystkie następujące warunki:1.Spadek wagi każdej z kulek jest mniejszy niż 10 mg/mm 2 powierzchni kulki;2.Zmiana lepkości początkowej określonej w temperaturze 311 K (38 °C) jest mniejsza niż 25 %; oraz3.Całkowita liczba kwasowa lub zasadowa jest mniejsza niż 0,40;e.Temperaturę samozapłonu wyznacza się metodą opisaną w normie ASTM E-659 albo w jej krajowych odpowiednikach.1C007Następujące materiały na osnowie ceramicznej, niekompozytowe materiały ceramiczne, "materiały kompozytowe" na "matrycy" ceramicznej oraz materiały macierzyste:NB.: Sprawdź także pozycję 1C107.a. Materiały podłożowe z pojedynczych albo złożonych borków tytanowych, w których łączna ilość zanieczyszczeń metalicznych, z wyłączeniem dodatków zamierzonych, wynosi poniżej 5000 ppm (części na milion), przeciętne wymiary cząstek są równe albo mniejsze niż 5 mikrometrów oraz zawierają nie więcej niż 10 % cząstek o wielkości powyżej 10 mikrometrów;b. Niekompozytowe materiały ceramiczne w postaci nieprzerobionej albo półprzetworzonej, złożone z borków tytanowych o gęstości stanowiącej 98 % lub więcej gęstości teoretycznej;Uwaga: Pozycja 1C007.b nie obejmuje kontrolą materiałów ściernych.c."Materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne na "matrycy" szklanej albo tlenkowej, wzmacniane włóknami, mające wszystkie następujące cechy:1. wykonane z jednego z następujących komponentów:a. Si-N;b. Si-C;c. Si-Al-O-N; lubd. Si-O-N; i2. mające "wytrzymałość właściwą na rozciąganie" większą niż 12,7 × 103 m;d."Materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne, z fazą metaliczną o strukturze ciągłej albo bez tej fazy, zawierające cząstki, wiskery lub włókna, w których "matrycę" stanowią węgliki albo azotki krzemu, cyrkonu lub boru;e. Następujące materiały macierzyste (tj. specjalne polimery albo materiały metaloorganiczne) do wytwarzania dowolnej fazy albo faz materiałów ujętych w pozycji 1C007.c;1. Polidiorganosilany (do produkcji węglika krzemu);2. Polisilazany (do produkcji azotka krzemu);3. Polikarbosilazany (do produkcji materiałów ceramicznych zawierających składniki krzemowe, węglowe i azotowe);f."Materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne na "matrycy" szkła albo tlenkowej, wzmacniane ciągłymi włóknami wykonanymi z jednego z następujących materiałów:1. Al2O3; lub2. Si-C-N.Uwaga: Pozycja 1C007.f nie obejmuje kontrolą "materiałów kompozytowych" zawierających włókna z wymienionych w niej materiałów, posiadające wytrzymałość na rozciąganie mniejszą niż 700 MPa przy temperaturze 1273 K (1000 °C) lub odporność na pełzanie większą niż 1 % odkształcenia przy obciążeniu 100 MPa i temperaturze 1273 K (1000 °C) w czasie 100 godzin.1C008Następujące materiały polimerowe niezawierające fluoru:a.1. Bismaleimidy;2. Poliamidoimidy aromatyczne;3. Poliimidy aromatyczne;4. Polieteroimidy aromatyczne o temperaturze zeszklenia (Tg) powyżej 513 K (240 °C);Uwaga: Pozycja 1C008.a nie obejmuje kontrolą nietopliwych proszków do prasowania w formach ani wytłoczek.b. Ciekłe kryształy z kopolimerów termoplastycznych o temperaturze ugięcia pod obciążeniem powyżej 523 K (250 °C) mierzonej według normy AISO 75-3 (2004), metodą A, albo jej krajowych odpowiedników, przy obciążeniu 1,82 N/mm2, w których skład wchodzą:1. Jeden z następujących komponentów:a. Fenylen, bifenylen lub naftalen; lubb. Fenylen, bifenylen lub naftalen z podstawnikiem metylowym, trzeciorzędowym butylowym albo fenylowym; oraz2. Dowolny z następujących kwasów:a. Kwas tereftalowy;b. Kwas 6-hydroksy-2 naftoesowy; lubc. Kwas 4-hydroksybenzoesowy;c. Następujące poliketony arylenoeterowe:1. Nie używany;2. Poliketon eterowo-ketonowy (PEKK);3. Poliketon eterowy (PEK);4. Poliketon eterowo-ketonowo-eterowo-ketonowy (PEKEKK);d. Poliketony arylenowe;e. Polisiarczki arylenowe, w których grupą arylenową jest bifenylen, trifenylen albo ich kombinacja;f. Polisulfon bifenylenoeterowy o temperaturze zeszklenia (Tg) przekraczającej 513 K (240 °C);Uwaga techniczna:Temperatura zeszklenia (T g ) dla materiałów z pozycji 1C008 określana jest przy użyciu metody opisanej w normie ISO 11357-2 (1999) lub jej odpowiednikach krajowych.1C009Następujące nieprzetworzone związki fluorowe:a. Kopolimery fluorku winylidenu posiadające w 75 %, albo więcej, strukturę beta krystaliczną bez rozciągania;b. Poliimidy fluorowane zawierające 10 % wagowych albo więcej związanego fluoru;c. Fluorowane elastomery fosfazenowe zawierające 30 % wagowych albo więcej związanego fluoru.1C010Następujące "materiały włókniste lub włókienkowe", które można zastosować w konstrukcjach "kompozytowych" lub laminatach z "matrycą" organiczną, metalową lub węglową:NB.: Sprawdź także pozycję 1C210.a. Organiczne materiały "włókniste lub włókienkowe" mające wszystkie z wymienionych właściwości:1."Moduł właściwy" powyżej 12,7 × 106 m; oraz2."Wytrzymałość właściwą na rozciąganie" powyżej 23,5 × 104 m;Uwaga: Pozycja 1C010.a nie obejmuje kontrolą polietylenu.b."Włókniste i włókienkowe" materiały węglowe, mające wszystkie z wymienionych właściwości:1."Moduł właściwy" powyżej 12,7 × 106 m; oraz2."Wytrzymałość właściwą" na rozciąganie powyżej 23,5 × 104 m;Uwaga: Pozycja 1C010.b nie dotyczy kontroli tkanin wykonanych z "materiałów włóknistych lub włókienkowych" przeznaczonych do naprawy konstrukcji lotniczych ani laminatów, pod warunkiem że wymiary pojedynczych arkuszy materiału nie przekraczają wielkości 50 cm × 90 cm.Uwaga techniczna:Właściwości materiałów ujętych w pozycji 1C010.b należy określać zalecanymi przez Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych Materiałów Kompozytowych (SACMA) metodami SRM 12 do 17 albo równoważnymi metodami badania włókien, takimi jak Japońska Norma Przemysłowa JIS-R-7601, Paragraf 6.6.2, i opartymi na badaniu przeciętnej próbki z partii materiału.c. Nieorganiczne "materiały włókniste lub włókienkowe", mające wszystkie z wymienionych właściwości:1."Moduł właściwy" powyżej 2,54 × 106 m; oraz2. Temperatura topnienia, mięknienia, rozkładu lub sublimacji powyżej 1922 K (1649 °C) w środowisku obojętnym;Uwaga: Pozycja 1C010.c nie obejmuje kontrolą:1.Nieciągłych, wielofazowych, polikrystalicznych włókien aluminiowych w postaci włókien ciętych albo mat o strukturze bezładnej, zawierających 3 procent wagowych albo więcej krzemu, i mających "moduł właściwy" poniżej 10 × 10 6 m;2.Włókien molibdenowych i ze stopów molibdenowych;3.Włókien borowych;4.Nieciągłych włókien ceramicznych o temperaturze topnienia, mięknienia, rozkładu lub sublimacji poniżej 2043 K (1770 °C) w środowisku obojętnym.d."Materiały włókniste albo włókienkowe":1. Zawierające dowolny z następujących związków:a. Polieteroimidy określone w pozycji 1C008.a.; lubb. Materiały ujęte w pozycjach od 1C008.b do 1C008.f; lub2. Złożone z materiałów ujętych w pozycji od 1C010.d.1.a lub 1C010.d.1.b i "zmieszane" z innymi materiałami włóknistymi ujętymi w pozycjach 1C010.a, 1C010.b lub 1C010.c;e. Następujące włókna impregnowane żywicą lub pakiem (prepregi), włókna powlekane metalem lub węglem (preformy) lub "preformy włókien węglowych":1. Wykonane z "materiałów włóknistych lub włókienkowych" określonych w pozycji 1C010.a, 1C010.b, lub 1C010.c;2. Wykonane z organicznych lub węglowych "materiałów włóknistych lub włókienkowych":a. o "wytrzymałości właściwej na rozciąganie" powyżej 17,7 × 104 m;b. o "module właściwym" powyżej 10,15 × 106 m;c. nieobjęte kontrolą w pozycji 1C010.a lub 1C010.b; orazd. w przypadku gdy są impregnowane materiałami określonymi w pozycjach 1C008 lub 1C009.b, mającymi temperaturę zeszklenia (Tg) powyżej 383 K (110 °C), albo żywicami fenolowymi lub epoksydowymi, mającymi temperaturę zeszklenia (Tg) powyżej 418 K (145 °C).Uwaga: Pozycja 1C010.e nie obejmuje kontrolą:a.impregnowanych żywicą epoksydową "matryc" z "materiałów włóknistych lub włókienkowych" (materiałów do prasowania laminatów zbrojonych) przeznaczonych do naprawy konstrukcji lotniczych ani laminatów, pod warunkiem że wymiary pojedynczych arkuszy materiału nie przekraczają wielkości 50 cm × 90 cm.b.materiałów do prasowania laminatów zbrojonych, impregnowanych żywicami fenolowymi lub epoksydowymi, mającymi temperaturę zeszklenia (T g ) poniżej 433 K (160 °C) i temperaturę sieciowania niższą niż temperatura zeszklenia.Uwaga techniczna:Temperatura zeszklenia (T g ) dla materiałów z pozycji 1C010.e określana jest przy użyciu metody suchej, opisanej w normie ASTM D 3418. Temperatura zeszklenia dla żywic fenolowych i epoksydowych określana jest przy użyciu metody suchej, opisanej w normie ASTM D 4065, przy częstotliwości 1 Hz i szybkości nagrzewania wynoszącej 2 K (°C) na minutę.1C011Następujące metale i związki:NB.: Sprawdź także Wykaz uzbrojenia i pozycję 1C111.a. Metale o rozmiarach ziarna mniejszych niż 60 mikronów, zarówno w postaci sferycznej, rozpylanej, sferoidalnej, płatków, jak i zmielonej, wykonane z materiałów zawierających 99 % lub więcej cyrkonu, magnezu lub ich stopów;Uwaga techniczna:Naturalna zawartość hafnu w cyrkonie (typowo od 2 % do 7 %) jest liczona razem z cyrkonem.Uwaga: Metale lub stopy wymienione w pozycji 1C011.a są objęte kontrolą bez względu na to, czy są, czy też nie, zamknięte w kapsułkach z aluminium, magnezu lub berylu.b. Bor i węgliki boru o czystości 85 % lub większej oraz rozmiarach ziarna 60 mikronów lub mniejszych;Uwaga: Metale lub stopy wymienione w pozycji 1C011.b są objęte kontrolą bez względu na to, czy są, czy też nie, zamknięte w kapsułkach z aluminium, magnezu lub berylu.c. Azotan guanidyny;d. Nitroguanidyna (NQ) (CAS 55-88-7).1C012Następujące materiały:Uwaga techniczna:Materiały te są typowo wykorzystywane do jądrowych źródeł ciepła.a. Pluton w dowolnej postaci zawierający izotop pluton-238 w ilości powyżej 50 % wagowych;Uwaga: Pozycja 1C012.a nie obejmuje kontrolą:a.Dostaw zawierających 1 gram plutonu lub mniej;b.Dostaw zawierających 3 "gramy efektywne" lub mniej, w przypadku kiedy znajduje się on w czujnikach instrumentów pomiarowych.b. Uprzednio separowany neptun-237 w dowolnej formie.Uwaga: Pozycja 1C012.b nie obejmuje kontrolą dostaw zawierających neptun-237 w ilości 1 grama lub mniejszej.1C101Materiały i urządzenia do obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w zakresie promieniowania nadfioletowego lub podczerwonego i śladów akustycznych, inne niż określone w pozycji 1C001, możliwe do zastosowania w 'pociskach rakietowych', podsystemach "pocisków rakietowych" lub bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012.Uwaga 1: Pozycja 1C101 obejmuje:a.Materiały strukturalne i powłoki specjalnie opracowane pod kątem zmniejszenia ich echa radarowego;b.Powłoki, w tym farby, specjalnie opracowane pod kątem zmniejszenia ilości odbijanego lub emitowanego promieniowania z zakresu mikrofalowego, podczerwonego lub nadfioletowego promieniowania elektromagnetycznego.Uwaga 2: Pozycja 1C101 nie dotyczy powłok, pod warunkiem że są specjalnie używane do regulacji temperatur w satelitach.Uwaga techniczna:W pozycji 1C101 'pocisk rakietowy' oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km.1C102Przesycane pyrolizowane materiały węglowo-węglowe przeznaczone do pojazdów kosmicznych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych (sondujących) wymienionych w pozycji 9A104.1C107Następujące materiały grafitowe i ceramiczne, różne od wymienionych w pozycji 1C007:a. Drobnoziarniste materiały grafitowe o gęstości nasypowej co najmniej 1,72 g/cm3 lub większej, mierzonej w temperaturze 288 K (15 °C) i o wymiarach ziarna 100 m lub mniejszych, możliwe do zastosowania w dyszach do rakiet i stożkach czołowych członów lądujących statków kosmicznych, umożliwiające uzyskanie w drodze obróbki następujących produktów:1. Cylindry o średnicy 120 mm lub większej i długości 50 mm lub większej;2. Rury o średnicy wewnętrznej 65 mm lub większej i grubości ścianki 25 mm lub większej i długości 50 mm lub większej;3. Bloki o wymiarach 120 mm × 120 mm × 50 mm lub większej;NB.: Patrz również 0C004.b. Pyrolityczne lub wzmacniane włóknami materiały grafitowe nadające się do zastosowania w dyszach "pocisków rakietowych" i stożkach czołowych członów lądujących statków kosmicznych.NB.: Sprawdź także pozycję 0C004.c. Ceramiczne materiały kompozytowe (o stałej dielektrycznej poniżej 6 przy każdej częstotliwości od 100 MHz do 100 GHz), nadające się również do wyrobu kopułek anten radiolokatorów "pocisków rakietowych";d. Skrawalne, niepalne materiały ceramiczne wzmacniane włóknami krzemo-węglowymi, używane do wyrobu przednich szpiców "pocisków rakietowych".1C111Następujące substancje napędowe i związki chemiczne do nich, różne od wymienionych w pozycji 1C011:a. Substancje napędowe:1. Sferyczny proszek aluminiowy, różny od wymienionego w Wykazie uzbrojenia, złożony z cząstek o równomiernej średnicy i wielkości poniżej 200 mikrometrów i zawartości aluminium rzędu 97 procent wagowych lub większej, jeżeli co najmniej 10 % ciężaru ogólnego stanowią cząstki o średnicy mniejszej niż 63 mikrometry, zgodnie z ISO 2591:1988 lub równoważnymi normami narodowymi;Uwaga techniczna:Wielkość cząstek 63 mikrometry (ISO R-565) koresponduje z siatką 250 (Tyler) lub siatką 230 (standard ASTM E-11).2. Paliwa metalowe, różne od wymienionych w Wykazie uzbrojenia, w postaci cząstek o średnicy poniżej 60 mikrometrów, w postaci sferycznej, zatomizowanej, sferoidalnej, płatków lub silnie rozdrobnionego proszku, zawierające 97 procent wagowych lub więcej jednego z następujących składników:a. cyrkonu;b. berylu;c. magnezu;d. stopów metali określonych w pozycjach od a. do c. powyżej; lubUwaga techniczna:Naturalna zawartość hafnu w cyrkonie (typowo od 2 % do 7 %) jest liczona razem z cyrkonem.3. Następujące płynne utleniacze:a. Tritlenek diazotu;b. Ditlenek azotu/tetratlenek diazotu;c. Pentatlenek diazotu;d. Mieszaniny tlenków azotu (MON);Uwaga techniczna:Mieszaniny tlenków azotu stanowią roztwory tlenku azotu (NO) w tetratlenku diazotu/ditlenku azotu (N 2 O 4 /NO 2 ), które mogą być wykorzystane w systemach rakietowych. Istnieje cała skala mieszanin, które mogą być oznaczone jako MONi lub MONij, gdzie i oraz j są liczbami całkowitymi przedstawiającymi procentową zawartość tlenku azotu w danej mieszaninie (np. MON3 zawiera 3 % tlenku azotu, MON25 – 25 % tlenku azotu. Górną granicę stanowi MON40 – 40 % zawartości wagowej).e. Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla inhibitowanego dymiącego na czerwono kwasu azotowego (IRFNA);f. Sprawdź także Wykaz uzbrojenia oraz pozycję 1C238 dla związków chemicznych składających się z fluoru oraz jednego lub więcej ilości innych chlorowców, tlenu lub azotu;4. Pochodne hydrazyny możliwe do wykorzystania jako paliwo rakietowe oprócz wymienionych w Wykazie uzbrojenia;b. Substancje polimerowe:1. Polibutadien o łańcuchach zakończonych grupą karboksylową (CTPB);2. Polibutadien o łańcuchach zakończonych grupą hydroksylową (HTPB), różny od wymienionego w uregulowaniach dotyczących towarów wojskowych;3. Kopolimer butadienu z kwasem akrylowym (PBAA);4. Kopolimer butadienu z kwasem akrylowym i akrylonitrylem (PBAN);c. Inne dodatki i środki do materiałów miotających:1.Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla węgloborowodorów, dekaborowodorów, pentaborowodorów oraz i ich pochodnych;2. Diazotan glikolu trietylenowego (TEGDN);3. 2-nitrodifenyloamina;4. Triazotan trimetyloetanu (TMETN);5. Diazotan glikolu dietylenowego (DEGDN);6. Pochodne ferrocenu, takie jak:a.Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla katocenu;b. Ferrocen etylu;c. Ferrocen propylu;d.Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla ferrocenu n-butylu;e. Ferrocen pentylu;f. Ferrocen dicyklopentylu;g. Ferrocen dicykloheksylu;h. Ferrocen dietylu;i. Ferrocen dipropylu;j. Ferrocen dibutylu;k. Ferrocen diheksylu;l. Ferroceny acetylu;m.Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla kwasów karboksylowych ferrocenu;n.Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla butacenu;o. Inne pochodne ferrocenu wykorzystywane jako modyfikatory szybkości spalania paliwa rakietowego, różne od wyszczególnionych w uregulowaniach dotyczących towarów wojskowych.Uwaga: Dla substancji miotających oraz składników chemikaliów do materiałów miotających, nie wymienionych w pozycji 1C111, sprawdź także Wykaz uzbrojenia.1C116Stale maraging (stale ogólnie charakteryzujące się wysoką zawartością niklu, bardzo niską zawartością węgla i wykorzystaniem składników substytucyjnych lub przyspieszających, umożliwiających utwardzanie wydzielinowe), o wytrzymałości na rozciąganie równej 1500 MPa lub większej, mierzonej w temperaturze 293 °K (20 °C), w postaci blach, płyt lub rur o grubości ścianek rur lub grubości płyt mniejszej lub równej 5 mm.NB.: Patrz także pozycja 1C216.1C117Wolfram, molibden oraz stopy tych metali w postaci regularnych kulek albo rozpylonych cząstek o średnicy 500 μm lub mniejszej i czystości większej lub równej 97 %, przeznaczone do produkcji zespołów silników "rakietowych", tj. osłon termicznych, podłoża dysz, przewężeń dysz i powierzchni sterowania wektorem ciągu.1C118Stabilizowana tytanem stal nierdzewna dupleksowa (Ti-DSS) posiadająca wszystkie z niżej wymienionych cech:a. Posiadająca wszystkie z niżej wymienionych charakterystyk:1. Zawartość wagowa chromu: 17,0 – 23,0 %, niklu: 4,5 – 7,0 %;2. Zawartość wagowa tytanu większa niż 0,10 %; oraz3. Obecność mikrostruktury ferrytowo-austenitowej (nazywanej także mikrostrukturą dwufazową), w której co najmniej 10 % objętości stanowi austenit (zgodnie z ASTM E-1181 lub jego odpowiednikiem narodowym); orazb. Posiadająca którąkolwiek z następujących postaci:1. Sztab lub prętów o wielkości większej lub równej 100 mm w każdym z wymiarów;2. Arkuszy o szerokości większej lub równej 600 mm i grubości mniejszej lub równej 3 mm; lub3. Rur o średnicy zewnętrznej większej lub równej 600 mm i grubości ścianek mniejszej lub równej 3 mm.1C202Stopy, różne od wyszczególnionych w pozycji 1C002.b.3 lub b.4, takie jak:a. Stopy aluminium posiadające obydwie wymienione niżej cechy:1."Zdolne do" wytrzymałości na rozciąganie większej lub równej 460 MPa w temperaturze 293 °K (20 °C); oraz2. Posiadające postać rur lub litych elementów cylindrycznych (w tym odkuwek) o średnicy zewnętrznej powyżej 75 mm;b. Stopy tytanu posiadające obydwie wymienione niżej cechy:1."Zdolne do" wytrzymałości na rozciąganie większej lub równej 900 MPa w temperaturze 293 °K (20 °C); oraz2. Posiadające postać rur lub litych elementów cylindrycznych (w tym odkuwek) o średnicy zewnętrznej powyżej 75 mm.Uwaga techniczna:Określenie stopy "zdolne do" obejmuje stopy przed lub po obróbce cieplnej.1C210"Materiały włókniste lub włókienkowe" lub prepregi, różne od wyszczególnionych w pozycji 1C010.a, b lub e, takie jak:a. Węglowe lub aramidowe "materiały włókniste lub włókienkowe" posiadające obojętnie, którą z niżej wymienionych charakterystyk:1."Moduł właściwy" większy lub równy 12,7 × 106 m; lub2."Wytrzymałość właściwa na rozciąganie" większa lub równa 23,5 × 103 m;Uwaga: Pozycja 1C210.a nie obejmuje kontrolą aramidowych "materiałów włóknistych lub włókienkowych", zawierających wagowo 0,25 % lub więcej dowolnego modyfikatora powierzchni włókien opartego na estrach;b. Szklane "materiały włókniste lub włókienkowe" posiadające obydwie z niżej wymienionych cech:1."Moduł właściwy" większy lub równy 3,18 × 106 m; lub2."Wytrzymałość właściwa na rozciąganie" większa lub równa 76,2 × 103 m;c. Termoutwardzalne, impregnowane żywicą, ciągłe "przędze", "niedoprzędy", "kable" lub "taśmy" o szerokości nie przekraczającej 15 mm (prepregi), wykonane z węglowych lub szklanych "materiałów włóknistych lub włókienkowych" wyszczególnionych w pozycji 1C210.a lub b.Uwaga techniczna:Żywice tworzą matryce kompozytów.Uwaga: W pozycji 1C210 pojęcie "materiały włókniste lub włókienkowe" ogranicza się do ciągłych "włókien elementarnych", "przędz", "niedoprzędów", "kabli" lub "taśm".1C216Stal maraging, różna od wyszczególnionej w pozycji 1C116, "zdolna do" wytrzymałości na rozciąganie większej lub równej 2050 MPa, w temperaturze 293 °K (20 °C).Uwaga: Pozycja 1C216 nie obejmuje kontrolą form, w których wszystkie wymiary liniowe są mniejsze lub równe 75 mm.Uwaga techniczna:Sformułowanie stal maraging "zdolna do" obejmuje stal maraging przed lub po obróbce cieplnej.1C225Bor wzbogacony izotopem boru-10 (10B) w stopniu większym niż naturalna liczebność izotopowa, taki jak: bor pierwiastkowy, związki i mieszaniny zawierające bor, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.Uwaga: W pozycji 1C225 mieszaniny zawierające bor obejmują materiały obciążone borem.Uwaga techniczna:Naturalna liczebność izotopowa boru-10 wynosi wagowo ok. 18,5 % (atomowo 20 %).1C226Wolfram, węglik wolframu oraz stopy zawierające wagowo powyżej 90 % wolframu, posiadające obydwie z niżej wymienionych cech:a. W postaci form wydrążonych o symetrii cylindrycznej (włącznie z segmentami cylindrycznymi) o średnicy wewnętrznej od 100 do 300 mm; orazb. Masa większa niż 20 kg.Uwaga: Pozycja 1C226 nie obejmuje kontrolą wyrobów specjalnie zaprojektowanych jako odważniki lub kolimatory promieniowania gamma.1C227Wapń posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:a. Zawartość wagowa zanieczyszczeń metalami różnymi od magnezu poniżej 1000 części na milion; orazb. Zawartość wagowa boru poniżej 10 części na milion.1C228Magnez posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:a. Zawartość wagowa zanieczyszczeń metalami różnymi od wapnia poniżej 200 części na milion; orazb. Zawartość wagowa boru poniżej 10 części na milion.1C229Bizmut posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:a. Czystość wagowa większa lub równa 99,99 %; orazb. Zawartość wagowa srebra poniżej 10 części na milion.1C230Beryl metaliczny, stopy zawierające wagowo więcej niż 50 % berylu, związki berylu, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.Uwaga: Pozycja 1C230 nie obejmuje kontrolą:a.Metalowych okien do aparatury rentgenowskiej lub do urządzeń wiertniczych;b.Profili tlenkowych w postaci przetworzonej lub półprzetworzonej, zaprojektowanych specjalnie do elementów zespołów elektronicznych lub jako podłoża do obwodów elektronicznych;c.Berylu (krzemianu berylu i aluminium) w postaci szmaragdów lub akwamarynów.1C231Hafn metaliczny, stopy oraz związki hafnu zawierające wagowo więcej niż 60 % hafnu, wyroby oraz złom i odpady z powstałe z wyżej wymienionych.1C232Hel-3 (3He), mieszaniny zawierające hel-3 oraz wyroby lub urządzenia zawierające dowolne z wyżej wymienionych substancji;Uwaga: Pozycja 1C232 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń zawierających mniej niż 1 g helu-3.1C233Lit wzbogacony izotopem litu-6 (6Li) w stopniu większym niż naturalna liczebność izotopowa, oraz produkty lub urządzenia zawierające wzbogacony lit takie jak: lit pierwiastkowy, stopy, związki, mieszaniny zawierające lit, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.Uwaga: Pozycja 1C233 nie obejmuje kontrolą dozymetrów termoluminescencyjnych.Uwaga techniczna:Naturalna liczebność izotopowa litu-6 wynosi wagowo ok. 6,5 % (atomowo 7,5 %).1C234Cyrkon z zawartością wagową hafnu mniejszą niż 1 część hafnu do 500 części cyrkonu, taki jak: metal, stopy zawierające wagowo ponad 50 % cyrkonu, związki, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.Uwaga: Pozycja 1C234 nie obejmuje kontrolą cyrkonu w postaci folii o grubości mniejszej lub równej 0,10 mm.1C235Tryt, związki trytu i mieszaniny zawierające tryt, w których stosunek atomów trytu do wodoru przewyższa 1 część na 1000, oraz wyroby lub urządzenia zawierające wyżej wymienione substancje.Uwaga: Pozycja 1C235 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń zawierających nie więcej niż 1,48 × 10 3 GBq (40 Ci) trytu.1C236Radionuklidy emitujące cząstki alfa o okresie połowicznego rozpadu większym lub równym 10 dni, ale mniejszym niż 200 lat, występujące w poniższych postaciach:a. Pierwiastki;b. Związki o całkowitej aktywności alfa większej lub równej 37 GBq/kg (1 Ci/kg);c. Mieszaniny o całkowitej aktywności alfa większej lub równej 37 GBq/kg (1 Ci/kg);d. Wyroby lub urządzenia zawierające wyżej wymienione substancje.Uwaga: Pozycja 1C236 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń o aktywności alfa poniżej 3,7 GBq (100 mCi).1C237Rad-226 (226Ra), stopy oraz związki radu-226, mieszaniny zawierające rad-226, powstałe z nich wyroby, oraz produkty i urządzenia powstałe z wyżej wymienionych.Uwaga: Pozycja 1C237 nie obejmuje kontrolą:a.Aplikatorów medycznych;b.Wyrobów lub urządzeń zawierających mniej niż 0,37 GBq (10 mCi) radu-226.1C238Trifluorek chloru (ClF3).1C239Kruszące materiały wybuchowe, różne od wyszczególnionych w uregulowaniach dotyczących towarów wojskowych, substancje lub mieszaniny zawierające wagowo więcej niż 2 % tych materiałów, o gęstości krystalicznej większej niż 1,8 g/cm3 i prędkości detonacji powyżej 8000 m/s.1C240Proszek niklu lub porowaty nikiel metaliczny, różny od wyszczególnionego w pozycji 0C005, taki jak:a. Proszek niklu posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:1. Czystość niklowego składnika wagowego większa lub równa 99 %; oraz2. Średnia wielkość cząstek mniejsza niż 10 μm, mierzona według normy B330 Amerykańskiego Towarzystwa Materiałoznawczego (ASTM);b. Porowaty nikiel metaliczny wytwarzany z materiałów wyszczególnionych w pozycji 1C240.a.Uwaga: Pozycja 1C240 nie obejmuje kontrolą:a.Włókienkowych proszków niklu;b.Pojedynczych porowatych blach niklowych o polu powierzchni arkusza mniejszym lub równym 1000 cm 2 .Uwaga techniczna:Pozycja 1C240.b odnosi się do porowatego metalu wyrabianego metodą zagęszczania lub spiekania materiałów wyszczególnionych w pozycji 1C240.a, celem otrzymania metalu z drobnymi porami, wzajemnie łączącymi się w całości struktury.1C350Substancje chemiczne, które mogą być wykorzystane jako prekursory dla toksycznych środków chemicznych, oraz "mieszaniny chemiczne" zawierające jedną lub więcej z wyżej wymienionych substancji, z tego:NB.: Sprawdź także Wykaz uzbrojenia oraz pozycję 1C450.1. Tiodiglikol (111- 48-8);2. Tlenochlorek fosforu (10025-87-3);3. Metylofosfonian dimetylu (756-79-6);4. Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla Difluorek metylofosfonowy (676-99-3);5. Dichlorek metylofosfonowy (676-97-1);6. Fosforyn dimetylu (DMP) (868-85-9);7. Trichlorek fosforu (7719-12-2);8. Fosforyn trimetylu (TMP) (121-45-9);9. Chlorek tionylu (7719-09-7);10. 3-Hydroksy-1-metylopiperydyna (3554-74-3);11. N,N-diizopropylo-(beta)-chloroetyloamina (96-79-7);12. N,N-diizopropylo-(beta)-tioloetanoamina (5842-07-9);13. 3-chinuklidynol (1619-34-7);14. Fluorek potasu (7789-23-3);15. 2-Chloroetanol (107-07-3);16. Dimetyloamina (124-40-3);17. Etylofosfonian dietylu (78-38-6);18. N,N-dimetylofosforoamidan dietylu (2404-03-7);19. Fosfonian dietylu (762-04-9);20. Chlorowodorek dimetyloaminy (506-59-2);21. Dichloro(etylo)fosfina (1498-40-4);22. Dichlorek etylofosfonowy (1066-50-8);23. Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla Difluorek etylofosfonowy (753-98-0);24. Fluorowodór (7664-39-3);25. Benzilan metylu (76-89-1);26. Dichloro(metylo) fosfina (676-83-5);27. N,N-diizopropylo-(beta)-amino etanol (96-80-0);28. Alkohol pinakolinowy (464-07-3);29. Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla O-etylo-2-diizopropyloaminoetylo metylofosfinin (QL) (57856-11-8);30. Fosforyn trietylu (122-52-1);31. Trichlorek arsenu (7784-34-1);32. Kwas benzilowy (76-93-7);33. Metylofosfonin dietylu (15715-41-0);34. Etylofosfonian dimetylu (6163-75-3);35. Etylodifluorofosfina (430-78-4);36. Difluoro(metylo) fosfina (753-59-3);37. 3-chinuklidynon (3731-38-2);38. Pentachlorek fosforu (10026-13-8);39. Pinakolon (75-97-8);40. Cyjanek potasu (151-50-8);41. Wodorofluorek potasu (7789-29-9);42. Wodorofluorek amonu lub bifluorek amonu (1341-49-7);43. Fluorek sodu (7681-49-4);44. Wodorofluorek sodu (1333-83-1);45. Cyjanek sodu (143-33-9);46. Trietanoloamina (102-71-6);47. Pentasiarczek fosforawy (1314-80-3);48. Di-izopropyloamina (108-18-9);49. Dietyloaminoetanol (100-37-8);50. Siarczek sodu (1313-82-2);51. Monochlorek siarki (10025-67-9);52. Dichlorek siarki (10545-99-0);53. Chlorowodorek trietanoloaminy (637-39-8);54. N,N-diizopropylo-(beta)-chloroetyloamino chlorowodorek (4261-68-1).55. Kwas metylofosfonowy (993-13-5);56. Metylofosfonian dietylu (683-08-9);57. Dichlorek N,N-dimetylofosforoamidowy (677-43-0);58. Fosforyn triisopropylu (116-17-06);59. Etylodietanoloamina (139-87-7);60. O,O-dietylo fosforotionian (2465-65-8);61. O,O-dietylo fosforoditionian (298-06-6);62. Heksafluorokrzemian sodu (16893-85-9);63. Dichlorek metylotiofosfonowy (676-98-2).Uwaga 1: Dla eksportu do "Państw nie będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunktach 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 i 63, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 10 % mieszaniny.Uwaga 2: Dla eksportu do "Państw będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wymienionych w podpunktach 1C350.1, .3, .5, .11, 12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 i .63, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny.Uwaga 3: Pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunktach 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, 14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61 i .62, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny.Uwaga 4: Pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą wyrobów określanych jako dobra konsumpcyjne pakowane do sprzedaży detalicznej do osobistego użytku lub pakowane do indywidualnego użytku.1C351Ludzkie czynniki chorobotwórcze, choroby przenoszone przez zwierzęta oraz "toksyny", takie jak:a. Wirusy pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, takie jak:1. Wirus gorączki Chikungunya;2. Wirus gorączki krwotocznej kongijsko-krymskiej;3. Wirus gorączki denga;4. Wirus wschodnioamerykańskiego końskiego zapalenia mózgu;5. Wirus Ebola;6. Wirus Hanta;7. Wirus Junin;8. Wirus gorączki Lassa;9. Wirus limfocytowego zapalenia opon mózgowych;10. Wirus Machupo;11. Wirus marburski;12. Wirus małpiej ospy;13. Wirus gorączki z Rift Valley;14. Wirus kleszczowego zapalenia mózgu (rosyjski wiosenno-letni wirus zapalenia mózgu);15. Wirus ospy naturalnej;16. Wirus wenezuelskiego końskiego zapalenia mózgu;17. Wirus zachodnioamerykańskiego końskiego zapalenia mózgu;18. Wirus ospówki;19. Wirus żółtej gorączki;20. Wirus japońskiego zapalenia mózgu;21. Wirus Lasu Kyasanur;22. Wirus choroby skokowej owiec;23. Wirus zapalenia mózgu z Murray Valley;24. Wirus omskiej gorączki krwotocznej;25. Wirus Oropouche;26. Wirus Powassan;27. Wirus Rocio;28. Wirus zapalenia mózgu z St Louis;29. Wirus Hendra;30. Wirus południowoamerykańskiej gorączki krwotocznej (Sabia, Flexal, Guanarito);31. Wirusy gorączki krwotocznej z zepołem płucnym i nerkowym (Seoul, Dobrava, Puumala, Sin Nobre);32. Wirus Nipah;b. Riketsje pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, takie jak:1. Coxiella burnetii – riketsja gorączki Q;2. Bartonella quintana (Rochalimea Quintana, Rickettsia quintana) – riketsja gorączki okopowej;3. Riketsja prowasecki – riketsja duru plamistego;4. Riketsja rickettsii – riketsja gorączki plamistej Gór Skalistych;c. Następujące bakterie pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został specjalnie zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami:1. Laseczka wąglika (Bacillus anthracis);2. Pałeczka ronienia bydła (Brucella abortus bovis);3. Pałeczka maltańska (Brucella melitensis);4. Pałeczka ronienia świń (Brucella abortus suis);5. Zarazek papuzicy (Chlamydia psittaci);6. Laseczka jadu kiełbasianego (Clostridium botulinum);7. Pałeczka tularemii (Francisella tularensis);8. Pałeczka nosacizny Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei);9. Pałeczka melioidozy Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei);10. Pałeczka duru (Salmonella typhi);11. Pałeczka czerwonki (Shigella dysenteriae);12. Przecinkowiec cholery (Vibrio cholerae);13. Pałeczka dżumy (Yersinia pestis);14. Laseczka zgorzeli gazowej wytwarzająca odmiany egzotoksyn (Clostridium perfringens);15. Pałeczka okrężnicy (Escherichia coli) o odmianie serologicznej O157 oraz inne werotoksyny wytwarzające odmiany serologiczned. Następujące "toksyny" i ich "podjednostki toksyn":1. Toksyny botulinowe;2. Toksyny laseczki zgorzeli gazowej;3. Konotoksyna;4. Rycyna;5. Saksytoksyna;6. Toksyna Shiga;7. Toksyny gronkowca złocistego;8. Tetrodotoksyna;9. Verotoksyna;10. Microcystin (Cyanginosin);11. Aflatoksyny;12. Abryn;13. Toksyna cholery;14. Toksyna diacetoksyscyrpenolowa;15. Toksyna T-2;16. Toksyna HT-2;17. Modecyn;18. Wolkensyn;19. Lektyn 1 jemioły pospolitej (wiskotoksyna);Uwaga: Pozycja 1C351.d nie obejmuje kontrolą toksyn botulinowych ani konotoksyn w postaci wyrobów spełniających wszystkie niżej wymienione kryteria:1.Są formułami farmaceutycznymi przeznaczonymi do przywracania zdrowia chorym ludziom;2.Są opakowane do rozprowadzania jako wyroby lecznicze;3.Są dopuszczone do obrotu przez władze państwowe jako wyroby lecznicze.Uwaga: Pozycja 1C351 nie obejmuje kontrolą "szczepionek" lub "immunotoksyn".1C352Zwierzęce czynniki chorobotwórcze, takie jak:a. Wirusy pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, takie jak:1. Wirus afrykańskiego pomoru świń;2. Ptasie wirusy grypy, które są:a. Niescharakteryzowane; lubb. Określone w dyrektywie Wspólnoty Europejskiej 92/40/WE (Dz.U. L 16 z 23.1.1992, pkt 19) jako posiadające wysokie właściwości chorobotwórcze, w tym:1. Wirusy typu A o wartości IVPI (wskaźnik dożylnej chorobotwórczości) dla sześciotygodniowych kurcząt, powyżej 1,2; lub2. Wirusy typu A o podtypie H5 lub H7, dla których sekwencjonowanie nukleotydów wykazało występowanie licznych aminokwasów zasadowych w miejscach rozszczepienia hemaglutyniny;3. Wirus choroby niebieskiego języka;4. Wirus pryszczycy;5. Wirus ospy koziej;6. Wirus opryszczki świń (choroba Aujeszky’ego);7. Wirus pomoru świń (wirus cholery Hoga);8. Wirus Lyssa;9. Wirus rzekomego pomoru drobiu (wirus z Newcastle);10. Wirus pomoru przeżuwaczy;11. Enterowirus świński, typ 9 (wirus choroby pęcherzykowej u świń);12. Wirus zarazy bydlęcej;13. Wirus ospy owczej;14. Wirus choroby cieszyńskiej;15. Wirus pęcherzykowego zapalenia jamy gębowej;16. Wirus choroby zgrudowacenia skóry;17. Wirus afrykańskiej choroby koni;b. Drobnoustroje z rodzaju mykoplazma pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony drobnoustrojami z tego rodzaju.Uwaga: Pozycja 1C352 nie obejmuje kontrolą "szczepionek".1C353Elementy genetyczne oraz zmodyfikowane genetycznie "organizmy":a. Zmodyfikowane genetycznie "organizmy" lub elementy genetyczne zawierające sekwencje kwasów nukleinowych połączone z czynnikami chorobotwórczymi organizmów wyszczególnionych w pozycjach 1C351.a. do c. lub 1C352 lub 1C354;b. Zmodyfikowane genetycznie "organizmy" lub elementy genetyczne zawierające sekwencje kwasów nukleinowych przypisanych do jakiejkolwiek z "toksyn" wyszczególnionych w pozycji 1C351.d lub należące do nich "podjednostki toksyn".Uwagi techniczne:Elementy genetyczne zawierają między innymi chromosomy, genomy, plazmidy, transpozony oraz wektory, bez względu na to, czy są modyfikowane genetycznie, czy nie.Uwaga: Pozycji 1C353 nie stosuje się do sekwencji kwasów nukleinowych połączonych z czynnikami chorobotwórczymi pałeczki okrężnicy o odmianie serologicznej O157 oraz innych werotoksyn wytwarzających odmiany serologiczne innych niż te przypisane do werotoksyn lub ich podjednostek.Sekwencje kwasów nukleinowych połączone z czynnikami chorobotwórczymi mikroorganizmów wyszczególnionych w pozycjach 1C351.a. do c. lub 1C352 lub 1C354 oznaczają wszelkie sekwencje właściwe dla określonych mikroorganizmów, które:a. same lub przez swoje produkty transkrybowane lub transponowane stanowią istotne zagrożenie dla zdrowia ludzi, zwierząt lub roślin; lubb. wiadomo, że zwiększają zdolność określonych mikroorganizmów lub jakichkolwiek innych organizmów, do których mogą zostać wprowadzone lub z którymi mogą zostać w inny sposób zintegrowane, spowodowania istotnych szkód dla zdrowia ludzi, zwierząt lub roślin.1C354Szczepy chorobotwórcze, takie jak:a. Wirusy pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, jak:1. Andyjski utajony wirus ziemniaka;2. Wiroid wrzecionowatości bulw ziemniaka;b. Bakterie pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, jak:1. Xanthomonas albilineans;2. Xantomonas campestris pv. citri zawierające szczepy pokrewne, takie jak Xantomonas campestris pv. citri typu A, B, C, D, E lub inaczej klasyfikowane jako Xantomonas citri, Xantomonas campestris pv. aurantifolia lub Xantomonas campestris pv. citrumelo;3. Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae);4. Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum lub Corynebacterium Sepedonicum);5. Ralstonia solanacearum typy 2 i 3 (Pseudomonas solanacearum typy 2 i 3 lub Burkholderia solanacearum typy 2 i 3);c. Grzyby pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, jak:1. Colletotrichum coffeanum var. virulans (Colletotrichum kahawae);2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);3. Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);4. Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis F. sp. tritici);5. Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);6. Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/pyricularia oryzae).1C450Toksyczne związki chemiczne, prekursory toksycznych związków chemicznych oraz "mieszaniny chemiczne" zawierające jedną lub więcej z tych substancji, takie jak:NB.: Patrz także pozycje 1C350, 1C351.d oraz wykaz uzbrojenia.a. Toksyczne związki chemiczne, takie jak:1. Amiton: O,O-dietylo-S-[2-(dietyloamino) etylo] fosforotiolan (78-53-5) oraz odpowiednie alkilowane lub protonowane sole;2. PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(trifluorometylo)-1-propen (382-21-8);3. Sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla BZ: 3-chinuklidylo benzylan (6581-06-2);4. Fosgen: dichlorek karbonylu (75-44-5);5. Chlorocyjan (506-77-4);6. Cyjanowodór (74-90-8);7. Chloropikryna: trichloronitrometan (76-06-2);Uwaga 1: Dla eksportu do "Państw nie będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunktach 1C450.a.1 oraz .a.2, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 10 % mieszaniny.Uwaga 2: Dla eksportu do "Państw będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunktach 1C450.a.1 oraz .a.2, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny.Uwaga 3: Pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunktach 1C450.a.4, .a.5, .a.6 oraz .a.7, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny.b. Prekursory toksycznych związków chemicznych, takie jak:1. Związki chemiczne, różne od wyszczególnionych w uregulowaniach dotyczących towarów wojskowych lub w pozycji 1C350, posiadające atom fosforu, z którym związana jest jedna grupa metylowa, etylowa, propylowa lub izopropylowa, lecz nie więcej atomów węgla;Uwaga: Pozycja 1C450.b.1 nie obejmuje kontrolą fonofosu: O-etylo S-fenylo -etylofosfonotiolotionianu (944-22-9);2. Dihalogenki N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub izopropylo) fosforoamidowe;3. Dialkilo (metylo, etylo, propylo lub izopropylo) N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub izopropylo)-fosforoamidany, różne od dietylo-N,N-dimetylofosforoamidanu wyszczególnionego w pozycji 1C350,4. Chlorki 2-N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub izopropylo) aminoetylu i odpowiednie protonowane sole, inne niż chlorek N,N-diizopropylo-(beta)-aminoetylu lub chlorowodorek N,N-diizopropylo-(beta)-aminoetylo chlorku, które zostały wyszczególnione w pozycji 1C350;5. N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub izopropylo) aminoetan-2-ole i odpowiednie protonowane sole, różne od N,N-diizopropylo-(beta)-aminoetanolu (96-80-0) i N,N-dietyloaminoetanolu (100-37-8), wyszczególnionych w pozycji 1C350;Uwaga: Pozycja 1C450.b.5 nie obejmuje kontrolą:a.N,N-dimetyloaminoetanolu (108-01-0) i odpowiednich protonowanych soli;b.Protonowanych soli N,N-dietyloaminoetanolu (100-37-8);6. N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub izopropylo) aminoetano-2-tiole i odpowiednie protonowane sole, inne niż N,N-diizopropylo-(beta)-aminoetanootiol, wyszczególniony w pozycji 1C350;7. Etylodietanoloamina (139-87-7) – patrz 1C350;8. Metylodietanoloamina (105-59-9);Uwaga 1: Dla eksportu do "Państw nie będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunktach 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5, oraz .b.6, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 10 % mieszaniny.Uwaga 2: Dla eksportu do "Państw będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunktach 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5, oraz .b.6, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaninyUwaga 3: Pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunkcie 1C450.b.8, w którym żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny.Uwaga: Pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą wyrobów określanych jako dobra konsumpcyjne pakowane do sprzedaży detalicznej do osobistego użytku lub pakowane do indywidualnego użytku.1DOprogramowanie1D001"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" albo "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach od 1B001 do 1B003.1D002"Oprogramowanie" do "rozwoju""matryc" organicznych, "matryc" metalowych, "matryc" węglowych do laminatów, oraz "kompozytów".1D101"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycji 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 lub 1B119.1D103"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do badania obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w zakresie promieniowania nadfioletowego/podczerwonego oraz śladów akustycznych.1D201"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycji 1B201.1ETechnologia1E001"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu lub materiałów wyszczególnionych w pozycji 1A001.b, 1A001.c, 1A002 do 1A005, 1B lub 1C.1E002Inne "technologie", takie jak:a."Technologia" do "rozwoju" lub "produkcji" polibenzotiazoli lub polibenzoksazoli;b."Technologia" do "rozwoju" lub "produkcji" związków elastomerów fluorowych, zawierających co najmniej jeden monomer eteru winylowego;c."Technologia" do projektowania lub "produkcji" materiałów podstawowych albo nie-"kompozytowych" materiałów ceramicznych, takich jak:1. Materiałów podstawowych posiadających wszystkie niżej wymienione cechy:a. Zawierających jakikolwiek z następujących związków:1. Pojedyncze lub kompleksowe tlenki cyrkonu oraz kompleksowe tlenki krzemu lub glinu;2. Pojedyncze azotki boru (w postaci regularnych kryształów);3. Pojedyncze lub kompleksowe węgliki krzemu lub boru; lub4. Pojedyncze lub kompleksowe azotki krzemu;b. Posiadających całkowitą zawartość zanieczyszczeń metalicznych, z wyłączeniem celowych domieszek, mniejszą niż:1.1000 ppm dla pojedynczych tlenków lub węglików; lub2.5000 ppm dla związków kompleksowych lub pojedynczych azotków; orazc. Posiadających:1. Dwutlenek cyrkonu o przeciętnych wymiarach cząsteczek mniejszych lub równych 1 μm oraz nie zawierający więcej niż 10 % cząsteczek większych niż μm;2. Inne materiały podstawowe o przeciętnych wymiarach cząsteczek mniejszych lub równych 5 μm oraz nie zawierających więcej niż 10 % cząsteczek większych niż 10 μm; lub3. Wszystkie z poniższych właściwości:a. Postać płytek o stosunku długości do grubości większym niż 5;b. Postać wiskerów o stosunku długości do średnicy większym od 10 przy średnicach poniżej 2 μm; orazc. Postać ciągłych lub pociętych włókien o średnicy poniżej 10 μm;2. Nie-"kompozytowych" materiałów ceramicznych składających się z materiałów wyszczególnionych w pozycji 1E002.c.1;Uwaga: Pozycja 1E002.c.2 nie obejmuje kontrolą "technologii" do projektowania lub produkcji materiałów ściernych.d."Technologia" do "produkcji" włókien z poliamidów aromatycznych;e."Technologia" do instalacji, obsługiwania lub naprawy materiałów wyszczególnionych w pozycji 1C001;f."Technologia" do naprawy struktur "kompozytowych", laminatów lub materiałów wyszczególnionych w pozycji 1A002, 1C007.c lub 1C007.d.Uwaga: Pozycja 1E002.f nie obejmuje kontrolą "technologii" do naprawy struktur "cywilnych statków powietrznych" za pomocą węglowych "materiałów włóknistych lub włókienkowych" oraz żywic epoksydowych, zawartych w instrukcjach producenta "statku powietrznego".1E101"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 do 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 do 1C117, 1D101 lub 1D103.1E102"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju""oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 1D001, 1D101 lub 1D103.1E103"Technologia" do regulacji temperatur, ciśnień lub atmosfery w autoklawach lub hydroklawach w przypadku wykorzystania do "produkcji""kompozytów" lub "kompozytów" częściowo przetworzonych.1E104"Technologia" związana z "produkcją" pirolitycznie wytwarzanych materiałów, formowanych za pomocą form, walcowania trzpieniowego lub innego podłoża z gazów prekursorowych, ulegających rozkładowi w temperaturach od 1573 K (1300 °C) do 3173 K (2900 °C) przy ciśnieniach od 130 Pa do 20 kPa.Uwaga: Pozycja 1E104 obejmuje "technologię" do łączenia gazów prekursorowych, wartości natężeń przepływu, harmonogramy oraz parametry sterowania procesem.1E201"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach 1A002, 1A202, 1A225 do 1A227, 1B201, 1B225 do 1B233, 1C002.b.3 lub .b.4, 1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 do 1C240 lub 1D201.1E202"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju" lub "produkcji" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach 1A202 lub 1A225 do 1A227.1E203"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju""oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 1D201.KATEGORIA 2PRZETWARZANIE MATERIAŁÓW2ASystemy, sprzęt oraz komponenty.NB.: Dla łożysk bezgłośnych patrz uregulowania dotyczące towarów wojskowych2A001Łożyska, zespoły łożysk oraz ich części składowe:Uwaga: Pozycja 2A001 nie obejmuje kontrolą kulek o tolerancji, określanej przez producenta zgodnie z normą ISO 3290, klasy 5 lub gorszej.a. Łożyska kulkowe lub pełne wałeczkowe o tolerancjach, określonych przez producenta zgodnie z normą ISO 492, 4 klasy tolerancji (lub normą ANSI/ABMA Std 20 – klasa tolerancji ABEC 7 lub RBEC 7, albo według innych narodowych odpowiedników) lub lepszej, oraz posiadające pierścienie oraz elementy toczne (ISO 5593) wykonane z monelu lub berylu;Uwaga: Pozycja 2A001.a nie obejmuje kontrolą łożysk z wałeczkami stożkowymi.b. Inne łożyska kulkowe lub pełne wałeczkowe o tolerancjach, określonych przez producenta zgodnie z normą ISO 492, 2 klasy tolerancji (lub normą ANSI/ABMA Std 20 – klasa tolerancji ABEC 9 lub RBEC 97, albo według innych narodowych odpowiedników) lub lepszej;Uwaga: Pozycja 2A001.b nie obejmuje kontrolą łożysk z wałeczkami stożkowymi.c. Aktywne zespoły łożysk magnetycznych, wykorzystujące, co najmniej jeden z niżej wymienionych elementów:1. Materiały o gęstości strumienia 2,0 T lub większej, przenoszące obciążenia większe niż 414 MPa;2. Całkowicie elektromagnetyczne, trójwymiarowe jednobiegunowe konstrukcje dla siłowników; lub3. Wysokotemperaturowe (450 K (117 °C) i więcej) czujniki położenia.2A225Tygle, wykonane z materiałów odpornych na płynne aktynowce, takie jak:a. Tygle posiadające obydwie z następujących cech charakterystycznych:1. Pojemność od 150 cm3; do 8000 cm3; oraz2. Wykonane z jednego z następujących materiałów lub nim powlekane, o czystości wagowej materiału 98 % lub większej:a. Fluorek wapniowy (CaF2);b. Cyrkonian wapnia (metacyrkonian) (CaZrO3);c. Siarczek ceru (Ce2S3);d. Tlenek erbowy (erbia) (Er2O3);e. Tlenek hafnowy (hafnia) (HfO2);f. Tlenek magnezowy (MgO);g. Azotowany stop niobu z tytanem i wolframem (około 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);h. Tlenek itrowy (itria) (Y2O3); lubi. Tlenek cyrkonowy (cyrkonia) (ZrO2);b. Tygle posiadające obydwie z następujących cech charakterystycznych:1. Pojemność od 50 cm3 do 2000 cm3; oraz2. Wykonane z tantalu lub nim pokryte, o czystości wagowej tantalu 99,9 % lub większej;c. Tygle posiadające wszystkie z następujących cech charakterystycznych:1. Pojemność od 50 cm3 do 2000 cm3;2. Wykonane z tantalu lub nim pokryte, o czystości wagowej tantalu 98 % lub większej; oraz3. Powlekane węglikiem, azotkiem lub borkiem tantalu, lub jakąkolwiek ich kombinacją.2A226Zawory posiadające wszystkie z następujących cech charakterystycznych:a.'Wymiar nominalny' 5 mm lub większy;b. Wyposażone w uszczelnienia mieszkowe; orazc. W całości wykonane lub pokryte aluminium, stopem aluminium, niklem lub stopem niklu zawierającym wagowo 60 % lub więcej niklu.Uwaga techniczna:Dla zaworów o różnych średnicach otworu wlotowego i wylotowego pojęcie 'wymiar nominalny' w pozycji 2A226 odnosi się do najmniejszych średnic.2BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjneUwagi techniczne:1.Pomocnicze, równoległe osie konturowe (np. oś „w” w wiertarkach poziomych, albo pomocnicza oś obrotowa, której linia centralna biegnie równolegle do głównej osi obrotu) nie są zaliczane do całkowitej liczby osi kształtowych. Osie obrotowe nie muszą obracać się o 360°. Oś obrotowa może być napędzana za pomocą urządzenia liniowego (np. śruby albo mechanizmu zębatkowego).2.Dla celów pozycji 2B za liczbę osi, które mogą być koordynowane jednocześnie w celu "sterowania kształtowego", uznaje się liczbę osi w trakcie obrabiania przedmiotu wzdłuż lub dookoła których wykonywane są ruchy jednoczesne i wzajemnie powiązane pomiędzy obrabianym przedmiotem a narzędziem.Nie obejmuje to jakichkolwiek dodatkowych osi, wzdłuż lub dookoła których wykonywane są inne ruchy względne maszyny, takich jak:a.Systemów obciągania ściernic w szlifierkach;b.Równoległych osi obrotowych, przeznaczonych do mocowania oddzielnych przedmiotów obrabianych;c.Współliniowych osi obrotowych przeznaczonych do manipulowania tym samym przedmiotem poprzez zamocowanie go w uchwytach z oddzielnych końców.3.Nazewnictwo osi powinno być zgodne z Międzynarodową Normą ISO 841, "Maszyny sterowane numerycznie - Nazewnictwo osi i ruchów".4.Dla potrzeb pozycji 2B001 do 2B009 "wrzeciono wahliwe" jest zaliczane do osi obrotowych.5.Zamiast indywidualnych testów dla każdego modelu obrabiarki można stosować poziomy gwarantowanej dokładności pozycjonowania, ustalone przy pomiarach wykonanych stosownie do ISO 230/2 (1988)[10] lub narodowego odpowiednika. Poziom gwarantowanej dokładności pozycjonowania, oznacza wartość dokładności, przyjętą przez właściwe organy państwa członkowskiego, w którym eksporter jest zarejestrowany, jako reprezentatywną dokładność modelu maszyny. Określenie gwarantowanej dokładności:a.Wybrać pięć egzemplarzy modelu maszyny, który ma być oceniany;b.Zmierzyć liniowe dokładności osi zgodnie z ISO 230/2 (1988) [11];c.Określić wartość A dla każdej osi każdej maszyny. Metoda określania wartości A opisana jest w normie ISO.d.Określić wartości średnie wartości A dla każdej osi. Oznacza to, że wartość Â staje się gwarantowaną wartością dla każdej osi modelu (Â x, Â y, ...);e.Ponieważ wykaz Kategorii 2 odnosi się do każdej osi liniowej, wartości gwarantowanych będzie tyle, ile jest osi liniowych.f.Jeżeli któraś z osi modelu maszyny nieobjętego kontrolą przez podpunkty 2B001.a do 2B001.c lub 2B201 posiada gwarantowaną dokładność Â równą 6 um dla szlifierek i 8 um dla frezarek i tokarek lub lepszą, od producenta powinno się wymagać potwierdzania poziomu dokładności raz na osiemnaście miesięcy.2B001Obrabiarki, oraz ich różne kombinacje, do skrawania (albo cięcia) metali, materiałów ceramicznych lub "kompozytów" które, według danych technicznych producenta, mogą być wyposażone w urządzenia elektroniczne do "sterowania numerycznego" oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, w tym:NB.: Patrz także pozycja 2B201.Uwaga 1: Pozycja 2B001 nie obejmuje kontrolą obrabiarek do specjalizowanych zastosowań ograniczonych do wytwarzania kół zębatych. Dla takich maszyn patrz pozycja 2B003.Uwaga 2: Pozycja 2B001 nie obejmuje kontrolą obrabiarek do specjalizowanych zastosowań ograniczonych do wytwarzania dowolnych z następujących części:a.Wałów korbowych i rozrządowych;b.Narzędzi lub noży do obrabiarek;c.Ślimaków do wytłaczarek;d.Grawerowanych lub szlifowanych części biżuterii.Uwaga 3: Obrabiarki posiadające, co najmniej dwie z trzech następujących zdolności: toczenia, frezowania lub szlifowania (np. tokarka ze zdolnością do frezowania), muszą być oszacowane stosownie odpowiednio do każdej pozycji 2B001.a, .b lub .c.a. Tokarki posiadające wszystkie z następujących cech charakterystycznych:1. Dokładność ustalania położenia, z uwzględnieniem "wszystkich możliwych kompensacji", równa lub mniejsza (lepsza) niż 6 μm, zgodnie z ISO 230/2 (1988)[12] lub równoważną normą narodową, mierzona wzdłuż dowolnej osi liniowej; oraz2. Dwie lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego";Uwaga: Pozycja 2B001.a nie obejmuje kontrolą tokarek specjalnie zaprojektowanych do wytwarzania soczewek kontaktowych.b. Frezarki posiadające dowolne z następujących cech charakterystycznych:1. Posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Dokładność ustalania położenia, z uwzględnieniem "wszystkich możliwych kompensacji", równa lub mniejsza (lepsza) niż 6 μm, zgodnie z ISO 230/2 (1988)[13] lub równoważną normą narodową, mierzona wzdłuż dowolnej osi liniowej; orazb. Trzy lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego"; lub2. Pięć lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego";3. Dokładność ustalania położenia dla wiertarek współrzędnościowych z uwzględnieniem „wszystkich możliwych kompensacji”, równa lub mniejsza (lepsza) niż 6 μm, zgodnie z ISO 230/2 (1988)[14] lub równoważną normą narodową, mierzona wzdłuż dowolnej osi liniowej;4. Maszyny do obróbki frezem jednoostrzowym, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:a. Wartość modułu "bicie promieniowego" i "bicie osiowego" wrzeciona mniejsza (lepsza) niż 0,0004 mm; orazb. Wartość modułu odchylenia kątowego posuwu (odchyłu, skoku i obrotu) mniejsze niż 2 sekundy kątowe, na 300 mm odcinku ruchu.c. Szlifierki posiadające dowolne z następujących cech charakterystycznych:1. Posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Dokładność ustalania położenia, z uwzględnieniem "wszystkich możliwych kompensacji", równa lub mniejsza (lepsza) niż 4 m, zgodnie z ISO 230/2 (1988)[15] lub równoważną normą narodową, mierzona wzdłuż dowolnej osi liniowej; orazb. Trzy lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego"; lub2. Pięć lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego";Uwaga: Pozycja 2B001.c nie obejmuje kontrolą następujących szlifierek:1.Szlifierek do zewnętrznego, wewnętrznego i zewnętrzno-wewnętrznego szlifowania na okrągło, posiadających wszystkie wymienione niżej cechy charakterystyczne:a.Ograniczenie do szlifowania na okrągło; orazb.Ograniczenie do maksymalnych wymiarów przedmiotu obrabianego do 150 mm średnicy zewnętrznej lub długości.2.Obrabiarek skonstruowanych specjalnie jako szlifierki współrzędnościowe, nie posiadających osi z ani osi w, o dokładności ustalania położenia z uwzględnieniem "wszystkich możliwych kompensacji" wynoszącej mniej (lepszej) niż 4 μm zgodnie z ISO 230/2 (1988) lub odpowiednikami krajowymi.3.Szlifierek powierzchniowych.d. Obrabiarki elektroiskrowe (EDM), niedrutowe, posiadające dwie albo więcej osi obrotowych, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego";e. Obrabiarki do obróbki metali, materiałów ceramicznych lub "kompozytowych", posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Usuwające materiał za pomocą dowolnego z niżej wymienionych sposobów:a. Dysz wodnych lub dysz z innymi cieczami roboczymi, w tym z dysz z płynami zawierającymi substancje cierne;b. Wiązki elektronów; lubc. Wiązki "laserowej"; oraz2. Posiadające dwie albo więcej osi obrotowych, które:a. Można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego"; orazb. Posiadają „dokładność ustalania położenia” mniejszą (lepszą) niż 0,003°.f. Wiertarki do głębokich otworów i tokarki, zmodyfikowane do wiercenia głębokich otworów, posiadające maksymalną zdolność do wiercenia otworów o głębokości przekraczającej 5000 mm, oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty.2B002Obrabiarki sterowane numerycznie wykorzystujące proces magnetoreologicznej obróbki wykańczającej (MRF), umożliwiające uzyskiwanie powierzchni asferycznych i wykonywanie dowolnej z następujących czynności:a. Obróbka wykańczająca z tolerancją mniejszą (lepszą) niż 1,0 μm; lubb. Obróbka wykańczająca pozwalająca na uzyskanie chropowatości mniejszej (lepszej) niż 100 nm (średnia kwadratowa).Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 2B002, MRF oznacza proces obróbki materiału, wykorzystujący ścierny płyn magnetyczny, którego lepkość kontrolowana jest przez pole magnetyczne.2B003Obrabiarki "sterowane numerycznie" lub ręcznie, oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, urządzenia sterujące i oprzyrządowanie, specjalnie opracowane do skrawania, obróbki, wykańczania, szlifowania albo gładzenia hartowanych (Rc = 40 lub więcej), kół zębatych o zębach prostych, kół zębatych śrubowych i daszkowych o średnicy toczonej powyżej 1250 mm i szerokości wieńca wynoszącej 15 % średnicy toczonej lub większej, wykończone do jakości AGMA 14 albo wyższej (równoważnej Klasie 3 normy ISO 1328).2B004Pracujące na gorąco "prasy izostatyczne" posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne, oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty i akcesoria, takie jak:NB.: Patrz także pozycje 2B104 i 2B204.a. Posiadające możliwość regulacji warunków termicznych w zamkniętej formie oraz wyposażone w komorę formy o średnicy wewnętrznej 406 mm albo większej; orazb. Posiadają jedną z poniższych właściwości:1. Maksymalne ciśnienie robocze powyżej 207 MPa;2. Regulacja warunków termicznych powyżej 1773 K (1500 °C); lub3. Łatwość nasycania węglowodorami i usuwania powstających gazowych produktów rozkładu;Uwaga techniczna:Termin wewnętrznego wymiaru oznacza wymiar komory, w którym osiąga się zarówno temperaturę roboczą jak i ciśnienie robocze, termin nie obejmuje osprzętu. Wymiar ten będzie mniejszą ze średnic wewnętrznych komory ciśnieniowej lub izolowanej komory paleniskowej, w zależności od tego, która z tych komór jest umieszczona wewnątrz drugiej.NB.: W przypadku specjalnie zaprojektowanych matryc, form i oprzyrządowania patrz pozycje 1B003, 9B009 oraz uregulowania dotyczące towarów wojskowych.2B005Sprzęt specjalnie zaprojektowany do osadzania, przetwarzania i automatycznej kontroli w czasie obróbki pokryć i powłok nieorganicznych oraz modyfikacji warstw powierzchniowych, przeznaczony do wytwarzania podłoży nieelektronicznych, technikami wymienionymi w tabeli oraz dowiązanych uwagach, umieszczonych po pozycji 2E003.f, oraz specjalnie do nich opracowane zautomatyzowane komponenty do obsługiwania, ustalania położenia, manipulowania i sterowania w tym:a. Sprzęt produkcyjny do chemicznego osadzania warstw z faz gazowych (CVD) posiadający wszystkie niżej wymienione cechy:NB.: Patrz także pozycja 2B1O5.1. Modyfikacja procesu do wymienionego poniżej:a. CVD pulsujące;b. Rozkład termiczny z regulowaną nukleacją (CNTD); l ubc. CVD intensyfikowane albo wspomagane plazmowo; oraz2. Posiadające jakąkolwiek z następujących cech:a. Zawierające wysokopróżniowe (równe lub mniejsze od 0,01 Pa) uszczelnienia wirujące; lubb. Zawierające wbudowane urządzenia do regulowania grubości powłoki;b. Sprzęt produkcyjny do implantacji jonów o natężeniu wiązki 5 mA lub większym;c. Sprzęt produkcyjny do elektronowego naparowywania próżniowego (EB-PVD) zaopatrzony w układy zasilania o mocy powyżej 80 kW, posiadający jakikolwiek z niżej wymienionych podzespołów:1."Laserowy" system regulacji poziomu cieczy, umożliwiający precyzyjne sterowanie podawaniem materiału wsadowego; lub2. System kontroli wydajności, sterowany komputerowo, działający na zasadzie fotoluminescencji zjonizowanych atomów w strumieniu odparowanego czynnika, umożliwiający sterowanie wydajnością napylania pokrycia, składającego się z dwóch lub więcej pierwiastków;d. Sprzęt produkcyjny do napylania plazmowego posiadający jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:1. Możliwość pracy w atmosferze o regulowanym niskim ciśnieniu (równym lub mniejszym od 10 kPa, mierzonym powyżej i w zakresie 300 mm od wylotu dyszy natryskowej) w komorze próżniowej, w której przed rozpoczęciem napylania można obniżyć ciśnienie do 0,01 Pa; lub2. Zawierający wbudowane urządzenia do regulowania grubości powłoki;e. Sprzęt produkcyjny do napylania jonowego zdolny do osiągania prądu o gęstości 0,1 mA/mm2 lub większej przy wydajności napylania 15 μm/h lub wyższej;f. Sprzęt produkcyjny do napylania łukowo-katodowego zawierający siatki elektromagnesów do sterowania łukiem na katodzie;g. Sprzęt produkcyjny do powlekania jonowego umożliwiający przeprowadzenie, na miejscu, pomiaru jednego niżej wymienionych parametrów:1. Grubości powłoki na podłożu i wydajności procesu; lub2. Właściwości optycznych;Uwaga: Pozycja 2B005 nie obejmuje kontrolą urządzeń chemicznego osadzania warstw z faz gazowych, napylania katodowego, napylania jonowego, jonowego powlekania lub implantacji jonów, specjalnie zaprojektowanych do narzędzi tnących i skrawających.2B006Systemy, sprzęt oraz "zespoły elektroniczne" do kontroli wymiarowej lub pomiarów, takie jak:a. Sterowane komputerowo lub "sterowane numerycznie" urządzenia do pomiaru współrzędnych (CMM), posiadające maksymalny dopuszczalny błąd wskazania (MPEE), wzdłuż trzech osi (objętościowy), w dowolnym punkcie zakresu roboczego maszyny (tj. w długości osi) równy lub mniejszy (lepszy) niż (1,7 + L/1000) μm (gdzie L długością, mierzoną w mm), badane stosownie do ISO 10360-2 (2001);NB.: Patrz także pozycja 2B206.b. Przyrządy do pomiaru odchylenia liniowego i kątowego:1. Przyrządy do pomiaru odchylenia liniowego, posiadające jakąkolwiek z niżej wymienionych cech:Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 2B006.b.1. "odchylenie liniowe" oznacza zmianę odległości pomiędzy czujnikiem a obiektem mierzonym.a. Bezstykowe systemy pomiarowe o "rozdzielczości" równej lub mniejszej (lepszej) niż 0,2 um w zakresie pomiarowym do 0,2 mm;b. Liniowe systemy przetworników napięciowych posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1."Liniowość" równą lub mniejszą (lepszą) niż 0,1 %, w zakresie pomiarowym do 5 mm; oraz2. Dryf równy albo mniejszy (lepszy) niż 0,1 % na dzień w standardowej temperaturze pomieszczenia pomiarowego ± 1 °K; lubc. Systemy pomiarowe posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:1. Zawierające "laser"; oraz2. Utrzymujące przez co najmniej przez 12 godzin, przy temperaturze wzorcowej z dokładnością ± 1 °K i przy ciśnieniu wzorcowym wszystkie z poniższych parametrów:a."Rozdzielczość" w pełnym zakresie wynoszącą 0,1 μm lub mniejszą (lepszą); orazb."Niepewność pomiarową" równą lub mniejszą (lepszą) niż (0,2 + L/2000) μm (gdzie L jest długością mierzoną w mm);d."Zespoły elektroniczne" przeznaczone specjalnie do realizacji funkcji sprzężenia zwrotnego w systemach wymienionych w pozycji 2B006.b.1.c:Uwaga: Pozycja 2B006.b.1 nie obejmuje kontrolą interferometrycznych systemów pomiarowych z automatycznym systemem sterowania nie wykorzystującym technik sprzężenia zwrotnego, zawierających "laser" do pomiaru błędów ruchu posuwistego obrabiarek, urządzeń kontroli wymiarów lub podobnego wyposażenia.2. Przyrządy do pomiaru przesunięć kątowych o "odchyleniu położenia kątowego" równym lub mniejszym (lepszym) niż 0,00025°;Uwaga: Pozycja 2B006.b.2 nie obejmuje kontrolą przyrządów optycznych, takich jak autokolimatory, wykorzystujących światło kolimowane, (np. światło lasera) w celu wykrycia odchylenia kątowego zwierciadła.c. Sprzęt do pomiaru nieregularności powierzchni, poprzez pomiar rozproszenia światła w funkcji kąta, o czułości 0,5 nm lub mniejszej (lepszej);Uwaga: Obrabiarki, które można wykorzystać do celów pomiarowych, są objęte kontrolą, jeżeli spełniają lub przewyższają kryteria określone dla funkcji obrabiarki lub funkcji maszyny pomiarowej.2B007"Roboty" posiadające jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych, oraz specjalnie zaprojektowane do nich urządzenia sterujące i "manipulatory", w tym;NB.: Patrz także pozycja 2B207.a. Posiadające możliwość pełnego trójwymiarowego przetwarzania obrazów lub pełnej trójwymiarowej "analizy obrazów" w czasie rzeczywistym, w celu tworzenia albo modyfikacji "programów" lub tworzenia lub modyfikacji numerycznych danych programowych;Uwaga techniczna:Ograniczenie dotyczące 'analizy obrazów' nie obejmuje aproksymacji trzeciego wymiaru poprzez rzutowanie pod zadanym kątem, ani stosowanego w ograniczonym zakresie cieniowania według skali szarości, wykorzystywanego do spostrzegania głębi lub tekstury dla określonych zadań (2 1 / 2 D).b. Specjalnie zaprojektowane w celu spełniania wymagań narodowych norm bezpieczeństwa, stosowanych do środowiskach środków wybuchowych; orazc. Specjalnie zaprojektowane lub odpowiednio wzmocnione przed promieniowaniem, w celu przeciwstawienia się dawce promieniowania wynoszącej 5 × 103 Gy (Si) bez pogorszenia parametrów działania; lubUwaga techniczna:Termin Gy (Si) odnosi się do energii w dżulach na kilogram zaabsorbowanej przez nieekranowaną próbkę krzemu poddaną promieniowaniu jonizującemu.d. Specjalnie zaprojektowana do działania na wysokościach przekraczających 30000 m.2B008Zespoły lub podzespoły specjalnie zaprojektowane do obrabiarek, systemów i sprzętu do kontroli wymiarów oraz systemów pomiarowych i sprzętu pomiarowego, takie jak:a. Podzespoły położenia liniowego ze sprzężeniem zwrotnym (np. urządzenia typu indukcyjnego, z podziałką stopniową, systemy na podczerwień lub "laserowe" posiadające całkowitą "dokładność" mniejszą (lepszą) niż (800 + (600 × L × 10-3)) nm (gdzie L równa się efektywnej długości w mm);NB.: Dla systemów "laserowych", patrz także uwaga do pozycji 2B006.b.1.b. Podzespoły położenia obrotowego ze sprzężeniem zwrotnym (np. urządzenia typu indukcyjnego, z podziałką stopniową, systemy na podczerwień lub "laserowe" posiadające całkowitą "dokładność" mniejszą (lepszą) niż 0,00025°;NB.: Dla systemów "laserowych", patrz także uwaga do pozycji 2B006.b.1.c."Stoły obrotowo-przechylne" oraz "wrzeciona wychylne" umożliwiające, stosownie do danych technicznych producenta, polepszenie parametrów obrabiarek do albo ponad poziomy określone w pozycji 2B.2B009Maszyny do wyoblania i tłoczenia kształtowego, które stosownie do danych technicznych producenta, mogą być wyposażone w zespoły "sterowania numerycznego" lub komputerowego oraz posiadające wszystkie z niżej wymienionych cech:NB.: Patrz także pozycje 2B109 i 2B209.a. Dwie lub więcej osi sterowanych, z których przynajmniej dwie mogą być równocześnie koordynowane w celu "sterowania kształtowego"; orazb. Nacisk wałka większy niż 60 kN.Uwaga techniczna:Maszyny łączące funkcje wyoblania i tłoczenia kształtowego są dla potrzeb pozycji 2B009 traktowane jako urządzenia do tłoczenia kształtowego.2B104"Prasy izostatyczne", różne od wyszczególnionych w pozycji 2B004, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:NB.: Patrz także pozycja 2B204.a. Maksymalne ciśnienie robocze 69 MPa lub większe;b. Skonstruowane dla osiągnięcia i utrzymania środowiska o regulowanych parametrach termicznych rzędu 873 °K (600 °C) lub większych; orazc. Posiadają komorę o średnicy wewnętrznej 254 mm lub większej;2B105Piece do CVD (chemical vapour deposition – chemiczne osadzanie warstw z faz gazowych), inne niż wyszczególnione w pozycji 2B005.a., zaprojektowane lub zmodyfikowane dla zagęszczania kompozytów węglowo-węglowych.2B109Maszyny do tłoczenia kształtowego, różne od wyszczególnionych w pozycji 2B009 oraz specjalnie zaprojektowane komponenty, takie jak:NB.: Patrz także pozycja 2B209.a. Maszyny do tłoczenia kształtowego posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:1. Mogące być wyposażone, według specyfikacji technicznej producenta, w zespoły do "sterowania numerycznego" lub komputerowego, nawet wtedy, kiedy nie są wyposażone w takie zespoły; oraz2. Posiadają więcej niż dwie osie, które mogą być równocześnie koordynowane w celu "sterowania kształtowego";b. Specjalnie zaprojektowane komponenty do maszyn tłoczenia kształtowego, wymienionych w pozycjach 2B009 i 2B109.a;Uwaga: Pozycja 2B109 nie obejmuje kontrolą maszyn nienadających się do produkcji komponentów i sprzętu napędowego (np. osłon silników) do systemów wyszczególnionych w pozycjach 9A005, 9A007.a. lub 9A105.a;Uwaga techniczna:Maszyny łączące funkcje wyoblania i tłoczenia kształtowego są dla potrzeb pozycji 2B109 traktowane jako urządzenia do tłoczenia kształtowego.2B116Systemy do badań wibracyjnych, sprzęt i komponenty z nimi związane, z tego:a. Systemy do badań wibracyjnych, wykorzystujące techniki sprzężenia zwrotnego lub pętli zamkniętej, zawierające sterowniki cyfrowe przystosowane do przyspieszenia o wartości 10 g między 20 Hz a 2 kHz, i przekazujące siły równe lub większe niż 50 kN, mierzone na 'nagim stole';b. Sterowniki cyfrowe współpracujące ze specjalnie opracowanym oprogramowaniem do badań wibracyjnych, cechujące się "pasmem czasu rzeczywistego" powyżej 5 kHz, zaprojektowane do użytku w systemach do badań wibracyjnych wyszczególnionych w pozycji 2B116.a;c. Mechanizmy do wymuszania wibracji (wstrząsarki) wyposażone, albo nie, w odpowiednie wzmacniacze, zdolne do przekazywania sił 50 kN lub większych, mierzonych na 'nagim stole', używane w systemach do badań wibracyjnych wyszczególnionych w pozycji 2B116.a;d. Konstrukcje podtrzymujące próbki do badań oraz urządzenia elektroniczne, zaprojektowane do łączenia wielu wstrząsarek w system umożliwiający uzyskanie łącznej siły skutecznej 50 kN, lub większej, mierzonych na 'nagim stole', i nadające się do użytku w systemach do badań wibracyjnych wyszczególnionych w pozycji 2B116.a.Uwaga techniczna:W pozycji 2B116 pojęcie 'nagi stół' oznacza płaski stół lub powierzchnię bez osprzętu i wyposażenia.2B117Środki do sterowania sprzętem i przebiegiem procesów, różne od wyszczególnionych w pozycjach 2B004, 2B005.a, 2B104 lub 2B105, zaprojektowane lub zmodyfikowane dla zagęszczania i pirolizy kompozytów strukturalnych dysz rakietowych oraz głowic powracających do atmosfery.2B119Maszyny do wyważania i powiązany z nimi sprzęt, z tego:NB.: Patrz także pozycja 2B219.a. Maszyny do wyważania, posiadające wszystkie wymienione niżej cechy charakterystyczne:1. Nienadające się do wyważania wirników/zespołów o masie większej niż 3 kg;2. Nadające się do wyważania wirników/zespołów przy prędkościach obrotowych większych niż 12500 obr./min;3. Nadające się do korekcji niewyważenia w dwu lub więcej płaszczyznach; oraz4. Nadające się do wyważania resztkowego niewyważenia właściwego wynoszącego 0,2 gmm/kg masy wirnika;Uwaga: Pozycja 2B119 nie obejmuje kontrolą wyważarek zaprojektowanych lub zmodyfikowanych dla urządzeń dentystycznych i innego sprzętu medycznego.b. Głowice wskaźników zaprojektowane lub zmodyfikowane do wykorzystania w maszynach wyszczególnionych w pozycji 2B119.a.Uwaga techniczna:Głowice wskaźników określane są czasami jako oprzyrządowanie wyważające.2B120Symulatory ruchu lub stoły obrotowe posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:a. Dwie lub więcej osi;b. Pierścienie ślizgowe do przekazywania zasilania elektrycznego i/lub informacji sygnałowych; orazc. Posiadające jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:1. Posiadającymi dla jakiejkolwiek pojedynczej osi wszystkie niżej wymienione cechy:a. Zdolność do tempa obracania równą 400 °/s lub większą albo 30 °/s lub mniejsą; orazb. Rozdzielczość tempa obracania równą 6 °/s lub mniejszą, z dokładnością równą 6 °/s lub mniejszą.2. Posiadającymi stabilność dla najgorszego przypadku równą lub większą niż ± 0,05 % uśrednioną w zakresie 10 ° lub większym; lub3. Dokładność ustawiania położenia równą lub lepszą niż 5 sekund kątowych.Uwaga: Pozycja 2B120 nie obejmuje kontrolą stołów obrotowych przeznaczonych lub zmodyfikowanych dla obrabiarek lub sprzętu medycznego. Dla uregulowań dotyczących obrabiarkowych stołów obrotowych patrz pozycja 2B008.2B121Stoły pozycjonujące (sprzęt zdolny do precyzyjnego określania położenia kątowego w dowolnej osi), inne niż wyszczególnione w pozycji 2B120, posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne:a. Dwie lub więcej osi;b. Dokładność wyznaczania położenia równą lub lepszą niż 5 sekund kątowych.Uwaga: Pozycja 2B121 nie obejmuje kontrolą stołów obrotowych przeznaczonych lub zmodyfikowanych dla obrabiarek lub sprzętu medycznego. Dla uregulowań dotyczących obrabiarkowych stołów obrotowych patrz pozycja 2B008.2B122Wirówki umożliwiające nadanie przyśpieszenia ponad 100 g i posiadające pierścienie ślizgowe zdolne do przekazywania zasilania elektrycznego i/lub informacji sygnałowych;2B201Obrabiarki i wszelkie ich zestawy poza wymienionymi poniżej w pozycji 2B001, do skrawania lub cięcia metali, materiałów ceramicznych lub "kompozytowych", które stosownie do specyfikacji technicznej producenta mogą być wyposażone w urządzenia elektroniczne do jednoczesnej "sterowania kształtowego" w dwóch lub więcej osiach:a. Frezarki posiadające jakąkolwiek z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Dokładność ustalania położenia, z uwzględnieniem "wszystkich możliwych kompensacji", równa lub mniejsza (lepsza) niż 6 μm, stosownie do ISO 230/2 (1988)[16] lub odpowiedników narodowych, wzdłuż dowolnej osi liniowej; lub2. Dwie lub więcej konturowe osie obrotowe;Uwaga: Pozycja 2B201.a nie obejmuje kontrolą frezarek posiadających następujące cechy charakterystyczne:a.Robocza długość osi x większa niż 2 m; orazb.Dokładność całkowitego ustalenia położenia wzdłuż osi x więcej (gorzej) niż 0,30 μm;b. Szlifierki posiadające jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:1. Dokładność ustalania położenia, z uwzględnieniem "wszystkich możliwych kompensacji", równa lub mniejsza (lepsza) niż 4 μm, stosownie do ISO 230/2 (1988)[17] lub odpowiedników narodowych, wzdłuż dowolnej osi liniowej; lub2. Dwie lub więcej konturowe osie obrotu.Uwaga: Pozycja 2B201.b nie obejmuje kontrolą następujących szlifierek:a.Szlifierek do zewnętrznego, wewnętrznego i zewnętrzno-wewnętrznego szlifowania cylindrycznego posiadających wszystkie niżej wymienione cechy:1.Ograniczenie maksymalnych rozmiarów przedmiotu obrabianego do zewnętrznej średnicy albo długości wynoszącej 150 mm; oraz2.Osie ograniczone do x, z i c;b.Szlifierek współrzędnościowych nieposiadających osi z albo osi w przy ogólnej dokładności pozycjonowania mniejszej (lepszej) niż 4 μm zgonie z ISO 230/2 (1988)[18] lub krajowym odpowiednikiem.Uwaga 1: Pozycja 2B201 nie obejmuje kontrolą obrabiarek do specjalizowanych zastosowań ograniczonych do wytwarzania dowolnych z następujących części:a.Koła zębate;b.Wały korbowe i rozrządowe;c.Narzędzia lub noże do obrabiarek;d.Ślimaki do wytłaczarek.Uwaga 2: Obrabiarki mogące wykonywać co najmniej dwie z trzech funkcji obejmujących: toczenie, frezowanie lub szlifowanie (np. tokarka z możliwością frezowania) podlegają ocenie na podstawie kryteriów dotyczących każdej stosownej pozycji 2B001.a, 2B201.a lub b.2B204"Prasy izostatyczne", różne od wyszczególnionych w pozycjach 2B004, lub 2B104 i sprzęt z nimi związany, w tym:a."Prasy izostatyczne" posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Zdolność do osiągnięcia maksymalnego ciśnienia roboczego równego 69 MPa lub większego; oraz2. Wnękę komorową o średnicy wewnętrznej przekraczającej 152 mm;b. Matryce, formy i zespoły sterujące specjalnie zaprojektowane do "pras izostatycznych" wyszczególnionych w pozycji 2B204.a.Uwaga techniczna:W pozycji 2B204 termin wewnętrznego wymiaru komory oznacza wymiar, w którym osiąga się zarówno temperaturę roboczą, jak i ciśnienie robocze, termin nie obejmuje osprzętu. Wymiar ten będzie mniejszą ze średnic wewnętrznych komory ciśnieniowej lub izolowanej komory paleniskowej, w zależności od tego, która z tych komór jest umieszczona wewnątrz drugiej.2B206Maszyny, przyrządy oraz systemy do kontroli wymiarowej, różne od wyszczególnionych w pozycji 2B006, takie jak:a. Sterowane komputerowo lub "sterowane numerycznie " maszyny do kontroli wymiarowej posiadające obie z niżej wymienionych cech charakterystycznych:1. Dwie lub więcej osi; oraz2."Niepewność pomiarową" wzdłuż jednej z osi, równą lub mniejszą (lepszą) niż (1,25 + L/1000) μm badaną czujnikiem o "dokładności" równej lub mniejszej (lepszej) niż 0,2 μm (gdzie L jest długością mierzoną w mm) (patrz VDI/VDE 2617 część 1 i 2);b. Systemy do jednoczesnej liniowo-kątowej kontroli półpowłok, posiadające obie z niżej wymienionych cech charakterystycznych:1."Niepewność pomiarową" wzdłuż dowolnej osi liniowej, równą lub mniejszą (lepszą) niż 3,5 μm na 5 mm;2."Odchylenie położenia kątowego" równe lub mniejsze niż 0,02°.Uwaga 1: Obrabiarki, które można wykorzystać do celów pomiarowych, są objęte kontrolą, jeżeli spełniają albo przekraczają kryteria określone dla funkcji obrabiarki lub maszyny pomiarowej.Uwaga 2: Maszyna wyszczególniona w pozycji 2B206 jest objęta kontrolą, jeżeli jej zakres pracy przekracza w jakikolwiek sposób próg objęcia kontrolą.Uwagi techniczne:1.Czujnik używany do określenia "niepewności pomiarowej" systemów do kontroli wymiarowej powinien być opisany w częściach 2, 3 i 4 VDI/VDE 2617.2.Wszystkie parametry wartości pomiarowych w pozycji 2B206 reprezentują wartości plus/minus, tj. pasmo niepełne.2B207"Roboty", "manipulatory" i jednostki sterujące, różne od wyszczególnionych w pozycji 2B007, takie jak:a."Roboty", "manipulatory" specjalnie zaprojektowane przy spełnieniu narodowych norm bezpieczeństwa stosowanych do obsługiwania kruszących materiałów wybuchowych (np. spełniające warunki ujęte w przepisach elektrycznych, stosowanych do kruszących materiałów wybuchowych);b. Jednostki sterujące, specjalnie zaprojektowane do "robotów" i "manipulatorów" wyszczególnionych w pozycji 2B207.a.2B209Maszyny do tłoczenia kształtowego, maszyny do wyoblania kształtowego posiadające możliwość realizacji funkcji tłoczenia kształtowego, różne od wyszczególnionych w pozycjach 2B009 lub 2B109, lub trzpienie, z tego:a. Maszyny posiadające obydwie, niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Trzy lub więcej wałki (aktywne lub prowadzące); oraz2. Mogące, zgodnie ze specyfikacją techniczną producenta, być wyposażone w układy "sterowania numerycznego" lub sterowania komputerowego;b. Trzpienie do formowania wirników zaprojektowane do formowania wirników cylindrycznych o średnicy wewnętrznej pomiędzy 75 mm a 400 mm:Uwaga: Pozycja 2B209.a. obejmuje maszyny posiadające tylko pojedynczy wałek zaprojektowany do deformowania metalu oraz dwa pomocnicze wałki podtrzymujące trzpień, ale nieuczestniczące bezpośrednio w procesie deformacji.2B219Odśrodkowe maszyny do wielopłaszczyznowego wyważania, stałe lub przenośne, poziome lub pionowe, z tego:a. Wyważarki odśrodkowe zaprojektowane do wyważania elastycznego wirników o długości 600 mm lub większej, posiadających wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Wychylenie lub średnica czopa powyżej 75 mm;2. Zdolność do wyważania zespołów o masie od 0,9 do 23 kg; oraz3. Zdolność do prędkości obrotowych w czasie wyważania powyżej 5000 obr./min.;b. Wyważarki odśrodkowe zaprojektowane do wyważania cylindrycznych zespołów wirnika, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Średnica czopa powyżej 75 mm;2. Zdolność do wyważania zespołów o masie od 0,9 do 23 kg;3. Zdolność wyważania z niewyważeniem szczątkowym rzędu 0,01 kg x mm/kg dla jednej płaszczyzny, lub mniejszym; oraz4. Napęd pasowy.2B225Zdalnie sterowane manipulatory, które mogą być stosowane do zdalnego wykonywania prac podczas rozdzielania radiochemicznego oraz w komorach gorących, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Możliwość pokonania ściany komory gorącej o grubości 0,6 m lub większej (dla operacji wykonywanych poprzez ścianę); lubb. Możliwość zmostkowania ponad szczytem ściany komory gorącej o grubości 0,6 m lub większej (dla operacji wykonywanych ponad ścianą).Uwaga techniczna:Zdalnie sterowane manipulatory przekształcają działanie człowieka – operatora, na ramię robocze i uchwyt końcowy. Mogą występować jako typu "master/slave" lub posiadać sterowanie przez joystick lub klawiaturę.2B226Piece indukcyjne z regulowaną atmosferą (próżniowe lub z gazem obojętnym) i instalacje do ich zasilania, takie jak:NB.: Patrz także pozycja 3B.a. Piece posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Zdolność do pracy w temperaturach powyżej 1123 °K (850 °C);2. Wyposażone w cewki indukcyjne o średnicy 600 mm; lub mniejszej; oraz3. Zaprojektowane do 5 kW lub większego poboru mocy;b. Instalacje zasilające, o wydajności nominalnej 5 kW lub większej, specjalnie zaprojektowane do pieców wyszczególnionych w pozycji 2B226.a.Uwaga: Pozycja 2B226.a nie obejmuje kontrolą pieców przeznaczonych do przetwarzania płytek półprzewodnikowych.2B227Próżniowe oraz posiadające inną regulowaną atmosferę, roztapiające i odlewnicze piece metalurgiczne, oraz sprzęt z nimi związany, w tym:a. Piece łukowe do przetapiania i odlewania, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. O wydajności elektrody topliwej pomiędzy 1000 cm3 a 20000 cm3, oraz2. Zdolne do pracy w temperaturach topienia powyżej 1973 °K (1700 °C);b. Piece do topienia wiązką elektronów oraz plazmowe piece do atomizacji i topienia, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Moc 50 kW lub większa; oraz2. Zdolne do pracy w temperaturach topnienia powyżej 1473 °K (1200 °C);c. Komputerowe systemy do sterowania i śledzenia przebiegu procesów, specjalnie skonfigurowane do jakichkolwiek pieców wyszczególnionych w pozycji 2B227.a lub b.2B228Sprzęt do wytwarzania, montażu oraz prostowania wirników, trzpienie i matryce do formowania mieszków, w tym:a. Sprzęt do montażu wirników, przeznaczony do montażu sekcji rurowych wirników odśrodkowych wirówek gazowych, przegród oraz pokryw;Uwaga: Pozycja 2B228.a. obejmuje precyzyjne trzpienie, zaciski i maszyny do pasowania skurczowego.b. Sprzęt prostowania wirników, przeznaczony do osiowania sekcji rurowych wirników odśrodkowych wirówek gazowych na wspólnej osi.Uwaga techniczna:W pozycji 2B228.b. taki sprzęt składa się zazwyczaj z dokładnych czujników pomiarowych, podłączonych do komputera, sterującego następnie pracą, np. pneumatycznego bijaka wykorzystywanego do ustawiania sekcji rurowych wirnika.c. Trzpienie i matryce do formowania mieszków, służące do wytwarzania mieszków jednozwojowych.Uwaga techniczna:Mieszki, o których mowa w pozycji 2B228.c, posiadają wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1.Średnica wewnętrzna pomiędzy 75 mm a 400 mm;2. Długość równą lub większą 12,7 mm;3. Głębokość pojedynczego zwoju większa niż 2 mm; oraz4. Wykonane z wysokowytrzymałych stopów aluminium, stali maraging lub wysokowytrzymałych "materiałów włóknistych lub włókienkowych".2B230"Przetworniki ciśnienia" zdolne do pomiaru ciśnienia bezwzględnego w dowolnym punkcie z przedziału od 0 do 13 kPa, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Wyposażone w czujniki ciśnień wykonane z aluminium, stopów aluminium, niklu lub stopów niklu o zawartości wagowej niklu ponad 60 %, lub też zabezpieczone tymi materiałami; orazb. Posiadające którąś z niżej wymienionych cech charakterystycznych:1. Pełny zakres pomiarowy poniżej 13 kPa oraz 'dokładność' lepsza niż ± 1 % (w całym zakresie); lub2. Pełny zakres pomiarowy wynoszący 13 kPa lub więcej oraz'dokładność' lepsza niż ± 130 kPa.Uwaga techniczna:Dla potrzeb pozycji 2B230 pojęcie 'dokładność' obejmuje nieliniowość, histerezę i powtarzalność w temperaturze otoczenia.2B231Pompy próżniowe posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Gardziel wlotową o średnicy równej lub większej 380 mm;b. Wydajność pompowania równą lub większą 15 m3/s; orazc. Zdolne do wytwarzania próżni końcowej o ciśnieniu lepszej niż 13 mPa.Uwagi techniczne:1.Wydajność pompowania jest określona poprzez pomiar z użyciem azotu lub powietrza.2.Próżnia końcowa jest określana na wlocie do pompy po jego zatkaniu.2B232Wielostopniowe lekkie działa gazowe lub inne wysokoprędkościowe systemy miotające (cewkowe, elektromagnetyczne, elektrotermiczne lub inne rozwinięte systemy) zdolne do przyspieszania pocisków do prędkości 2 km/s lub większej.2B350Instalacje do produkcji substancji chemicznych, sprzęt i komponenty, z tego:a. Zbiorniki reakcyjne lub reaktory, wyposażone lub nie wyposażone w mieszadła, o całkowitej pojemności wewnętrznej (geometrycznej) powyżej 0,1 m3 (100 litrów) i poniżej 20 m3 (20000 litrów), w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Polimerów fluorowych;3. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);4. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;5. Tantalu lub stopów tantalu;6. Tytanu lub stopów tytanu; lub7. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;b. Mieszadła do zbiorników reakcyjnych lub reaktorów, wyszczególnionych w pozycji 2B350.a, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Polimerów fluorowych;3. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);4. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;5. Tantalu lub stopów tantalu;6. Tytanu lub stopów tytanu; lub7. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;c. Zbiorniki magazynowe, zasobniki lub odbiorniki o całkowitej pojemności wewnętrznej (geometrycznej) powyżej 0,1 m3 (100 litrów), w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Polimerów fluorowych;3. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);4. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;5. Tantalu lub stopów tantalu;6. Tytanu lub stopów tytanu; lub7. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;d. Wymienniki ciepła lub skraplacze o polu powierzchni wymiany ciepła powyżej 0,15 m2, oraz poniżej 20 m2, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Polimerów fluorowych;3. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);4. Grafitu lub 'grafitu węglowego';5. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;6. Tantalu lub stopów tantalu;7. Tytanu lub stopów tytanu; lub8. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;9. Węglika krzemu; lub10. Węglika tytanowego;e. Kolumny destylacyjne lub absorpcyjne o średnicy wewnętrznej powyżej 0,1 m, oraz rozdzielacze cieczy i par, kolektory cieczy, zaprojektowane do takich kolumn destylacyjnych lub absorpcyjnych, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Polimerów fluorowych;3. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych, albo wykładanych szkłem);4. Grafitu lub 'grafitu węglowego';5. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;6. Tantalu lub stopów tantalu;7. Tytanu lub stopów tytanu; lub8. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;f. Zdalnie sterowany sprzęt napełniający, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu; lub2. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;g. Zawory o wymiarach znamionowych większych niż 10 mm oraz obudowy (korpusy zaworów) lub wstępnie uformowane wkładki doosłonowe, zaprojektowane do takich zaworów, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Polimerów fluorowych;3. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);4. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;5. Tantalu lub stopów tantalu;6. Tytanu lub stopów tytanu; lub7. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;h. Rury wielościenne, zawierające okna do wykrywania nieszczelności, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Polimerów fluorowych;3. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);4. Grafitu lub 'grafitu węglowego';5. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;6. Tantalu lub stopów tantalu;7. Tytanu lub stopów tytanu; lub8. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;i. Pompy wielokrotnie uszczelnione i nieuszczelnione, o maksymalnym natężeniu przepływu, według specyfikacji producenta, powyżej 0,6 m3/h, lub pompy próżniowe o maksymalnym natężeniu przepływu, według specyfikacji producenta, powyżej 5 m3/h (w warunkach znormalizowanej temperatury (273 °K (0 °C)) oraz ciśnienia (101,3 kPa)), w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Materiałów ceramicznych;3. Żelazokrzemu;4. Polimerów fluorowych;5. Szkła (w tym materiałów powlekanych szkliwami lub emaliowanych, albo wykładanych szkłem);6. Grafitu lub 'grafitu węglowego';7. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;8. Tantalu lub stopów tantalu;9. Tytanu lub stopów tytanu; lub10. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;j. Piece do spopielania, zaprojektowane do niszczenia substancji chemicznych wyszczególnionych w pozycji 1C350, posiadające specjalnie zaprojektowane systemy doprowadzania odpadów, specjalne urządzenia obsługujące oraz przeciętną temperaturę w komorze spalania powyżej 1273 °K (1000 °C), w których wszystkie powierzchnie w systemie doprowadzania odpadów posiadające bezpośredni kontakt z odpadami wykonane są z jednego z następujących materiałów lub nim pokryte:1. Stopów o zawartości wagowej powyżej 25 % niklu i 20 % chromu;2. Materiałów ceramicznych; lub3. Niklu lub stopów o zawartości wagowej niklu powyżej 40 %;Uwaga techniczna:'Grafit węglowy' jest substancją składającą się z węgla amorficznego i grafitu, w której zawartość wagowa składnika, jakim jest grafit wynosi 8 % lub więcej.2B351Systemy monitorowania gazów toksycznych; oraz przeznaczone do nich czujniki, w tym:a. Przeznaczone do ciągłej pracy i wykorzystywane do wykrywania bojowych środków chemicznych lub środków chemicznych wyszczególnionych w pozycji 1C350, w stężeniach poniżej 0,3 mg/m3; lubb. Przeznaczone do wykrywania aktywności wstrzymującej cholinoesterazę.2B352Sprzęt zdolny do wykorzystania przy obsługiwaniu materiałów biologicznych, taki jak:a. Kompletne biologiczne obudowy zabezpieczające dla P3, P4 poziomu zabezpieczenia;Uwaga techniczna:Poziomy zabezpieczenia P3 lub P4 (BL3, BL4, L3, L4) są wyszczególnione w instrukcji WHO dotyczącej bezpieczeństwa biologicznego laboratoriów (wydanie drugie, Genewa 1993).b. Kadzie fermentacyjne, pozwalające na namnażanie "mikroorganizmów" chorobotwórczych i wirusów lub umożliwiające produkcję "toksyn", bez rozprzestrzeniania aerozoli, posiadające pojemność całkowitą równą 20 litrów lub większą;Uwaga techniczna:Do kadzi fermentacyjnych zalicza się bioreaktory, chemostaty oraz instalacje o przepływie ciągłym.c. Separatory odśrodkowe, zdolne do ciągłego oddzielania bez rozprzestrzeniania aerozoli, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Natężenie przepływu powyżej 100 l/h;2. Wykonanie elementów z polerowanej stali nierdzewnej lub tytanu;3. Jedno lub więcej złącze uszczelniane w obszarze występowania pary wodnej; oraz4. Zdolne do sterylizacji w stanie zamkniętym na miejscu;Uwaga techniczna:Do separatorów odśrodkowych zalicza się również dekantery.d. Sprzęt filtrujący o poprzecznym (stycznym) przepływie oraz komponenty, w tym:1. Sprzęt filtrujący o poprzecznym (stycznym) przepływie, zdolny do ciągłego rozdzielania chorobotwórczych mikroorganizmów, wirusów, toksyn i kultur komórkowych, bez rozprzestrzeniania aerozoli, posiadający obie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Całkowite pole powierzchni filtrujące równej lub większe niż 1 m2; orazb. Zdolny do wysterylizowania lub odkażenia na miejscu; oraz ;Uwaga techniczna:W pozycji 2B352.d.1.b sterylizacja oznacza likwidację wszystkich żyjących mikroorganizmów ze sprzętu poprzez użycie czynnika fizycznego (np. para wodna) lub chemicznego. Odkażenie oznacza zniszczenie potencjalnego zagrożenia mikrobiologicznego sprzętu poprzez użycie czynników chemicznych o właściwościach bakteriobójczych. Odkażenie i sterylizacja różnią się od oczyszczania, które odnosi się do procedur oczyszczenia, zaprojektowanych w celu obniżenia składnika mikrobiologicznego w sprzęcie, bez konieczności dokonania likwidacji wszystkich zagrożeń mikrobiologicznych lub utrzymujących się przy życiu mikroorganizmów.2. Komponenty do filtracji o poprzecznym (stycznym) przepływie (np. moduły, elementy, kasety, pojemniki, zespoły lub płyty) o powierzchni filtrującej równej lub większej niż 0,2 m2 dla każdego komponentu i zaprojektowane do użycia w sprzęcie do filtracji o poprzecznym (stycznym) przepływie wyszczególnionym w pozycji 2B352.d;Uwaga: Pozycja 2B352.d nie obejmuje kontrolą sprzętu odwracania osmozy, jako określonego przez producenta.e. Sterylizowany parą wodną sprzęt do liofilizacji o wydajności kondensora przekraczającej 10 kg lodu w ciągu 24 godzin i mniejszej do 1000 kg lodu w ciągu 24 godzin;f. Sprzęt zabezpieczenia i obudowy, taki jak:1. Pełne lub częściowe obudowy ochronne lub kołpaki uzależnione od dowiązanego zewnętrznego źródła powietrza, pracującego pod nadciśnieniem;Uwaga: Pozycja 2B352.f.1 nie obejmuje kontrolą kombinezonów zaprojektowanych do noszenia z niezależnym aparatem do oddychania.2. Komory klasy III bezpieczeństwa biologicznego lub izolatory o podobnych znormalizowanych wymaganiach;Uwaga: W pozycji 2B352.f.2 izolatory obejmują elastyczne pojemniki izolowane, komory suche, komory anaerobowe oraz komory rękawowe (zamknięte z pionowym przepływem).g. Komory zaprojektowane do testowania tożsamości aerozoli zawierających "mikroorganizmy", wirusy lub "toksyny" oraz posiadające pojemność 1 m3 lub większą.2CMateriałyŻadne.2DOprogramowanie2D001"Oprogramowanie" różne od wyszczególnionego w pozycji 2D002, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń wyszczególnionych w pozycjach 2A001 lub 2B001 do 2B009.2D002"Oprogramowanie"urządzeń elektronicznych, nawet rezydujące w elementach elektronicznych urządzenia lub systemu, pozwalające działać tym urządzeniom lub systemom jako jednostki "sterowania numerycznego", umożliwiające jednoczesną koordynację więcej niż czterech osi w celu "sterowania kształtowego".Uwaga 1: Pozycja 2D002 nie obejmuje kontrolą "oprogramowania" specjalnie zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do użytkowania obrabiarek nie wyszczególnionych w Kategorii 2.Uwaga 2: Pozycja 2D002 nie obejmuje kontrolą "oprogramowania" do obiektów wyszczególnionych w pozycji 2B002. Patrz pozycja 2D001 dla uregulowań dotyczących "oprogramowania" do obiektów wyszczególnionych w pozycji 2B002.2D101"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycjach 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 lub 2B119 do 2B122.NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9D004.2D201"Oprogramowanie"specjalnie zaprojektowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycjach 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 lub 2B227.2D202"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 2B201.2ETechnologia2E001"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "rozwoju" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 2A, 2B lub 2D.2E002"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "produkcji"sprzętu wyszczególnionego w pozycjach 2A lub 2B.2E003Inna "technologia", taka jak:a."Technologia" do "rozwoju" grafiki interakcyjnej jako integralnej części jednostek "sterowanych numerycznie" przeznaczonych do przygotowania lub modyfikacji programów obróbki części;b."Technologia" do procesów wytwarzania obróbką metali:1."Technologia" projektowania narzędzi, form lub uchwytów specjalnie zaprojektowanych do jednego z następujących procesów:a."Formowania w stanie nadplastycznym";b."Zgrzewania dyfuzyjnego";c."Bezpośredniego wytłaczania hydraulicznego";2. Dane techniczne, zawierające metody lub parametry procesu, wykorzystywane do sterowania, takie jak:a."Formowanie w stanie nadplastycznym" stopów aluminium, stopów tytanu lub "nadstopów":1. Przygotowanie powierzchni;2. Właściwości plastyczne;3. Temperatura;4. Ciśnienie;b."Zgrzewanie dyfuzyjne""nadstopów" lub stopów tytanu:1. Przygotowanie powierzchni;2. Temperatura;3. Ciśnienie;c."Bezpośrednie wytłaczanie hydrauliczne" stopów aluminium lub tytanu:1. Ciśnienie;2. Czas cyklu;d."Izostatyczne zagęszczanie na gorąco" stopów tytanu, aluminium lub "nadstopów":1. Temperatura;2. Ciśnienie;3. Czas cyklu;c."Technologia" do "rozwoju"lub "produkcji" obciągarek hydraulicznych i form do nich, wykorzystywanych do wytwarzania struktur płatowca;d."Technologia" do "rozwoju" generatorów instrukcji dla obrabiarek (np. programów do obróbki części) na podstawie danych konstrukcyjnych rezydujących w urządzeniach "sterowanych numerycznie";e."Technologia" do "rozwoju" zintegrowanego"oprogramowania" do wprowadzania systemów eksperckich do wspomagania procesu decyzyjnego pracy warsztatowej, przeznaczonego do urządzeń "sterowanych numerycznie";f."Technologia" do stosowania pokryć powłokami nieorganicznymi lub powłokami nieorganicznymi modyfikowanymi powierzchniowo (wyszczególnionymi w kolumnie 3 poniższej tabeli) na podłoża nieelektroniczne (wyszczególnione w kolumnie 2 poniższej tabeli) za pomocą procesów wyszczególnionych w kolumnie 1 poniższej tabeli i zdefiniowanych w uwadze technicznej;Uwaga: Tabela i uwaga techniczna znajdują się za pozycją 2E3001.2E101"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 2B004, 2B104, 2B109, 2B116 2B119 do 2B122 lub 2D101.2E201"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 do 2B232, 2D201 lub 2D202.2E301"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "użytkowania" towarów wyszczególnionych w pozycjach 2B350 do 2B352.Tabela |Techniki powlekania |1. Technika powlekania (1)[19] | 2. Podłoże | 3. Powłoka wynikowa |A. Osadzanie z pary lotnej (CVD) | "Nadstopy" | Glinki na kanały wewnętrzne |Podłoża ceramiczne (19) i szkło o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) | Krzemki Węgliki Warstwy dielektryczne (15) Diament Węgiel diamentopodobny (17) |"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej | Krzemki Węgliki Metale ogniotrwałe Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Glinki Glinki stopowe (2) Azotek boru |Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu (18) | Węgliki Wolfram Mieszanki powyższych (4) Warstwy dielektryczne (15) |Molibden i stopy molibdenu | Warstwy dielektryczne (15) |Beryl i stopy berylu | Warstwy dielektryczne (15) Diament Węgiel diamentopodobny (17) |Materiały na okienka wziernikowe (9) | Warstwy dielektryczne (15) Diament Węgiel diamentopodobny (17) |B. Termiczne naparowywanie próżniowe (TE-PVD) |B.1. Naparowywanie próżniowe (PVD): wiązką elektronów (EB-PVD) | "Nadstopy" | Krzemki stopowe Glinki stopowe (2) MCrAlX (5) Zmodyfikowany cyrkon (12) Krzemki Glinki Ich mieszaniny (4) |Podłoża ceramiczne (19) i szkło o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) | Warstwy dielektryczne (15) |Stale odporne na korozję (7) | MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Ich mieszaniny (4) |"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej | Krzemki Węgliki Metale ognioodporne Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Azotek boru |Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu (18) | Węgliki Wolfram Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) |Molibden i stopy molibdenu | Molibden i stopy molibdenu |Beryl i stopy berylu | Warstwy dielektryczne (15) Borki Beryl |Materiały na okienka wziernikowe (9) | Warstwy dielektryczne (15) |Stopy tytanu (13) | Borki Azotki |B.2. Napylanie techniką ogrzewania oporowego wspomaganego (PVD) (Pokrywanie jonowe) | Podłoża ceramiczne (19) i szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) | Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej | Warstwy dielektryczne (15) |Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu | Warstwy dielektryczne (15) |Molibden i stopy molibdenu | Warstwy dielektryczne (15) |Beryl i stopy berylu | Warstwy dielektryczne (15) |Materiały na okienka wziernikowe (9) | Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |B.3. Napylanie próżniowe (PVD): "odparowywanie laserowe" | Podłoża ceramiczne (19) i szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) | Krzemki Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej | Warstwy dielektryczne (15) |Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu | Warstwy dielektryczne (15) |Molibden i stopy molibdenu | Warstwy dielektryczne (15) |Beryl i stopy berylu | Warstwy dielektryczne (15) |Materiały na okienka wziernikowe (9) | Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |B.4. Naparowywanie próżniowe (PVD): za pomocą łuku katodowego | "Nadstopy" | Krzemki stopowe Glinki stopowe (2) MCrAlX (5) |"Polimery" (11) oraz "materiały kompozytowe" na "matrycy" organicznej | Borki Węgliki Azotki Węgiel diamentopodobny (17) |C. Osadzanie fluidyzacyjne (patrz A powyżej dla innych technik) (10) | "Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej | Krzemki Węgliki Ich mieszaniny (4) |Stopy tytanu (13) | Krzemki Glinki Glinki stopowe (2) |Metale i stopy ognioodporne (8) | Krzemki Tlenki |D. Napylanie plazmowe | Nadstopy | MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Ich mieszaniny (4) Materiał ścierny nikiel-grafit Materiał ścierny Ni-Cr-Al-Bentonit Materiał ścierny Al-Si-Poliester Glinki stopowe (2) |Stopy aluminium (6) | MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Krzemki Ich mieszaniny (4) |Metale i stopy ognioodporne (8) | Glinki Krzemki Węgliki |Stale odporne na korozję (7) | Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) MCrAlX (5) Ich mieszaniny (4) |Stopy tytanu (13) | Węgliki Glinki Krzemki Glinki stopowe (2) Materiały ścierne nikiel-grafit Materiały ścierne Ni-Cr-Al Materiały ścierne Al-Si-Poliester |E. Powlekanie zawiesinowe | Metale i stopy ognioodporne (8) | Krzemki stopione Glinki stopione z wyjątkiem elementów do nagrzewania oporowego |"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej | Krzemki Węgliki Ich mieszaniny (4) |F. Rozpylanie jonowe | "Nadstopy" | Krzemki stopowe Glinki stopowe (2) Glinki zmodyfikowane metalem szlachetnym (3) MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Platyna Ich mieszaniny (4) |Materiały ceramiczne i szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) | Krzemki Platyna Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |Stopy tytanu (13) | Borki Azotki Tlenki Krzemki Glinki Glinki stopowe (2) Węgliki |"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej | Krzemki Węgliki Metale ognioodporne Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Azotek boru |Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu (18) | Węgliki Wolfram Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Azotek boru |Molibden i stopy molibdenu | Warstwy dielektryczne (15) |Beryl i stopy berylu | Borki Warstwy dielektryczne (15) Beryl |Materiały na okienka wziernikowe (9) | Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |Metale i stopy ognioodporne (8) | Glinki Krzemki Tlenki Węgliki |G. Implantacja jonów | Żarowytrzymałe stale łożyskowe | Dodatki chromu, tantalu lub niobu |Stopy tytanu (13) | Borki Azotki |Beryl i stopy berylu | Borki |Spiekany węglik wolframu (16) | Węgliki Azotki |Uwagi do tabeli technik powlekania1. Termin "technika powlekania" obejmuje zarówno naprawę i odnawianie powłok, jak i nakładanie nowych.2. Termin "powłoka z glinku stopowego" obejmuje powłoki uzyskane w procesie jedno- albo wieloetapowym, w którym każdy pierwiastek albo pierwiastki są nakładane przed albo podczas nakładania powłoki glinkowej, nawet, jeżeli pierwiastki te są nakładane podczas innego procesu powlekania. Jednakże nie obejmuje to przypadku wieloetapowego stosowania jednostopniowych procesów osadzania fluidyzacyjnego, mającego na celu uzyskanie glinków stopowych.3. Termin "powłoka z glinku modyfikowanego metalem szlachetnym" obejmuje powłoki wytwarzane w procesie wieloetapowym, podczas którego przed położeniem powłoki z glinku na podłoże nakładany jest, w innym procesie powlekania, jeden albo kilka metali szlachetnych.4. Termin "ich mieszaniny" obejmuje kombinacje, zawierające przesycony materiał powłoki podłoża, składników pośrednich, materiału współosadzonego oraz wielowarstwowego materiału osadzonego i będące wytwarzane jedną albo kilku technikami powlekania, wymienionymi w tabeli.5. Przez termin "MCrAlX" należy rozumieć powłokę stopową, w której M oznacza kobalt, żelazo, nikiel lub ich kombinację, a X hafn, itr, krzem, tantal w dowolnych lub innych zamierzonych ilościach dodatkowych, wynoszących wagowo powyżej 0,01 % w różnych proporcjach i kombinacjach, z wyjątkiem:a. Powłok CoCrAlY, w których znajduje się wagowo poniżej 22 % chromu, poniżej 7 % aluminium i poniżej 2 % itru;b. Powłok CoCrAlY, w których znajduje się wagowo 22 do 24 % chromu, 10 do 12 % aluminium i 0,5 do 0,7 % itru; lubc. Powłok NiCrAlY, w których znajduje się wagowo 21 do 23 % chromu, 10 do 12 % aluminium i 0,9 do 1,1 % itru.6. Termin "stopy aluminium" dotyczy stopów, których wytrzymałość na rozciąganie, mierzona w temperaturze 293 °K (20 °C), wynosi 190 MPa lub więcej.7. Termin "stale odporne na korozję" odnosi się do stali serii 300 według AISI (American Iron and Steel Institute) lub równoważnych norm narodowych.8. Do metali żarowytrzymałych zalicza się następujące metale i ich stopy: niob, molibden, wolfram i tantal.9."Materiały na okienka wziernikowe", takie jak: tlenek glinu, krzem, german, siarczek cynku, selenek cynku, arsenek galu, diament, fosforek galu oraz następujące halogenki metali: materiały na okienka wziernikowe o średnicy powyżej 40 mm z fluorku cyrkonu i fluorku hafnu.10. Kategoria 2 nie obejmuje kontrolą "technologii" jednoetapowego utwardzania techniką cieplno-chemiczną litych profili aerodynamicznych.11. Polimery, takie jak: poliimidy, poliestry, polisiarczki, poliwęglany i poliuretany.12. Termin "zmodyfikowany tlenek cyrkonowy" odnosi się do tlenku cyrkonowego z dodatkami innych tlenków metali, np. tlenku wapnia, tlenku magnezu, tlenku itru, tlenku hafnu, tlenków lantanowców itp. dodanymi w celu stabilizacji pewnych faz krystalicznych i składników faz. Powłoki przeciwtermiczne wykonane z tlenku cyrkonowego modyfikowanego poprzez mieszanie albo stapianie z tlenkiem wapnia albo magnezu, nie są objęte kontrolą.13. Termin "stopy tytanu" odnosi się jedynie do stopów stosowanych w technice kosmicznej, których wytrzymałość na rozciąganie, mierzona w temperaturze 293 °K (20 °C), wynosi 900 MPa lub więcej.14. Termin "szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej" odnosi się do szkieł, dla których wartość współczynnika rozszerzalności cieplnej, mierzona w temperaturze 293 °K (20 °C), wynosi 1 × 10–7 K–1 lub mniej.15. Termin "warstwy dielektryczne" odnosi się do powłok wielowarstwowych z materiałów izolacyjnych, w których interferencyjne właściwości konstrukcji złożonej z materiałów o różnych współczynnikach załamania są wykorzystywane do odbijania, przepuszczania lub pochłaniania fal o różnych długościach. Warstwy dielektryczne odnoszą się do materiałów składających się z więcej niż czterech warstw dielektrycznych lub warstw "kompozytów" dielektryk/metal.16."Spiekany węglik wolframu" nie obejmuje materiałów na narzędzia skrawające i formujące wykonane z węglika wolframu/(kobaltu, niklu), węglika tytanu/(kobaltu, niklu), węglika chromu/nikiel-chrom i węglika chromu/nikiel.17."Technologia" specjalnie zaprojektowana do nakładania węgla diamentopodobnego na jakikolwiek z niżej wymienionych produktów nie podlega kontroli:dyski i głowice magnetyczne, urządzenia do wytwarzania produktów jednorazowych, zawory do kranów, membrany do głośników, części silników samochodowych, narzędzia tnące, matryce do tłoczenia-wykrawania, sprzęt do automatyzacji prac biurowych, mikrofony, urządzenia medyczne.18."Węglik krzemu" nie obejmuje materiałów dla narzędzi do cięcia i formowania.19. Podłoża ceramiczne, w rozumieniu tej pozycji nie obejmują materiałów ceramicznych zawierających wagowo 5 % lub więcej gliny lub cementu, zarówno w postaci oddzielnych składników, jak i ich kombinacji.Definicje procesów wymienionych w kolumnie 1 tabeli:a. Osadzanie z pary lotnej (CVD) jest procesem nakładania powłoki albo modyfikacji powierzchni podłoża, polegającym na osadzaniu na rozgrzanym podłożu metalu, stopu, "kompozytu", dielektryka albo materiału ceramicznego. W sąsiedztwie podłoża następuje rozkład albo łączenie gazowych substratów reakcji, wskutek czego osadza się na nim pożądany pierwiastek, stop albo związek. Potrzebna do rozkładu związków albo do reakcji chemicznych energia może być dostarczana przez rozgrzane podłoże, plazmę z wyładowań jarzeniowych lub za pomocą "lasera".NB. 1: CVD obejmuje następujące procesy: osadzanie w ukierunkowanym przepływie gazów bez zanurzania w proszku, CVD pulsujące, rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem (CNTD), CVD intensyfikowane albo wspomagane za pomocą plazmy.NB. 2: Zanurzanie w proszku polega na zanurzaniu podłoża w mieszaninie sproszkowanych substancji.NB. 3: Gazowe substraty reakcji, wykorzystywane w technice, w której nie stosuje się zanurzania w proszku, są wytwarzane podczas takich samych reakcji podstawowych i przy takich samych parametrach jak w przypadku osadzania fluidyzacyjnego: z tym wyjątkiem, że powlekane podłoże nie styka się z mieszaniną proszku.b. Naparowywanie termiczne – fizyczne osadzanie par (TE-PVD) jest procesem powlekania w próżni przy ciśnieniach poniżej 0,1 Pa, w której do odparowania materiału powlekającego używa się energii termicznej. Rezultatem tego procesu jest kondensacja albo osadzenie odparowanych składników na odpowiednio usytuowanych powierzchniach.Zwykle proces ten jest modyfikowany poprzez wpuszczanie dodatkowych gazów do komory próżniowej podczas powlekania, co umożliwia wytwarzanie powłok o złożonym składzie.Innym, powszechnie stosowanym sposobem jego modyfikacji jest używanie wiązki jonów albo elektronów lub plazmy do intensyfikacji albo wspomagania osadzania powłoki. W technice tej można stosować monitory do bieżącego pomiaru parametrów optycznych i grubości powłoki.Wyróżnia się szczególne procesy TE-PVD, takie jak:1. PVD z zastosowaniem wiązki elektronów – do rozgrzania i odparowania materiału, który ma stanowić powłokę, używa się wiązki elektronów;2. PVD z ogrzewaniem oporowym – do wytwarzania odpowiedniego i równomiernego strumienia odparowanych składników powłokowych wykorzystywane są źródła elektrycznego ogrzewania oporowego w kombinacji z uderzającą wiązką jonów;3. Odparowanie "laserowe" wykorzystujące ciągłą lub impulsową wiązkę "laserową" do ogrzania materiału przeznaczonego na powłokę;4. Metoda osadzania za pomocą łuku katodowego wykorzystująca zużywającą się katodę wykonaną z materiału mającego stanowić powłokę; łuk wywoływany jest na powierzchni tego materiału poprzez chwilowy kontakt inicjujący. Kontrolowany ruch łuku powoduje erozję powierzchni katody, wytwarzając wysoko zjonizowaną plazmę. Anodę może stanowić stożek osadzony w izolatorze na obwodzie katody albo sama komora. Osadzanie w miejscach nieleżących na linii biegu wiązki uzyskuje się dzięki odpowiedniej polaryzacji podłoża.NB. Definicja ta nie obejmuje bezładnego osadzania wspomaganego łukiem katodowym w przypadku powierzchni niepolaryzowanych.5. Powlekanie jonowe stanowi specjalną modyfikację procesu TE- PVD, w której do jonizacji osadzanych składników jest wykorzystywane źródło plazmy albo jonów, natomiast podłoże jest polaryzowane ujemnie, co ułatwia wychwytywania z plazmy tych składników, które mają być osadzone. Do często spotykanych odmian tej techniki należą: wprowadzanie składników aktywnych, odparowywanie substancji stałych wewnątrz komory roboczej oraz bieżący pomiar parametrów optycznych i grubości powłok za pomocą monitorów.c. Osadzanie fluidyzacyjne jest procesem powlekania albo modyfikacji powierzchni podłoża, w której podłoże jest zanurzane w mieszaninie proszków, składającej się z:1. Proszków metalicznych, mających ulec osadzeniu (zazwyczaj aluminium, chrom, krzem lub ich kombinacje);2. Aktywatora (zazwyczaj sól halogenkowa); oraz3. Proszku obojętnego, najczęściej tlenku glinu.Podłoże wraz z mieszaniną proszków znajduje się w retorcie, która jest podgrzewana do temperatury od 1030 °K (757 °C) do 1375 °K (1102 °C) przez okres wystarczający do osadzenia powłoki.d. Napylanie plazmowe jest procesem powlekania, w którym do pistoletu (pistoletu natryskowego) służącego do wytwarzania i sterowania strumieniem plazmy jest doprowadzany materiał do powlekania w postaci proszku albo pręta. Pistolet topi materiał i wyrzuca go na podłoże, na którym powstaje silnie z nim związana powłoka. Odmianami tego procesu jest napylanie plazmowe niskociśnieniowe oraz napylanie plazmowe z wysoką prędkością.NB. 1: Niskociśnieniowe oznacza pod ciśnieniem niższym od ciśnienia atmosferycznego otoczenia.NB. 2: Wysoka prędkość odnosi się do prędkości gazów na wylocie z dyszy przekraczającej wartość 750 m/s w temperaturze 293 °K (20 °C) i ciśnieniu 0,1 MPa.e. Osadzanie zawiesinowe jest procesem powlekania albo modyfikacji powierzchni, w której stosowana jest zawiesina proszku metalicznego lub ceramicznego ze spoiwem organicznym w cieczy, nakładana na podłoże techniką natryskiwania, zanurzania lub malowania. Następnym etapem jest suszenie w powietrzu albo w piecu i obróbka cieplna, w wyniku czego powstaje powłoka o odpowiedniej charakterystyce.f. Rozpylanie jonowe jest procesem powlekania, opartym na zjawisku przenoszenia pędu, w której naładowane dodatnio jony są przyspieszane przez pole elektryczne w kierunku powierzchni docelowej (materiał powłokowy). Energia kinetyczna padających jonów jest wystarczająca do wyrwania atomów z powierzchni materiału powłokowego i osadzenia ich na odpowiednio usytuowanej powierzchni podłoża.NB. 1: Tabela dotyczy tylko rozpylania jonowego za pomocą triody, magnetronowego i reakcyjnego, które jest wykorzystywane do zwiększania przyczepności powłoki i wydajności osadzania oraz do rozpylania jonowego wspomaganego prądami wysokiej częstotliwości, wykorzystywanego do intensyfikacji odparowania niemetalicznych materiałów powłokowych.NB. 2: Do aktywacji osadzania można zastosować wiązki jonów o niskiej energii (poniżej 5 keV).g. Implantacja jonowa jest procesem modyfikacji powierzchni polegającym na jonizacji pierwiastka, który ma być stopiony, przyspieszaniu go za pomocą różnicy potencjałów i wstrzeliwaniu w odpowiedni obszar powierzchni podłoża. Technika ta może być stosowana równocześnie z napylaniem jonowym wspomaganym za pomocą wiązki elektronów albo rozpylaniem jonowym.KATEGORIA 3ELEKTRONIKA3ASystemy, urządzenia i częściUwaga 1: Poziom kontroli sprzętu i komponentów opisanych w pozycjach 3A001 lub 3A002, innych niż opisane w pozycji 3A001.a.3 do 3A001.a.10 lub 3A001.a.12, specjalnie do nich zaprojektowanych albo posiadających te same cechy funkcjonalne co inny sprzęt, jest taki sam jak poziom kontroli innego sprzętu.Uwaga 2: Poziom kontroli układów scalonych opisanych w pozycjach 3A001.a.3 do 3A001.a.9 lub 3A001.a.12, zaprogramowanych na stałe bez możliwości wprowadzenia zmian albo przeznaczonych do specjalnych funkcji dla innego sprzętu, jest taki sam jak poziom kontroli innego sprzętu.NB.: W razie, gdy producent lub wnioskodawca nie jest w stanie określić poziomu kontroli innego sprzętu, poziom kontroli danych układów scalonych jest określony w pozycjach 3A001.a.3 do 3A001.a.9. i 3A001.a.12. Jeżeli układ scalony jest krzemowym "układem mikrokomputerowym" lub mikrosterownikiem opisanym w pozycji 3A001.a.3. o długości słowa operanda (danych) 8 bitów lub mniej, poziom kontroli układu scalonego jest określony w pozycji 3A001.a.3.3A001Komponenty elektroniczne, takie jak:a. Układy scalone ogólnego przeznaczenia, takie jak:Uwaga 1: Poziom kontroli płytek (gotowych albo niegotowych) posiadających wyznaczoną funkcję należy określać na podstawie parametrów podanych w pozycji 3A001. a.Uwaga 2: Wśród układów scalonych rozróżnia się następujące typy:"Monolityczne układy scalone";"Hybrydowe układy scalone";"Wieloukłady scalone";"Układy scalone warstwowe", włącznie z układami scalonymi typu krzem na szafirze;"Optyczne układy scalone".1. Układy scalone zaprojektowane albo ulepszone do przeciwstawiania promieniowaniu jonizującemu, wytrzymujące:a. Dawkę całkowitą 5 × 103 Gy (Si) lub wyższą;b. Wzrost dawki o 5 × 106 Gy (Si)/s lub większy;c. Fluencję (zintegrowany strumień) neutronów (ekwiwalent 1 MeV) o wartości 5 × 1013 n/cm2 lub większej na krzemie, lub jej ekwiwalent na innym materiale.Uwaga: Pozycja 3A001.a.1.c nie stosuje się do struktur metal – izolator – półprzewodnik (MIS).2."Układy mikroprocesorowe", "układy mikrokomputerowe" i układy do mikrosterowników, układy scalone pamięci wykonane z półprzewodników złożonych, przetworniki analogowo-cyfrowe i cyfrowo-analogowe, układy elektrooptyczne lub "optyczne układy scalone" do "przetwarzania sygnałów", sieci bramek programowalne przez użytkownika, tablice logiczne programowalne przez użytkownika, układy scalone na sieciach neuronowych, robione na zamówienie układy scalone o nieznanej ich producentowi funkcji lub poziomie kontroli urządzenia, w którym miałyby być zainstalowane, procesory do Szybkiej Transformacji Fouriera (FFT), wymazywalne elektrycznie - programowalne pamięci stałe (EEPROM), pamięci błyskowe lub statyczne pamięci o dostępie swobodnym (SRAM), o jednej z poniższych właściwości:a. Przystosowane do pracy w temperaturze otoczenia powyżej 398 K (125 °C);b. Przystosowane do pracy w temperaturze otoczenia poniżej 218 K (– 55 °C); lubc. Przystosowane do pracy w całym przedziale wartości temperatur od 218 K (– 55 °C) do 398 K (125 °C).Uwaga: Pozycja 3A001.a.2 nie stosuje się do układów scalonych do silników pojazdów cywilnych ani kolejowych.3."Układy mikroprocesorowe", "układy mikrokomputerowe" i układy do mikrosterowników wykonane z półprzewodników złożonych, pracujące z częstotliwością zegara przekraczającą 40 MHz;Uwaga: Pozycja 3A001.a.3. obejmuje cyfrowe procesory sygnałowe, cyfrowe procesory tablicowe i koprocesory cyfrowe.4. Pamięciowe układy scalone wytwarzane z półprzewodników złożonych.5. Przetworniki analogowo-cyfrowe i cyfrowo-analogowe na układach scalonych, takie jak:a. Przetworniki analogowo-cyfrowe posiadające jedną z następujących cech charakterystycznych:NB. PATRZ TAKŻE POZYCJA 3A101.1. Rozdzielczość 8 bitów lub więcej, lecz poniżej 10 bitów i wielkość wyjściowa większa niż 500 mln słów/sek;2. Rozdzielczość 10 bitów lub większa, lecz mniej niż 12 bitów i wielkość wyjściowa większa niż 200 mln słów/sek; lub3. Rozdzielczość 12 bitów i wielkość wyjściowa większa niż 50 mln słów/sek; lub4. Rozdzielczość powyżej 12 bitów lecz równa lub mniejsza niż 14 bitów i wielkość wyjściowa większa niż 5 mln słów/sek, lub5. Rozdzielczość powyżej 14 bitów i wielkość wyjściowa większa niż 1 mln słów/sek;b. Przetworniki cyfrowo-analogowe o rozdzielczości 12 bitów lub większej, i "czasie ustalania" poniżej 10 ns.Uwagi techniczne:1.Rozdzielczość n bitów odpowiada kwantowaniu na 2 n poziomach.2.Liczba bitów w słowie wyjściowym jest równa rozdzielczości przetwornika analogowo-cyfrowego.3.Wielkość wyjściowa jest to maksymalna wielkość wyjściowa przetwornika, bez względu na architekturę czy oversampling. Sprzedawcy mogą także określać wielkość wyjściową jako wielkość próbkową, wielkość przetwarzania, lub przepustowość. Jest ona określana często w megahercach (MHz) lub mega próbkach na sekundę (MSPS).4.Dla celów pomiarów wielkości wyjściowej jedno słowo wyjściowe na sekundę odpowiada jednemu hercowi lub jednej próbce na sekundę.6. Elektrooptyczne układy scalone lub "optyczne układy scalone" do "przetwarzania sygnałów" posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Jedną lub więcej wewnętrzną diodę "laserową";b. Jeden lub więcej wewnętrzny element wykrywający światło; orazc. Prowadnicę światłowodową.7. Urządzenia logiczne programowalne przez użytkownika, posiadające jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych:a. Zastępczą liczbę bramek powyżej 30000 (bramki dwuwejściowe);b. Typowe "podstawowe opóźnienie przechodzenia sygnału przez bramkę" mniejsze niż 0,4 ns; lubc. Częstotliwość przełączania powyżej 133 MHz.Uwaga: Pozycja 3A001.a.7. zawiera:-  Proste programowalne urządzenia logiczne (SPLD)-  Złożone programowalne urządzenia logiczne (CPLD)-  Tablice bramek programowane przez użytkownika (FPGA)-  Tablice logiczne programowane przez użytkownika (FPLA)-  Połączenia wewnętrzne programowane przez użytkownika (FPIC)NB.: Programowalne przez użytkownika urządzenia logiczne, znane są również jako bramki programowalne przez użytkownika lub tablice logiczne programowalne przez użytkownika.8. Nie używany.9. Układy zintegrowanych sieci neuronowych.10. Wykonywane na zamówienie układy scalone o nieznanej ich producentowi funkcji lub poziomie kontroli sprzętu, w którym będzie zastosowany dany układ scalony, posiadające jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych:a. Ponad 1000 końcówek;b. Typowe "podstawowe opóźnienie przechodzenia sygnału przez bramkę" mniejsze niż 1 ns; lubc. Częstotliwość robocza powyżej 3 GHz.11. Cyfrowe układy scalone, różne od przedstawionych w pozycji 3A001.a.3 do 3A001.a.10 lub 3A001.a.12, oparte na dowolnym układzie półprzewodników złożonych oraz posiadające jedną z niżej wymienionych cech:a. Zastępczą liczbę bramek powyżej 3000 (bramki dwuwejściowe); lubb. Częstotliwość przełączania powyżej 1,2 GHz.12. Procesory do szybkiej transformacji Fouriera (FFT) posiadające nominalny czas realizacji dla N-punktowej zespolonej transformaty FFT poniżej (N log2N)/20480 ms, gdzie N jest liczbą punktów.Uwaga techniczna:Gdy N jest równe 1024 punkty, wynik formuły w pozycji 3A001.a.12, określającej czas realizacji wynosi 500 μs.b. Komponenty mikrofalowe lub pracujące na falach milimetrowych, takie jak:1. Elektronowe lampy próżniowe i katodowe, takie jak:Uwaga 1: Pozycja 3A001.b.1 nie obejmuje kontrolą lamp zaprojektowanych lub przystosowanych do działania w jakimkolwiek paśmie częstotliwości, posiadającym wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a.Szerokość nie przekracza 31,8 GHz; orazb.Jest "przydzielane przez ITU" dla służb radiokomunikacyjnych, ale nie do namierzania radiowego.Uwaga 2: Pozycja 3A001.b.1. nie obejmuje kontrolą lamp nie będących "klasy kosmicznej", posiadających wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a.Średnia moc wyjściowa równa lub mniejsza niż 50 W; orazb.Zaprojektowanych lub przystosowane do działania w jakimkolwiek paśmie częstotliwości, posiadającym wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1.Szerokość przekracza 31,8 Ghz, lecz nie przekracza 43,5 GHz; oraz2.Jest "rozdzielone przez ITU" dla służb radiokomunikacyjnych, ale nie w celu namierzania radiowego.a. Lampy o fali bieżącej, fali impulsowej lub ciągłej, z tego:1. Pracujące na częstotliwościach powyżej 31,8 GHz;2. Posiadające element podgrzewający katodę, z czasem uzyskania mocy znamionowej w zakresie fal radiowych wynoszącym poniżej 3 sekund;3. Sprzężone lampy wnękowe, albo ich pochodne o "ułamkowej szerokości pasma" powyżej 7 % lub mocy szczytowej powyżej 2,5 kW;4. Lampy spiralne, albo ich pochodne, posiadające jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych:a."Chwilowa szerokość pasma" powyżej jednej oktawy oraz iloczyn mocy przeciętnej (wyrażonej w kW) i częstotliwości (wyrażonej w GHz) powyżej 0,5;b."Chwilowa szerokość pasma" poniżej jednej oktawy oraz iloczyn mocy przeciętnej (wyrażonej w kW) i częstotliwości (wyrażonej w GHz) powyżej 1; lubc. Posiadanie "klasy kosmicznej".b. Wzmacniacze lampowe o skrzyżowanych polach o wzmocnieniu powyżej 17 dB;c. Impregnowane katody zaprojektowane do lamp elektronicznych, wytwarzające ciągły prąd emisyjny w znamionowych warunkach pracy o gęstości powyżej 5 A/cm2.2. Mikrofalowe monolityczne układy scalone (MMIC) wzmacniaczy mocy, posiadające jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych:a. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 3,2 GHz, do 6 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 4 W (36 dBm) z "ułamkową szerokością pasma" większą niż 15 %;b. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 6 GHz, do 16 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 1 W (30 dBm) z "ułamkową szerokością pasma" większą niż 10 %;c. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 16 GHz, do 31,8 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 0,8 W (29 dBm) z "ułamkową szerokością pasma" większą niż 10 %;d. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 31,8 GHz, do 37,5 GHz włącznie;e. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 37,5 GHz, do 43,5 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 0,25 W (24 dBm) z "ułamkową szerokością pasma" większą niż 10 %; lubf. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 43,5 GHz.Uwaga 1: Pozycja 3A001.b.2. nie obejmuje sprzętu satelitów radiofonicznych, zaprojektowanych lub przystosowanych do pracy w zakresie częstotliwości od 40,5 GHz do 42,5 GHz.Uwaga 2: Poziom kontroli MMIC, których znamionowa częstotliwość robocza obejmuje częstotliwości zawarte w więcej niż jednym paśmie, zgodnie z definicjami w pozycjach 3A001.b.2.a do 3A001.b.2.f, jest określony przez najniższy próg kontroli średniej mocy wyjściowej.Uwaga 3: Uwagi 1 i 2 w nagłówku Kategorii 3 oznaczają, że pozycja 3A001.b.2 nie obejmuje kontrolą MMIC-ów, jeśli są one specjalnie zaprojektowane do innych zastosowań, np. telekomunikacyjnych, radiolokacyjnych, motoryzacyjnych.3. Dyskretne tranzystory mikrofalowe, posiadające jedną z niżej wymienionych cech:a. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 3,2 GHz, do 6 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 60 W (47 dBm);b. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 6 GHz, do 31,8 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 20 W (43 dBm);c. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 31,8 GHz, do 37,5 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 0,5 W (27 dBm);d. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 37,5 GHz, do 43,5 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 1 W (30 dBm);e. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 43,5 GHz.Uwaga: Poziom kontroli tranzystora, którego znamionowa częstotliwość robocza obejmuje częstotliwości zawarte w więcej niż jednym paśmie, zgodnie z definicjami w pozycjach 3A001.b.3.a. do 3A001.b.3.e., jest określony przez najniższy próg kontroli średniej mocy wyjściowej.4. Mikrofalowe wzmacniacze półprzewodnikowe oraz mikrofalowe zespoły/moduły zawierające wzmacniacze mikrofalowe, posiadające jedną z niżej wymienionych cech:a. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 3,2 GHz, do 6 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 60 W (47,8 dBm) z "ułamkową szerokością pasma" większą niż 15 %;b. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 6 GHz, do 31,8 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 15 W (42 dBm) z "ułamkową szerokością pasma" większą niż 10 %;c. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 31,8 GHz, do 37,5 GHz włącznie;d. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 37,5 GHz, do 43,5 GHz włącznie, oraz ze średnią mocą wyjściową większą niż 1 W (30 dBm) z "ułamkową szerokością pasma" większą niż 10 %;e. Przystosowane do pracy na częstotliwościach przewyższających 43,5 GHz; lubf. Przystosowane do pracy na częstotliwościach powyżej 3,2 GHz oraz posiadające wszystkie z niżej wymienionych cech:1. Średnia moc wyjściowa (w watach), P, większa niż 150 dzielone przez maksymalną częstotliwość pracy (w GHz) podniesione do potęgi drugiej [P>150 W*GHz2/fGHz2];2. Ułamkowa szerokość pasma wynosząca 5 % lub więcej; oraz3. Jakiekolwiek dwustronne, wzajemnie prostopadłe do siebie, o długości d (w cm) mniejszej lub równej niż 15 podzielone przez najniższą częstotliwość roboczą (w GHz) [d≤ 15cm*GHz/fGHz].Uwaga techniczna:Częstotliwość 3,2 GHz należy przyjąć jako najniższą częstotliwość roboczą (fGHz) we wzorze w pozycji 3A001.b.4.f.3 dla wzmacniaczy, których dolna granica znamionowej częstotliwości roboczej osiąga 3,2 GHz i jest niższa od [d=15 cm*GHz/3,2 GHz].NB.: Pozycja 3A001.b.4. nie obejmuje kontrolą sprzętu satelitów radiofonicznych, zaprojektowanych lub przystosowanych do pracy w zakresie częstotliwości od 40,5 do 42,5 Ghz;Uwaga 1: Pozycja 3A001.b.2. nie obejmuje układów ani modułów do urządzeń skonstruowanych lub przystosowanych do działania w jakimkolwiek paśmie częstotliwości, które spełnia następujące warunki:Uwaga 2: Poziom kontroli elementu, którego znamionowa częstotliwość robocza obejmuje częstotliwości zawarte w więcej niż jednym paśmie, zgodnie z definicjami w pozycjach 3A001.b.4.a do 3A001.b.4.e, jest określony przez najniższy próg kontroli średniej mocy wyjściowej.5. Filtry środkowo-przepustowe i środkowo-zaporowe, przestrajalne elektronicznie lub magnetycznie, posiadające więcej niż 5 przestrajalnych rezonatorów, umożliwiających strojenie w zakresie pasma częstotliwości 1,5:1 (fmax/fmin) w czasie poniżej 10 μs, posiadające jedną z poniższych cech:a. Szerokość pasma środkowo-przepustowego powyżej 0,5 % częstotliwości nośnej; lubb. Szerokość pasma środkowo-zaporowego poniżej 0,5 % częstotliwości nośnej.6. Nie używany.7. Mieszacze i konwertery przeznaczone do rozszerzania przedziału częstotliwości sprzętu opisanego w pozycjach 3A002.c., 3A002.e. lub 3A002.f. powyżej podanych tam wartości granicznych.8. Mikrofalowe wzmacniacze mocy zawierające lampy wyszczególnione w pozycji 3A001.b, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:a. Częstotliwości robocze powyżej 3 GHz;b. Średnia wyjściowa gęstość mocy większa niż 80 W/kg; orazc. Objętość mniejsza niż 400 cm3.Uwaga: Pozycja 3A001.b.8. nie obejmuje kontrolą sprzętu zaprojektowanego lub przystosowanego do działania w jakimkolwiek paśmie częstotliwości, które jest "przydzielane przez ITU" dla służb radiokomunikacyjnych, ale nie w celu namierzania radiowego.c. Urządzenia wykorzystujące fale akustyczne oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty, w tym:1. Urządzenia wykorzystujące powierzchniowe fale akustyczne oraz szumiące powierzchniowo (płytkie) fale akustyczne (tj. urządzenia do "przetwarzania sygnałów" wykorzystujące fale odkształceń sprężystych w materiałach), posiadające jedną z następujących cech:a. Częstotliwość nośną powyżej 2,5 GHz;b. Częstotliwość nośną większą niż 1 GHz, ale nie przekraczającą 2,5 GHz, oraz posiadające jedną z poniższych właściwości:1. Tłumienie pasma bocznego częstotliwości powyżej 55 dB;2. Iloczyn maksymalnego czasu zwłoki i szerokości pasma (czas w μs, a szerokość pasma w MHz) powyżej 100;3. Szerokość pasma większa, niż 250 MHz; lub4. Opóźnienie dyspersyjne powyżej 10 μs; lubc. Częstotliwość nośną wynoszącą 1 GHz lub mniejszą oraz posiadające jedną z poniższych właściwości:1. Iloczyn maksymalnego czasu zwłoki i szerokości pasma (czas w μs, a szerokość pasma w MHz) powyżej 100;2. Opóźnienie dyspersyjne powyżej 10 μs; lub3. Tłumienie pasma bocznego częstotliwości powyżej 55 dB i szerokość pasma większa, niż 50 MHz.2. Urządzenia wykorzystujące przestrzenne fale akustyczne (tj. urządzenia do "przetwarzania sygnałów" wykorzystujące fale odkształceń sprężystych w materiałach), umożliwiające bezpośrednie przetwarzanie sygnałów z częstotliwościami powyżej 1 GHz.3. Urządzenia do "przetwarzania sygnałów" optyczno-akustycznych wykorzystujące oddziaływania pomiędzy falami akustycznymi (przestrzennymi albo powierzchniowymi) a falami świetlnymi do bezpośredniego przetwarzania sygnałów albo obrazów, włącznie z analizą widmową, korelacją lub splataniem.d. Urządzenia lub układy elektroniczne, zawierające komponenty wykonane z materiałów "nadprzewodzących", specjalnie zaprojektowane do pracy w temperaturach poniżej "temperatury krytycznej", co najmniej jednego z elementów "nadprzewodzących", posiadające jedną z następujących cech:1. Przełączanie prądowe dla obwodów cyfrowych za pomocą bramek "nadprzewodzących", dla którego iloczyn czasu zwłoki na bramkę (w sekundach) i rozproszenia mocy na bramkę (w watach) wynosi poniżej 10– 14 J; lub2. Selekcję częstotliwości dla wszystkich częstotliwości za pomocą obwodów rezonansowych o wartościach Q przekraczających 10000.e. Urządzenia wysokoenergetyczne, takie jak:1. Baterie oraz zespoły fotowoltaiczne, takie jak:Uwaga: Pozycja 3A001.e.1. nie obejmuje kontrolą baterii o objętościach równych lub mniejszych niż 27 cm 3 (np. standardowe ogniwa C lub baterie R14).a. Ogniwa i baterie galwaniczne o gęstości energii powyżej 480 Wh/kg i przystosowane do pracy w zakresie temperatur od poniżej 243 °K (– 30 °C) do powyżej 343 °K (+70 °C);b. Ogniwa i akumulatory doładowywane, o 'gęstości energii' powyżej 150 Wh/kg po 75 cyklach ładowania/rozładowania przy prądzie rozładowania równym C/5 godzin (C stanowi wartość pojemności nominalnej w amperogodzinach) w przypadku eksploatacji w zakresie temperatur od poniżej 253 °K (– 20 °C) do powyżej 333 °K (+60 °C);Uwaga techniczna:'Gęstość energii' otrzymuje się mnożąc średnią moc w watach (średnie napięcie w woltach razy średni prąd w amperach) przez czas rozładowania do poziomu stanowiącego 75 % napięcia jałowego, wyrażony w godzinach oraz dzieląc przez całkowitą masę ogniwa (albo akumulatora) wyrażoną w kg.c. Płyty z ogniwami fotoelektrycznymi "zastosowań kosmicznych" lub odporne na promieniowanie jonizujące, o mocy jednostkowej przekraczającej 160 W/m2 w temperaturze roboczej 301 °K (+28 °C), po oświetleniu światłem o natężeniu 1 kW/m2 emitowanym przez włókno wolframowe o temperaturze 2800 °K (2527 °C);2. Wysokoenergetyczne kondensatory magazynujące, takie jak.NB.: Patrz także pozycja 3A201.a.a. Kondensatory o częstotliwości powtarzania poniżej 10 Hz (kondensatory jednokrotne) posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:1. Napięcie znamionowe równe lub wyższe niż 5 kV;2. Gęstość energii równą lub wyższą niż 250 J/kg; oraz3. Energię całkowitą równą lub wyższą niż 25 kJ;b. Kondensatory o częstotliwości powtarzania 10 Hz lub wyższej (kondensatory powtarzalne) posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:1. Napięcie znamionowe równe lub wyższe niż 5 kV;2. Gęstość energii równą lub wyższą niż 50 J/kg;3. Energię całkowitą równą lub wyższą niż 100 kJ; oraz4. Żywotność mierzoną liczbą cykli ładowanie/rozładowanie wynoszącą więcej niż 10000.3."Nadprzewodzące" elektromagnesy lub cewki, specjalnie zaprojektowane w sposób umożliwiający ich pełne ładowanie i rozładowanie w czasie mniejszym niż 1 s., posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:NB.: Patrz także pozycja 3A201.b.Uwaga: Pozycja 3A001.e.3 nie obejmuje kontrolą elektromagnesów ani cewek "nadprzewodzących", specjalnie zaprojektowanych do aparatury zobrazowania rezonansem magnetycznym (MRI), wykorzystywanej w medycynie.a. Energia dostarczona podczas wyładowania jest większa od 10 kJ w pierwszej sekundzie;b. Średnica wewnętrzna uzwojenia prądowego cewki wynosi powyżej 250 mm; orazc. Zostały dostosowane do indukcji magnetycznej powyżej 8 T lub posiadają "całkowitą gęstość prądu" w uzwojeniu powyżej 300 A/mm2.f. Urządzenia kodujące bezwzględne położenie wału, posiadające jedną z niżej wymienionych cech:1. Rozdzielczość lepszą niż 1 część na 265000 (rozdzielczość 18 bitów) w pełnym zakresie; lub2. Dokładność lepszą niż ± 2,5 sekundy kątowej.3A002Sprzęt elektroniczny ogólnego przeznaczenia, taki jak:a. Sprzęt do rejestracji i specjalnie zaprojektowane do nich taśmy testowe:1. Analogowe oprzyrządowanie do rejestracji na taśmie magnetycznej, włącznie z urządzeniami umożliwiającymi zapis sygnałów cyfrowych (np. wykorzystując moduł do cyfrowego zapisu magnetycznego z dużą gęstością (HDDR)), posiadające jedną z niżej wymienionych cech:a. Szerokość pasma powyżej 4 MHz na kanał elektroniczny lub ścieżkę;b. Szerokość pasma powyżej 2 MHz na kanał elektroniczny lub ścieżkę oraz posiadające więcej niż 42 ścieżki; lubc. Uchyb przesunięcia czasu (bazy), mierzony stosownie do dostępnej dokumentacji IRIG lub EIA, mniejszy niż ± 0,1 μs.Uwaga: Rejestratory analogowe na taśmie magnetycznej, specjalnie zaprojektowane do cywilnych zastosowań techniki wideo, nie są rozpatrywane jako oprzyrządowanie rejestratorów na taśmie magnetycznej.2. Cyfrowe rejestratory obrazów na taśmie magnetycznej, posiadające złącza komunikacyjne o maksymalnej szybkości transmisji interfejsu cyfrowego przekraczającej 360 Mbit/s.Uwaga: Pozycja 3A002.a.2 nie obejmuje kontrolą cyfrowych rejestratorów wideo na taśmie magnetycznej specjalnie przeznaczonych do rejestracji sygnału telewizyjnego z wykorzystaniem formatu sygnału, który może zawierać format sygnału skompresowanego, znormalizowanego lub zalecanego przez ITU, IEC, SMPTE, EBU, ETSI lub IEEE do stosowania w telewizji cywilnej;3. Cyfrowe oprzyrządowanie do rejestracji na taśmie magnetycznej, wykorzystujące techniki skanowania spiralnego lub głowicy stałej, posiadające jedną z niżej wymienionych cech:a. Maksymalna szybkość transmisji interfejsu cyfrowego przekraczająca 170 Mbit/s; lubb. Posiadanie "klasy kosmicznej";Uwaga: Pozycja 3A002.a.3 nie obejmuje kontrolą rejestratorów analogowych na taśmie magnetycznej, wyposażonych w przetworniki elektroniczne HDDR oraz skonfigurowane do rejestracji wyłącznie danych cyfrowych.4. Sprzęt, posiadający maksymalną szybkość transmisji interfejsu cyfrowego przekraczającą 175 Mbit/s, zaprojektowany do przekształcania cyfrowych rejestratorów obrazów na taśmie magnetycznej w cyfrowe rejestratory danych.5. Przetworniki falowe oraz rejestratory stanów przejściowych posiadające wszystkie z niżej wymienionych cech:a. Szybkość przetwarzania cyfrowego równą lub większą niż 200 milionów próbek na sekundę i rozdzielczość 10 bitów lub większą; orazb. Przepustowość ciągłą 2 Gbit/s lub większą.Uwaga techniczna:W przypadku urządzeń o równoległej architekturze szyn, przepustowość ciągłą określa się jako iloczyn największej prędkości przesyłu słów i liczby bitów w słowie.Przepustowość ciągła oznacza największą prędkość przesyłania danych przez urządzenie do pamięci masowej, bez utraty informacji, z utrzymaniem prędkości próbkowania i przetwarzania analogowo-cyfrowego.6. Cyfrowe oprzyrządowanie do rejestracji danych, wykorzystujące techniki składowania na dyskach magnetycznych, posiadające wszystkie z niżej wymienionych cech:a. Szybkość przetwarzania cyfrowego równą lub większą niż 100 milionów próbek na sekundę i rozdzielczość 8 bitów lub większą; orazb. Przepustowość ciągłą 1 Gbit/s lub większą.b."Elektroniczne zespoły""syntezatorów częstotliwości" posiadające "czas przełączania częstotliwości" z jednej wybranej wartości na drugą mniejszy niż 1 ms;c."Analizatory sygnałów" o częstotliwościach radiowych, takie jak:1."Analizatory sygnałów" zdolne do analizowania częstotliwości przekraczających 31,8 GHz, lecz nie przekraczających 37,5 GHz i posiadające szerokość pasma rozdzielczości 3 dB przekraczających 10 MHz;2."Analizatory sygnałów" zdolne analizować częstotliwości przekraczające 43,5 GHz;3."Analizatory sygnałów dynamicznych" posiadające "szerokość pasma czasu rzeczywistego"powyżej 500 kHz.Uwaga: Pozycja 3A002.c.3 nie obejmuje kontrolą "analizatorów sygnałów dynamicznych", w których zastosowano jedynie filtry o stałoprocentowej szerokości pasma (znanych również jako filtry oktawowe albo ułamkowo-oktawowe).d. Generatory sygnałowe z syntezą częstotliwości, wytwarzające częstotliwości wyjściowe, których dokładność oraz stabilność krótko- i długo- terminowa, podlega regulacji, powstające lub wymuszane przez wewnętrzną częstotliwość podstawową, posiadające jedną z niżej wymienionych cech:1. Maksymalna zsyntetyzowana częstotliwość przekraczająca 31,8 GHz, lecz nie przekraczająca 43,5 GHz oraz przystosowana do generowania impulsów o czasie trwania mniejszym niż 100 ns;2. Maksymalna zsyntetyzowana częstotliwość przekraczająca 43,5 GHz;3."Czas przełączania częstotliwości" z jednej wybranej wartości na drugą mniejszy niż 1 ms; lub4. Zakłócenie fazowe pojedynczej wstęgi bocznej (SSB) lepsze niż – (126 + 20 log10F – 20 log10f), w dBc/Hz, gdzie F oznacza uchyb od częstotliwości roboczej w Hz, a f jest częstotliwością roboczą w MHz;Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 3A002.d.1, 'czas trwania impulsu' jest zdefiniowany jako odcinek czasu pomiędzy osiągnięciem, przez zbocze narastające impulsu 90 % wartości szczytowej, a osiągnięciem, przez zbocze opadające impulsu 10 % wartości szczytowej.Uwaga: Pozycja 3A002.d nie obejmuje kontrolą sprzętu, w którym częstotliwość wyjściowa jest wytwarzana poprzez dodawanie albo odejmowanie dwóch lub więcej częstotliwości oscylatorów kwarcowych, bądź poprzez dodawanie lub odejmowanie, a następnie mnożenie uzyskanego wyniku.e. Analizatory sieci o maksymalnej częstotliwości roboczej przewyższającej 43,5 GHz;f. Kontrolne odbiorniki mikrofalowe posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:1. Maksymalną częstotliwość roboczą przewyższającą 43,5 GHz; oraz2. Posiadające możliwość jednoczesnego pomiaru amplitudy i fazy;g. Atomowe wzorce częstotliwości posiadające jedną z niżej wymienionych cech:1. Stabilność długookresowa (starzenie) mniejsza (lepsza) niż 1 x 10– 11/miesiąc; lub2. Posiadanie "klasy kosmicznej";Uwaga: Pozycja 3A002.g.1 nie obejmuje kontrolą rubidowych wzorców częstotliwości, nie będących "klasy kosmicznej".3A003Systemy zarządzania termicznym chłodzeniem natryskowym, wykorzystującym sprzęt do obsługi i przywracania stanu z zamkniętym obiegiem cieczy, umieszczone w uszczelnionych obudowach, w których płyn dielektryczny, przy użyciu specjalnie zaprojektowanych dysz, jest rozpylany na elementy elektroniczne, w celu utrzymania ich w dopuszczalnym przedziale temperatur pracy, oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty.3A101Sprzęt, przyrządy i elementy elektroniczne, różne od wyszczególnionych w pozycji 3A001, takie jak:a. Przetworniki analogowo-cyfrowe, wykorzystywane w "pociskach rakietowych", spełniające wymagania wojskowe dla urządzeń odpornych na wstrząsy.b. Akceleratory zdolne do generowania promieniowania elektromagnetycznego, wytwarzanego w wyniku hamowania elektronów o energii 2 MeV lub większej, oraz systemy zawierające takie akceleratory.Uwaga: Pozycja 3A101.b nie określa sprzętu specjalnie zaprojektowanego do zastosowań medycznych.3A201Podzespoły elektroniczne, różne od wyszczególnionych w pozycji 3A001, takie jak:a. Kondensatory posiadające jeden z następujących zestawów cech:1.a. Napięcie znamionowe większe niż 1,4 kV;b. Zgromadzona energia większa niż 10 J;c. Reaktancja pojemnościowa większa niż 0,5 F; orazd. Indukcyjność szeregowa mniejsza niż 50 nH; lub2.a. Napięcie znamionowe większe niż 750 V;b. Reaktancja pojemnościowa większa niż 0,25 F; orazc. Indukcyjność szeregowa mniejsza niż 10 nH;b. Nadprzewodnikowe elektromagnesy solenoidalne posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Zdolne do wytwarzania pól magnetycznych o natężeniu większym niż 2 T;2. O stosunku długości do średnicy wewnętrznej większym niż 2;3. O średnicy wewnętrznej większej niż 300 mm; oraz4. Wytwarzające pole magnetyczne o równomierności rozkładu lepszej niż 1 % w zakresie środkowych 50 % objętości wewnętrznej.Uwaga: Pozycja 3A201.b nie obejmuje kontrolą magnesów specjalnie zaprojektowanych i eksportowanych 'jako części' medycznych systemów do obrazowania metodą jądrowego rezonansu magnetycznego (NMR). Sformułowanie 'jako części' niekoniecznie oznacza fizyczną część wchodzącą w skład tej samej partii wysyłanego wyrobu; dopuszcza się możliwość oddzielnych wysyłek z różnych źródeł, pod warunkiem, że w towarzyszącej im dokumentacji eksportowej wyraźnie określa się, że wysyłane wyroby są dostarczane 'jako część' systemu obrazowania.c. Generatory błyskowe promieniowania rentgenowskiego lub impulsowe akceleratory elektronów posiadajace jeden z następujących zestawów cech:1.a. Energia szczytowa akceleratora elektronów równa 500 keV lub większa, ale mniejsza niż 25 MeV; orazb."Współczynnik dobroci" (K) równy 0,25 lub większy; lub2.a. Energia szczytowa akceleratora elektronów równa 25 MeV lub większa; orazb."Moc szczytowa" powyżej 50 MW.Uwaga: Pozycja 3A201.c nie obejmuje kontrolą akceleratorów stanowiących elementy składowe urządzeń zaprojektowanych do innych celów, niż wytwarzania wiązek elektronów lub promieniowania rentgenowskiego (np. mikroskopy elektronowe) oraz urządzeń zaprojektowanych do zastosowań medycznych.Uwagi techniczne:1."Współczynnik dobroci" K jest zdefiniowany jako:( K = 1,7 ñ10 3 V 2,65 Q ,)gdzie V jest szczytową energią elektronów w milionach elektronowoltów,Jeżeli czas trwania impulsu wiązki akceleratora wynosi mniej niż, lub jest równy 1 μs, to Q jest całkowitym ładunkiem przyspieszanym, wyrażonym w Kulombach. Jeżeli czas trwania impulsu wiązki akceleratora jest większy niż 1 μs, to Q jest maksymalnym ładunkiem przyspieszanym w 1 μs.Q równa się całce z i po t, w przedziale o długości równym mniejszej z dwóch wartości: 1 μs lub czasu trwania impulsu wiązki (Q = idt), gdzie i jest natężeniem wiązki w amperach, a t jest czasem w sekundach;2."Moc szczytowa" = (napięcie szczytowe w woltach) x (szczytowy prąd wiązki w amperach).3.W maszynach bazujących na mikrofalowych akceleratorach rezonatorowych, czas trwania impulsu wiązki jest mniejszą z dwóch wartości: 1 μs lub czas trwania pakietu wiązek wynikających z jednego impulsu modulatora mikrofalowego.4.W maszynach bazujących na mikrofalowych akceleratorach rezonatorowych, szczytowa wartość prądu wiązki jest wartością średnią prądu podczas trwania pakietu wiązek.3A225Przemienniki częstotliwości lub generatory, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B001.b.13, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Wyjście wielofazowe umożliwiające uzyskanie mocy równej 40 W lub większej;b. Zdolność do pracy w zakresie częstotliwości pomiędzy 600 a 2000 Hz;c. Całkowite zniekształcenia harmoniczne lepsze (mniej) niż 10 %; orazd. Dokładność regulacji częstotliwości lepsza (mniejsza) niż 0,1 %.Uwaga techniczna:Przemienniki częstotliwości w pozycji 3A225, nazywane są również konwerterami lub inwerterami.3A226Wysokoenergetyczne zasilacze prądu stałego, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B001.j.6, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Zdolność do ciągłego wytwarzania, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, napięcia 100 V lub większego z wyjściem prądowym 500 A lub większym; orazb. Stabilności prądu lub napięcia, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, lepszej niż 0,1 %.3A227Wysokonapięciowe zasilacze prądu stałego, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B001.j.5, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Zdolność do ciągłego wytwarzania, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, napięcia 20 kV lub większego z wyjściem prądowym 1 A lub większym; orazb. Stabilności prądu lub napięcia, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, lepszej niż 0,1 %.3A228Urządzenia przełączające, takie jak:a. Lampy elektronowe o zimnej katodzie, bez względu na to, czy są napełnione gazem, czy też nie, pracujące podobnie do iskiernika i posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Składające się z trzech lub więcej elektrod;2. Szczytowa wartość napięcia anody równa 2500 V lub więcej;3. Szczytowa wartość natężenia prądu anodowego równa 100 A lub więcej; oraz4. Czas zwłoki dla anody równy 10 μs lub mniej.Uwaga: Pozycja 3A228 obejmuje gazowe lampy kriotronowe i próżniowe lampy sprytronowe.b. Iskierniki wyzwalane, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Czas zwłoki dla anody równy 15 μs lub mniej; oraz2. Przystosowane do prądów o natężeniach szczytowych równych 500 A lub większych.c. Moduły lub zespoły do szybkiego przełączania funkcji posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Szczytowa wartość napięcia anody równa 2 kV lub więcej;2. Szczytowa wartość natężenia prądu anodowego równa 500 A lub więcej; oraz3. Czas włączania równy l μs lub krótszy.3A229Instalacje zapłonowe i równoważne generatory impulsów wysokoprądowych, takie jak:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA.a. Zestawy zapłonowe do detonatorów, zaprojektowane do objętych kontrolą detonatorów typu wielokrotnego, wyszczególnionych w pozycji 3A232:b. Modułowe generatory impulsów elektrycznych (impulsatory) posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:1. Zaprojektowane do urządzeń przenośnych, przewoźnych lub innych narażonych na wstrząsy;2. Umieszczone w obudowie pyłoszczelnej;3. Zdolne do dostarczenia swojej energii w przeciągu do 15 μs;4. Posiadające wyjście prądowe powyżej 100 A;5. Posiadające "czas narastania" poniżej 10 μs przy obciążeniu poniżej 40 Ω;6. Żaden z wymiarów nie przekracza 254 mm;7. Masa mniejsza niż 25 kg; oraz8. Przeznaczone do pracy w rozszerzonym zakresie temperatur 223 K (– 50 °C) do 373 K (100 °C) lub nadające się do stosowania w przestrzeni kosmicznej.Uwaga: Pozycja 3A229.b. obejmuje wzbudnice ksenonowych lamp błyskowych.Uwaga techniczna:W pozycji 3A229.b.5. "czas narastania" jest zdefiniowany jako przedział czasowy w zakresie od 10 do 90 % amplitudy natężenia prądu w przypadku zasilania obciążenia rezystancyjnego.3A230Szybkie generatory impulsowe posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Napięcie wyjściowe większe niż 6 woltów, przy obciążeniu rezystancyjnym mniejszym niż 55 Ω, orazb."Czas narastania impulsów" mniejszy niż 500 ps.Uwaga techniczna:W pozycji 3A230 "czas narastania impulsów" definiuje się jako przedział czasowy pomiędzy 10 % a 90 % amplitudy napięcia.3A231Systemy generowania neutronów, w tym lampy, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:a. Przeznaczone do pracy bez zewnętrznych instalacji próżniowych; orazb. Wykorzystujące przyspieszanie elektrostatyczne do wzbudzania reakcji jądrowej trytu z deuterem.3A232Detonatory i wielopunktowe systemy inicjujące, w tym:NB.: Sprawdź także Wykaz uzbrojenia.a. Zapłonniki elektryczne, takie jak:1. Eksplodujące zapłonniki mostkowe (EB);2. Eksplodujące zapłonniki połączeń mostkowych (EBW)3. Zapłonniki udarowe;4. Eksplodujące zapłonniki foliowe (EFI);b. Instalacje z detonatorami pojedynczymi lub wielokrotnymi, przeznaczone do prawie równoczesnego inicjowania wybuchów, na obszarze większym niż 5000 mm2 , za pomocą pojedynczego sygnału zapłonowego, o opóźnieniu synchronizacji na całej powierzchni mniejszym niż 2,5 μs.Uwaga: Pozycja 3A232 nie obejmuje kontrolą zapłonników, wykorzystujących wyłącznie inicjujące materiały wybuchowe, takie jak azydek ołowiawy.Uwaga techniczna:W pozycji 3A232 wszystkie przedmiotowe detonatory wykorzystują małe przewodniki elektryczne (mostki, połączenia mostkowe lub folie) gwałtownie odparowujące po przepuszczeniu przez nie szybkich, wysokoprądowych impulsów elektrycznych. W przypadku zapłonników nieudarowych, wybuchający przewodnik inicjuje eksplozję chemiczną w zetknięciu się z materiałem burzącym, takim jak PETN (czteroazotan pentaerytrytu). W zapłonnikach udarowych, wybuchowe odparowanie przewodnika elektrycznego zwalnia przeskok bijnika przez szczelinę, którego uderzenie w materiał wybuchowy inicjuje eksplozję chemiczną. W niektórych przypadkach bijnik napędzany jest siłami magnetycznymi. Termin detonator w postaci folii eksplodującej, może odnosić się zarówno do detonatorów typu EB, jak i udarowych. Zamiast słowa detonator używa się także czasami słowa inicjator.3A233Spektrometry masowe, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B002.g., zdolne do pomiaru mas jonów o wartości 230 mas atomowych lub większej oraz posiadające rozdzielczość lepszą niż 2 części na 230, oraz źródła jonów do tych urządzeń, w tym:a. Plazmowe spektrometry masowe ze sprzężeniem indukcyjnym (ICP/MS);b. Jarzeniowe spektrometry masowe (GDMS);c. Termojonizacyjne spektrometry masowe (TIMS);d. Spektrometry masowe z zespołami do bombardowania elektronami, posiadające komorę ze źródłem elektronów wykonaną z materiałów odpornych na UF6, wykładaną lub powlekaną takimi materiałami;e. Następujące spektrometry masowe z wiązką molekularną:1. Posiadające komorę ze źródłem molekuł wykonaną ze stali nierdzewnej lub molibdenu albo wykładaną, lub powlekaną takimi materiałami, wyposażone w wymrażarkę umożliwiającą chłodzenie do 193 K (– 80 °C) lub niżej; lub2. Posiadające komorę ze źródłem molekuł wykonaną z materiałów odpornych na UF6, wykładaną lub powlekaną takimi materiałami;f. Spektrometry masowe ze źródłem jonów do mikrofluoryzacji zaprojektowane do pracy w obecności aktynowców lub fluorków aktynowców.3BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne3B001Sprzęt do wytwarzania urządzeń lub materiałów półprzewodnikowych oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty i akcesoria, w tym:a. Sprzęt zaprojektowany do osadzania warstwy epitaksjalnej, taki jak:1. Sprzęt zdolny do wytwarzania powłok o równomiernej grubości z materiałów różnych od krzemu, wykonanych z dokładnością poniżej ± 2,5 % na odcinku o długości 75 mm lub większym;2. Reaktory do osadzania z par lotnych związków metaloorganicznych (MOCVD), specjalnie zaprojektowane do wytwarzania kryształów półprzewodników ze związków dzięki reakcji chemicznej pomiędzy materiałami wyszczególnionymi w pozycji 3C003 lub 3C004;3. Sprzęt wykorzystujący wiązkę molekularną do wytwarzania warstw epitaksjalnych z surowca gazowego lub stałego.b. Sprzęt zaprojektowany do implantacji jonów, posiadający jedną z niżej wymienionych cech:1. Energię wiązki (napięcie przyspieszające) powyżej 1 MeV;2. Specjalne zaprojektowany i optymalizowany do działania z energią wiązki (napięciem przyspieszającym) mniejszą niż 2 keV;3. Zdolność bezpośredniego zapisu; lub4. Posiadający energię wiązki wynoszącą 65 keV lub większą oraz natężenie wiązki równe 45 mA lub większe, w celu wysokoenergetycznej implantacji tlenu w podgrzany półprzewodnikowy materiał "podłoża".c. Sprzęt do suchego trawienia za pomocą plazmy anizotropowej, taki jak:1. Sprzęt typu kaseta-kaseta oraz load-lock, posiadający jedną z niżej wymienionych cech:a. Zaprojektowany lub optymalizowany do produkcji z wymiarem krytycznym 180 nm lub mniejszym, z dokładnością 3 sigma ± 5 %; lubb. Zaprojektowany do wytwarzania mniej niż 0,04 cząsteczek/cm2 z mierzalną wielkością cząsteczki większą niż 0,1 μm w średnicy;2. Sprzęt specjalnie zaprojektowany lub sprzęt wyszczególniony w pozycji 3B001.e., posiadający jedną z niżej wymienionych cech:a. Zaprojektowany lub optymalizowany do produkcji z wymiarem krytycznym 180 nm lub mniejszym, z dokładnością 3 sigma ± 5 %; lubb. Zaprojektowany do wytwarzania mniej niż 0,04 cząsteczek/cm2 z mierzalną wielkością cząsteczki większą niż 0,1 μm w średnicy.d. Sprzęt do intensyfikowanego za pomocą plazmy osadzania z par lotnych (CVD), taki jak:1. Sprzęt typu kaseta-kaseta oraz load-lock, zaprojektowany stosownie do wymagań producenta lub optymalizowany do użytku w produkcji urządzeń półprzewodnikowych o wymiarach krytycznych równych 180 nm, lub mniejszych;2. Sprzęt specjalnie zaprojektowany do sprzętu objętego kontrolą przez pozycje 3B001.e., oraz stosownie do wymagań producenta lub optymalizowany do użytku w produkcji urządzeń półprzewodnikowych o wymiarach krytycznych równych 180 nm, lub mniejszych.e. Automatycznie ładujące się, wielokomorowe, centryczne systemy do wytwarzania płytek elektronicznych, posiadający wszystkie z niżej wymienionych cech:1. Interfejsy wejściowe i wyjściowe do płytek, umożliwiające podłączenie więcej niż dwóch części półprzewodnikowego sprzętu przetwarzającego; oraz2. Zaprojektowane do tworzenia zintegrowanego systemu, działającego w warunkach próżni, do sekwencyjnego wytwarzania płytek metodą powielania.Uwaga: Pozycja 3B001.e nie obejmuje kontrolą automatycznych, zrobotyzowanych systemów wytwarzania płytek elektronicznych, nie zaprojektowanych do działania w warunkach próżni.f. Sprzęt litograficzny, taki jak:1. Sprzęt do wytwarzania płytek elektronicznych poprzez pozycjonowanie, naświetlanie oraz powielanie (bezpośredni krok na płytkę) lub skanowanie (skaner), z wykorzystaniem metody fotooptycznej lub promieni rentgenowskich, posiadający jedną z niżej wymienionych cech:a. Źródło światła o długości fali krótszej niż 245 nm; lubb. Zdolne do wytwarzania wzorów o "minimalnej rozdzielczości wymiarowej" 180 nm lub mniejszej.Uwaga techniczna:Rozmiar "minimalnej rozdzielczości wymiarowej" obliczany jest według poniższego wzoru:MRF = (( długość fali źródła światła napromieniowującego wnm ) × ( współczynnik K ))( apertura liczbowa )gdzie: współczynnik K = 0,45MRF = minimalna rozdzielczość wymiarowa.2. Sprzęt specjalnie zaprojektowany do wytwarzania masek lub przyrządów półprzewodnikowych za pomocą odchylanej, zogniskowanej wiązki elektronów, jonów lub "laserowej", posiadający jedną z niżej wymienionych cech:a. Aperturę plamki poniżej 0,2 μm;b. Zdolność wytwarzania obrazów o wielkości charakterystycznej poniżej 1 μm; lubc. Dokładność nakładania warstw lepszą niż ± 0,20 μm (3 sigma).g. Maski i siatki optyczne zaprojektowane do układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001;h. Maski wielowarstwowe z warstwą z przesunięciem fazowym.Uwaga: Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych masek z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nie objętych kontrolą przez pozycję 3A001.3B002Sprzęt testujący, specjalnie przeznaczony do testowania wykończonych i niewykończonych elementów półprzewodnikowych oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty i akcesoria, z tego:a. Do testowania S – parametrów urządzeń tranzystorowych przy częstotliwościach powyżej 31,8 GHz;b. Nie używany.c. Do testowania mikrofalowych układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001.b.2.3CMateriały3C001Materiały heteroepitaksjalne składające się z "podłoża" i wielu nałożonych epitaksjalnie warstw z jednego z niżej wymienionych materiałów:a. Krzemu;b. Germanu;c. Węglika krzemu; lubd. Związków III/V galu lub indu.Uwaga techniczna:Związki III/V są substancjami polikrystalicznymi, binarnymi lub złożonymi substancjami monokrystalicznymi składającymi się z pierwiastków grupy IIIA i VA okresowego układu Mendelejewa (np. arsenek galu, arsenek galu i glinu, fosforek indu).3C002Materiały fotorezystywne, "podłoża" powlekane, objętymi kontrolą, materiałami ochronnymi, z tego:a. Materiały fotorezystywne pozytywowe zaprojektowane do litografii półprzewodnikowej, specjalnie wyregulowanej (zoptymalizowanej) do stosowania w zakresie długości fali poniżej 350 nm;b. Wszystkie materiały fotorezystywne, zaprojektowane do użytku z wiązkami elektronowymi lub jonowymi, o czułości 0,01 μC/mm2 lub lepszej;c. Wszystkie materiały fotorezystywne, przeznaczone do użytku promieni rentgenowskimi, posiadające czułość 2,5 mJ/mm2 lub lepszą;d. Wszystkie materiały fotorezystywne zoptymalizowane do technologii tworzenia obrazów powierzchniowych, włącznie z fotorezystami "siliatowanymi".Uwaga techniczna:Techniki "siliatowania" są zdefiniowane jako procesy zawierające utlenianie powierzchni materiałów fotorezystywnych w celu poprawy ich parametrów zarówno podczas wywoływania na sucho, jak i na mokro.3C003Związki organiczno-nieorganiczne, takie jak:a. Materiały metaloorganiczne z glinu, galu lub indu o czystości (na bazie metalu) powyżej 99,999 %;b. Związki arsenoorganiczne, antymonoorganiczne i fosforoorganiczne o czystości (na bazie związku nieorganicznego) lepszej niż 99,999 %.Uwaga: Pozycja 3C003 obejmuje kontrolą wyłącznie związki, w których składnik metalowy, częściowo metalowy lub składnik niemetalowy jest bezpośrednio związany z węglem w organicznym składniku molekuły.3C004Wodorki fosforu, arsenu lub antymonu o czystości powyżej 99,999 %, nawet rozpuszczone w gazach obojętnych lub w wodorze.Uwaga: Pozycja 3C004 nie obejmuje kontrolą wodorków zawierających molowo 20 %, lub więcej, gazów obojętnych lub wodoru.3DOprogramowanie3D001"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu objętego kontrolą, wyszczególnionego w pozycji 3A001.b do 3A002.g, lub 3B.3D002"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "użytkowania" dowolnych obiektów z niżej wymienionych:a. Sprzęt wyszczególniony w pozycji 3B001.a do .f; lubb. Sprzęt wyszczególniony w pozycji 3B002.3D003"Oprogramowanie" symulacyjne, bazujące na fizyce, specjalnie zaprojektowane do "rozwoju" litografii, wytrawiania lub procesów osadzania w celu przekształcenia maskujących kształtów w konkretną topografię obszarów przewodzących, dielektrycznych lub półprzewodnikowych.Uwaga techniczna:'Bazujące na fizyce' w 3D003 oznacza wykorzystanie obliczeń do określenia sekwencji przyczyn fizycznych oraz skutków zdarzeń, opierających się na właściwościach fizycznych (np. temperatura, ciśnienie, stałe dyfuzji oraz właściwości materiałów półprzewodnikowych).Uwaga: Biblioteki, związane z nimi atrybuty i inne dane służące do projektowania urządzeń półprzewodnikowych lub układów scalonych są postrzegane jako "technologia".3D004"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "rozwoju" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 3A003.3D101"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 3A101.b.3ETechnologia3E001"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu lub materiałów wyszczególnionych w pozycji 3A, 3B lub 3C;Uwaga 1: Pozycja 3E001 nie obejmuje kontrolą "technologii" do "produkcji" sprzętu lub komponentów objętych kontrolą przez pozycję 3A003.Uwaga 2: Pozycja 3E001 nie obejmuje kontrolą "technologii" do "rozwoju" lub "produkcji" układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001.a.3 do 3A001.a.12, posiadających wszystkie niżej wymienione cechy:1.Wykorzystujące technologię 0,5 μm lub więcej, oraz2.Nie posiadające "struktury wielowarstwowej".Uwaga techniczna:Pojęcie "struktura wielowarstwowa" nie obejmuje urządzeń posiadających maksymalnie trzy warstwy metaliczne i trzy warstwy polikrzemowe.3E002"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, inna niż wyszczególnione w pozycji 3E001, do "rozwoju" lub "produkcji""układów mikroprocesorowych", "układów mikrokomputerowych" oraz układów mikrosterowników posiadających "kombinowaną teoretyczną moc obliczeniową" ("CTP") równą 530 milionów teoretycznych operacji na sekundę (Mtops) lub więcej, oraz jednostki arytmetyczno-logiczne z szyną dostępu 32 bity lub więcej.Uwaga: Uwaga 2 do pozycji 3E001 stosuje się także do pozycji 3E002.3E003Inna "technologia"do "rozwoju" lub "produkcji" tego, co następuje:a. Próżniowych urządzeń mikroelektronicznych;b. Heterostrukturalnych urządzeń półprzewodnikowych, takich jak tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów (HEMT), tranzystory heterobipolarne (HBT), urządzenia nadstrukturalne oraz ze studnią kwantową;Uwaga: Pozycja 3E003.b nie obejmuje kontrolą technologii dla tranzystorów o wysokiej ruchliwości elektronów (HEMT), pracujących na częstotliwościach niższych od 31,8 GHz oraz tranzystorów heterobipolarnych (HBT), pracujących na częstotliwościach niższych od 31,8 GHz.c. Urządzeń elektronicznych opartych na "nadprzewodnikach";d. Podłoży folii diamentowych do podzespołów elektronicznych;e. Podłoży do układów scalonych, typu "krzem na izolatorze" (SOI), gdzie izolatorem jest dwutlenek krzemu;f. Podłoży z węglika krzemu dla komponentów elektronicznych;g. Elektronicznych lamp próżniowych, pracujących na częstotliwościach równych 31,8 GHz, lub wyższych.3E101"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 3A001.a.1 lub 3A001.a.2, 3A101 albo 3D101.3E102"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju""oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 3D101;3E201"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 3A0001.e.2, 3A001.e.3, 3A001.e.5, 3A201, 3A225 do 3A233.KATEGORIA 4KOMPUTERYUwaga 1: Komputery, towarzyszące im sprzęt i "oprogramowanie" wypełniające funkcje telekomunikacyjne lub działające w ramach "lokalnej sieci komputerowej", muszą również być analizowane pod kątem spełniania charakterystyk, przynależnych do Kategorii 5, Część 1 -Telekomunikacja.Uwaga 2: Jednostki sterujące podłączone bezpośrednio do szyn lub łączy jednostek centralnych, "pamięci operacyjnych" lub sterowników dysków nie są uważane za urządzenia telekomunikacyjne ujęte w Kategorii 5, Część 1 – Telekomunikacja.NB.: Dla ustalenia poziomu kontroli "oprogramowania" specjalnie przeznaczonego do komutacji pakietów, patrz pozycja 5D001.Uwaga 3: Komputery, towarzyszące im urządzenia i "oprogramowanie" spełniające funkcje szyfrowania, rozszyfrowywania, systemu zabezpieczeń wymagającego potwierdzania wielopoziomowego lub w wymagających potwierdzania systemach wyodrębnienia użytkownika, lub, które ograniczają zgodność elektromagnetyczną (EMC), należy również analizować pod kątem spełniania charakterystyk, przynależnych do Kategorii 5, Część 2 – Ochrona informacji.4ASystemy, sprzęt i komponenty4A001Komputery elektroniczne i towarzyszący im sprzęt, "zespoły elektroniczne" oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, w tym:NB.: Patrz także pozycja 4A101.a. Specjalnie zaprojektowane, aby posiadać jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Możliwość działania w temperaturze otoczenia poniżej 228 °K (-45 °C) lub powyżej 358 °K (+85 °C);Uwaga: Pozycja 4A001.a.1. nie dotyczy komputerów specjalnie zaprojektowanych do samochodów cywilnych lub zastosowania w kolejnictwie.2. Zabezpieczone przed promieniowaniem jonizującym, o następujących parametrach minimalnych:a. | Dawka całkowita | : | 5 × 103 Gy (Si); |b. | Narastanie natężenia dawki | : | 5 × 106 Gy (SI)/s; lub |c. | Pojedyncze przypadkowe zakłócenie | : | 1 × 10–7 błędów/bit/dzień; |b. Posiadające cechy charakterystyczne lub realizujące działania, wykraczające poza ograniczenia Kategorii 5, Część 2 – Ochrona informacji.Uwaga: Pozycja 4A001.b. nie obejmuje kontrolą komputerów elektronicznych i związanego z nimi sprzętu, towarzyszącymi użytkownikowi dla jego osobistego użytku.4A003"Komputery cyfrowe", "zespoły elektroniczne" i sprzęt im towarzyszący oraz specjalnie zaprojektowane dla nich komponenty, w tym:Uwaga 1: Pozycja 4A003 obejmuje:a.Procesory wektorowe,b.Procesory tablicowe,c.Cyfrowe procesory sygnałowe,d.Procesory logiczne,e.Sprzęt zaprojektowany do "wzmacniania obrazów",f.Sprzęt zaprojektowany do "przetwarzania sygnałów".Uwaga 2: Poziom kontroli "komputerów cyfrowych" i towarzyszącego im sprzętu opisany w pozycji 4A003 wynika z poziomu kontroli innego sprzętu lub systemów, pod warunkiem, że:a."Komputery cyfrowe" lub towarzyszący im sprzęt mają zasadnicze znaczenie dla działania innego sprzętu lub systemów;b."Komputery cyfrowe" lub towarzyszący im sprzęt nie są "elementem o podstawowym znaczeniu" innego sprzętu lub systemów; orazNB. 1: Poziom kontroli sprzętu do "przetwarzania sygnałów" lub "wzmacniania obrazów" specjalnie przeznaczonych do innego sprzętu i ograniczonych funkcjonalnie do wymogów pracy tego sprzętu wynika ze statusu kontroli innego sprzętu, nawet, gdy wykracza to poza kryterium "elementu o podstawowym znaczeniu".NB. 2: W przypadku poziomu kontroli "komputerów cyfrowych" lub towarzyszącego im sprzętu, do sprzętu telekomunikacyjnego patrz Kategoria 5, Część 1 – Telekomunikacja.c."Technologia" do "komputerów cyfrowych" i towarzyszącego im sprzętu jest określona przez pozycję 4E.a. Zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu "odporności na uszkodzenia";Uwaga: Do celów pozycji 4A003.a "komputery cyfrowe" i towarzyszący im sprzęt nie są uważane za "odporne na uszkodzenia" dzięki specjalnej konstrukcji lub odpowiedniej modyfikacji, jeżeli zastosowano w nich:1.Algorytmy wykrywania albo korekcji błędów w "pamięci operacyjnej";2.Połączenie dwóch "komputerów cyfrowych" w jeden zespół, w taki sposób, że w razie awarii jednej z aktywnych jednostek centralnych działania związane z kontynuacją pracy systemu może przejąć bliźniacza jednostka centralna, znajdująca się do tej chwili na biegu jałowym;3.Połączenie dwóch jednostek centralnych szynami danych poprzez wykorzystywaną wspólnie pamięć w celu umożliwienia danej jednostce centralnej wykonywania innych działań do czasu awarii drugiej jednostki centralnej, co spowoduje przejęcie wszystkich prac związanych z funkcjonowaniem systemu przez pierwszą jednostkę centralną; lub4.Synchronizację dwóch jednostek centralnych za pomocą "oprogramowania", w taki sposób, że jedna z nich rozpoznaje awarię drugiej i przejmuje w takiej sytuacji jej zadania.b."Komputery cyfrowe" posiadające "skorygowaną wydajność szczytową" ("APP") powyżej 0,75 teraflopsa ważonego (WT);c."Zespoły elektroniczne", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu polepszenia mocy obliczeniowej poprzez agregację procesorów, w taki sposób, że "APP" agregatu przekracza wartość graniczną, określoną w pozycji 4A003.b;Uwaga 1: Pozycja 4A003.c odnosi się wyłącznie do "zespołów elektronicznych" i programowanych połączeń, których moc obliczeniowa nie wykracza poza wartości graniczne określone w pozycji 4A003.b., w przypadku dostarczania ich jako "zespoły elektroniczne" w stanie rozłożonym. Pozycja ta nie dotyczy "zespołów elektronicznych", które ze względu na charakter swojej konstrukcji nie mogą z natury rzeczy być wykorzystywane jako urządzenia towarzyszące, wyszczególnione w pozycji 4A003.f.Uwaga 2: Pozycja 4A003.c nie obejmuje kontrolą "zespołów elektronicznych", specjalnie zaprojektowanych do wyrobu albo rodziny wyrobów, których maksymalna konfiguracja nie wykracza poza ograniczenia zawarte w pozycji 4A003.b.d. Nie używany;e. Sprzęt do przetwarzania analogowo-cyfrowego o parametrach wykraczających poza wartości graniczne określone w pozycji 3A001.a.5;f. Nie używany;g. Sprzęt specjalnie zaprojektowany w celu zapewnienia połączenia zewnętrznego "komputerów cyfrowych" lub towarzyszącego im sprzętu, który pozwala na wymianę danych z szybkościami przekraczającymi 1,25 Gb/s.Uwaga: Pozycja 4A003.g nie obejmuje kontrolą sprzętu zapewniającego połączenia wewnętrzne (np. tablice połączeń, szyny), urządzeń łączących o charakterze pasywnym, "sterowników dostępu do sieci" ani "sterowników torów telekomunikacyjnych".4A004Komputery i specjalnie do nich zaprojektowany sprzęt towarzyszący, "zespoły elektroniczne" i komponenty dla nich, w tym:a."Komputery z dynamiczną modyfikacją zestawu procesorów";b."Komputery neuronowe";c."Komputery optyczne".4A101Komputery analogowe, "komputery cyfrowe" lub cyfrowe analizatory różniczkowe, różne od wyszczególnionych w pozycji 4A001.a.1., zabezpieczone przed narażeniami mechanicznymi lub podobnymi i specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do użycia w kosmicznych pojazdach nośnych, wyszczególnionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wyszczególnionych w pozycji 9A104.4A102"Komputery hybrydowe", specjalnie zaprojektowane do modelowania, symulowania lub integrowania konstrukcyjnego kosmicznych pojazdów nośnych wyszczególnionych w pozycji 9A004, lub rakiet meteorologicznych wyszczególnionych w pozycji 9A104.Uwaga: Kontrola dotyczy wyłącznie takich sytuacji, w których sprzęt jest dostarczany z "oprogramowaniem" wyszczególnionym w pozycji 7D103 lub 9D103.4BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjneŻadne4CMateriałyŻadne4DOprogramowanieUwaga: Poziom kontroli "oprogramowania" do "rozwoju", "produkcji", lub "użytkowania" urządzeń opisanych w innych kategoriach wynika z odpowiedniej kategorii. Status kontroli "oprogramowania" do urządzeń opisanych w niniejszej kategorii jest z nią związany.4D001a."Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionych w pozycji 4A001 do 4A004 lub 4D;b."Oprogramowanie", inne niż wyszczególnione w pozycji 4D001.a., specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do"rozwoju" lub "produkcji" niżej wymienionych:1."Komputery cyfrowe" posiadające "skorygowaną wydajność szczytową" ("APP") powyżej 0,04 teraflopsa ważonego (WT); lub2."Zespoły elektroniczne", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu polepszenia mocy obliczeniowej poprzez agregację procesorów, w taki sposób, że "APP" agregatu przekracza wartość graniczną określoną w pozycji 4D001.b.1;4D002"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do wspomagania "technologii" wyszczególnionych w pozycji 4E;4D003"Oprogramowanie" specjalne, takie jak:a."Oprogramowanie" systemu operacyjnego, programy narzędziowe i kompilatory do opracowywania "oprogramowania" specjalnie przeznaczone do urządzeń do "wielostrumieniowego przetwarzania danych" na"kod źródłowy";b. Nie używany;c."Oprogramowanie" o cechach lub możliwościach realizacji funkcji wykraczających poza ograniczenia wymienione w pozycjach Kategorii 5, Część 2 – Ochrona informacji;Uwaga: Pozycja 4D003.c. nie obejmuje kontrolą "oprogramowania", kiedy towarzyszy ono użytkownikowi dla jego osobistego użytku.4ETechnologia4E001a."Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionych w pozycji 4A lub 4D;b."Technologia", inna niż wyszczególniona w pozycji 4E001.a., specjalnie zaprojektowana lub zmodyfikowana do "rozwoju" lub "produkcji" niżej wymienionych:1."Komputery cyfrowe" posiadające "skorygowaną wydajność szczytową" ("APP") powyżej 0,04 teraflopsa ważonego (WT); lub2."Zespoły elektroniczne", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu polepszenia mocy obliczeniowej poprzez agregację procesorów, w taki sposób, że "APP" agregatu przekracza wartość graniczną określoną w pozycji 4E001.b.1.;Uwaga techniczna dotycząca "teoretycznej mocy kombinowanej" ("CTP")Skróty stosowane w niniejszej uwadze technicznej"CE" | "element obliczeniowy" (typowo, jednostka arytmetyczno-logiczna) |FP | zmienny przecinek |XP | stały przecinek |T | czas wykonania |XOR | nierównoważność |CPU | jednostka centralna |TP | teoretyczna moc obliczeniowa (pojedynczego "CE") |"CTP" | "teoretyczna moc kombinowana" (wielu "CE") |R | efektywna szybkość obliczeniowa |WL | długość słowa |L | współczynnik poprawkowy długości słowa |* | mnożenie |Czas wykonania "t" wyraża się w μs, natomiast TP i "CTP" w milionach teoretycznych operacji na sekundę (Mtops), a WL w bitach.Omówienie sposobu obliczania "CTP""CTP" jest miarą mocy obliczeniowej wyrażaną w Mtops. W celu obliczenia "CTP" pewnego zespołu (agregatu) "CE" należy wykonać czynności podzielone na trzy następujące etapy:1. Obliczyć efektywną szybkość obliczeniową R każdego "CE";2. Skorygować uzyskaną efektywną szybkość obliczeniową (R) za pomocą współczynnika poprawkowego długości słowa, dzięki czemu uzyska się Moc Teoretyczną (TP) każdego "CE";3. W przypadku istnienia więcej niż jednego "CE", połączyć wszystkie wynikowe TP, uzyskując w wyniku "CTP" całego danego układu.Szczegółowe informacje na temat podanych etapów postępowania zamieszczono dalej.Uwaga 1: W przypadku agregatów złożonych z wielu "CE", posiadających podsystemy zarówno z pamięcią dzieloną jak i niedzieloną, obliczanie "CTP" odbywa się na zasadzie hierarchicznej, w dwóch etapach: po pierwsze, grupuje się "CE" z podsystemami pamięci dzielonej, a następnie oblicza się "CTP" dla danych grup, stosując taką metodę obliczeń jak dla wielu "CE" z pamięcią niedzieloną.Uwaga 2: W obliczeniach "CTP" nie uwzględnia się "CE" o zastosowaniu ograniczonym do obsługi funkcji wejścia/wyjścia i peryferyjnych (np. napędów dyskowych, sterowników komunikacyjnych i wyświetlaczy obrazowych).Uwaga TECHNICZNA DOTYCZĄCA "CTP"W podanej poniżej tabeli przedstawiono sposób liczenia efektywnej szybkości obliczeniowej (R) dla każdego "CE":Etap 1: Efektywna szybkość obliczeniowa R:Dla "elementów obliczeniowych" mających: Uwaga: Obliczenia przeprowadza się dla każdego "CE" niezależnie | Efektywna szybkość obliczeniowa, R |Tylko XP | (Rxp) = (1)(3 × (txp add)) W razie braku dodawania, należy wykorzystać: (Rxp) = (1)(txp mult) W razie braku zarówno dodawania, jak i mnożenia, należy wykorzystać najszybszą dostępną operację arytmetyczną: (Rxp) = (1)(3 × txp) Patrz uwagi X i Z |Tylko FP | Rfp = max (1)(tfp add), (1)(tfp mult) Patrz uwagi X i Y |Zarówno FP, jak i XP | Obliczyć obie Rxp, Rfp |W przypadku prostych procesorów logicznych bez implementacji żadnej z wymienionych operacji arytmetycznych. | R = (1)(3 × tlog) Gdzie tlog jest czasem wykonania instrukcji XOR albo w przypadku sprzętu logicznego bez implementacji XOR, czasem najszybszej prostej operacji logicznej. Patrz uwagi X i Z |Dla specjalnych procesorów logicznych, nierealizujących żadnej z wymienionych operacji arytmetycznych i logicznych. | R = R' × WL/64 Gdzie R' jest liczbą wyników na sekundę, WL jest liczbą bitów, na której jest realizowana operacja logiczna, natomiast 64 jest współczynnikiem normalizacji do operacji 64-bitowych. |Uwaga W: W przypadku wielu "CE" działających w trybie potokowym, zdolnych do wykonania do jednej operacji arytmetycznej lub logicznej na każdy cykl zegara po zapełnieniu trybu potokowego, można ustalić szybkość obliczeniową trybu potokowego. Efektywną szybkością obliczeniową (R) dla każdego takiego "CE" jest największa szybkość w trybie potokowym lub szybkość realizacji obliczeń w trybie niepotokowym.Uwaga X: Dla "CE" realizujących wielokrotne operacje arytmetyczne specjalnego typu w pojedynczym cyklu (np. dwa dodawania na cykl lub dwie identyczne operacje na cykl) czas realizacji t określa się zależnością:t = ( czas cyklu )( liczba identycznych operacji na cykl maszyny )"CE" wykonujące różne typy operacji arytmetycznych lub logicznych podczas pojedynczego cyklu maszynowego należy traktować jako wielokrotne oddzielne "CE" działające równocześnie (np. "CE" wykonujący dodawanie i mnożenie podczas jednego cyklu należy traktować jako dwa "CE", raz jako wykonujący dodawanie w jednym cyklu i po raz drugi jako wykonujący mnożenie w drugim cyklu). W przypadku wykonywania przez pojedynczy "CE" zarówno działania na skalarach, jak i na wektorach, należy wybrać krótszy z czasów realizacji.Uwaga Y: W przypadku braku implementacji dodawania FP (zmiennoprzecinkowego) lub mnożenia FP, natomiast wykonywania przez dany "CE" dzielenia FP:Rfp = (l)(ffpdivide)W przypadku realizacji przez dany "CE" odwrotności FP, ale bez możliwości realizacji dodawania FP, mnożenia FP lub dzielenia FP, wartość R fp wyznacza się z zależności:Rfp = (l)(ffpreciprocal)W razie braku implementacji wszystkich wymienionych instrukcji, efektywna moc FP wynosi 0.Uwaga Z: W prostych operacjach logicznych pojedyncza instrukcja realizuje pojedyncze działanie logiczne na nie więcej niż dwóch operandach o danej długości. W złożonych operacjach logicznych pojedyncza instrukcja realizuje wiele działań logicznych na dwóch lub więcej operandach, wskutek czego powstaje jeden lub więcej wyników.Szybkości obliczeniowe należy obliczać dla wszystkich możliwych długości operandów z uwzględnieniem zarówno operacji potokowych (jeżeli są możliwe), jak i operacji niepotokowych, dla instrukcji wykonywanych najszybciej i dla każdej długości operandu w oparciu o następujące zasady:1.Operacje potokowe lub typu rejestr-rejestr. Z wykluczeniem bardzo krótkich czasów wykonania dla operacji na z góry określonym operandzie lub operandach (na przykład, mnożenie przez 0 lub 1). W razie braku implementacji operacji typu rejestr-rejestr, postępować według punktu (2).2.Szybsze operacje typu rejestr-pamięć albo pamięć-rejestr; w razie braku również takich operacji, postępować według punktu (3).3.Operacje typu pamięć-pamięć.W każdym wymienionym powyżej przypadku należy skorzystać z najkrótszego czasu wykonania potwierdzonego przez producenta.Etap 2: TP dla każdej możliwej długości operandu WL:Skorygować szybkość efektywną R (lub R') za pomocą współczynnika poprawkowego na długość słowa L w następujący sposób:TP = R × Lgdzie: L = (1/3 + WL/96)Uwaga: Używana w tych obliczeniach długość słowa WL jest długością operandu w bitach. (W przypadku, gdy w operacji używane są operandy o różnych długościach, należy wybrać słowo o największej długości).Dla celów obliczania "CTP", za jeden "CE" o długości słowa (WL) równej liczbie bitów w przedstawieniu danych (zazwyczaj 32 lub 64) uważa się kombinację mantysy ALU i wykładnika ALU dla procesora zmiennoprzecinkowego albo jedność.Korekcja tego typu nie znajduje zastosowania do wyspecjalizowanych procesorów logicznych, w których nie są realizowane instrukcje XOR. W takim przypadku TP = R.Wybrać maksymalną wartość wynikową TP dla:Każdego XP – tylko "CE" (Rxp);Każdego FP – tylko "CE" (Rfp);Każdego kombinowanego FP i XP "CE" (R);Każdego prostego procesora logicznego bez żadnej implementacji wymienionych operacji arytmetycznych; orazKażdego specjalnego procesora logicznego niewykonującego żadnej z wymienionych operacji arytmetycznych ani logicznych.Etap 3: "CTP" dla agregacji "CE", włącznie z CPU:Dla CPU składającego się z pojedynczego "CE","CTP" = TP(dla "CE" wykonujących zarówno operacje stało-, jak i zmiennoprzecinkowe,TP = max (TPfp, TPxp)Sposób obliczania "CTP" dla agregacji wielu "CE" działających równocześnie:Uwaga 1: W przypadku agregacji uniemożliwiających równoczesne działanie wszystkich "CE" należy stosować tę konfigurację możliwych "CE", która daje największą z możliwych "CTP". Przed obliczeniem "CTP" całej kombinacji należy obliczyć TP każdego "CE" dla każdej teoretycznie możliwej wartości maksymalnej.NB.: W celu obliczenia możliwych kombinacji "CE" działających równocześnie należy wygenerować sekwencję instrukcji inicjująca operacje w wielu "CE" poczynając od najwolniejszego z nich (jest to taki element obliczeniowy, który wymaga największej liczby cykli do zakończenia swojego działania) i kończąc na najszybszym "CE". Możliwą kombinacją przy każdej sekwencji cyklu jest taka kombinacja elementów "CE", które działają podczas cyklu. W sekwencji instrukcji należy wziąć pod uwagę wszystkie ograniczenia sprzętowe i (lub) konfiguracyjne (architektura) dla operacji pokrywających się ze sobą.Uwaga 2: Pojedynczy układ scalony lub płytka może składać się z wielu "CE".Uwaga 3: Zakłada się, że komputer może wykonywać równoczesne operacje w przypadku, gdy jego producent podaje w instrukcji użytkowania lub innej, że komputer może pracować współbieżnie, równolegle lub wykonywać operacje albo działania równoczesne.Uwaga 4: Nie należy agregować wartości "CTP" dla kombinacji "CE" połączonych ze sobą i z innymi w "lokalnych sieciach komputerowych", Rozległych Sieciach Komputerowych (WAN), dzielonych wspólnych połączeniach (urządzeniach wejścia/wyjścia), sterownikach wejść/wyjść oraz we wszelkich połączeniach komunikacyjnych implementowanych przez oprogramowanie.Uwaga 5: Należy agregować wartości "CE" dla wieloelementowych układów "CE" specjalnie opracowanych w celu poprawy parametrów poprzez agregację, równoczesne działanie i kombinację w układzie z dzieleniem wspólnej pamięci – lub typu wielokrotna pamięć/"CE" – działających równocześnie i z wykorzystaniem specjalnie opracowanego sprzętu.Agregacji tego typu nie stosuje się do zespołów opisanych w pozycji 4A003.c."CTP" = TP 1 + C 2 × TP 2 + … + C n × TP n ,gdzie TP są uszeregowane według wartości, przy czym TP 1 jest największa, TP 2 jest druga z kolei pod względem wartości, …, a TP n jest najmniejszą z wartości TP. C i są współczynnikami wynikającymi z przepustowości połączeń pomiędzy "CE", określonymi w sposób następujący:W przypadku wielu "CE" działających równocześnie i korzystających ze wspólnej pamięci:C2 = C3 = C4 = … = Cn = 0,75Uwaga 1: W przypadku, kiedy wartość "CPT" obliczona w podany powyżej sposób nie przekracza 194 Mtops, do obliczania C i można zastosować następujący wzór:Ci = (0,75)(√m) (i = 2, …, n)gdzie m = liczba elementów "CE" lub grup "CE" o wspólnym dostępie,pod warunkiem że1.TP i każdej grupy lub grup "CE" nie jest wyższa od 30 Mtops2.Elementy "CE" lub grupy elementów "CE" dzielą wspólny dostęp do pamięci operacyjnej (z wyjątkiem pamięci podręcznej (cache)) za pośrednictwem pojedynczego kanału; oraz3. W danym czasie tylko jeden element "CE" lub grupa elementów "CE" może używać takiego kanału.NB. Nie dotyczy to pozycji objętych kontrolą w ramach Kategorii 3.Uwaga 2:"CE" korzystają ze wspólnej pamięci, jeżeli mają dostęp do wspólnego segmentu pamięci półprzewodnikowej. Może to być pamięć podręczna (cache), pamięć operacyjna albo inny rodzaj pamięci wewnętrznej. W tym przypadku nie uwzględnia się peryferyjnych jednostek pamięciowych, takich jak stacje dysków, napędy taśmczy RAM-dyski.Dla wielokrotnych układów "CE" lub grup "CE" niekorzystających ze wspólnej pamięci, połączonych ze sobą jednym lub większą liczba kanałów danych:Ci | = 0,75 × ki (i = 2, …, 32) (patrz Uwaga poniżej) = 0,60 × ki (i = 33, …, 64) = 0,45 × ki (i = 65, …, 256) = 0,30 × ki (i > 256) |Wartość Ci określa się w zależności od liczby elementów "CE", a nie liczby węzłów,gdzieki | = | min (Si/Kr, 1), oraz |Kr | = | współczynnik normalizujący do 20 MBajtów/s |Si | = | suma maksymalnych szybkości transmisji danych (w jednostkach MB/s) dla wszystkich kanałów danych połączonych z i-tym elementem "CE" lub grupą elementów "CE" dzielących wspólną pamięć. |W przypadku obliczania Ci dla grupy elementów "CE" , numer pierwszego "CE" w grupie wyznacza odpowiednią wartość graniczną dla Ci. Przykładowo, w agregacji grup składających się każda z 3 elementów "CE", grupa 22 będzie zawierała "CE"64, "CE"65 i "CE"66. Właściwą wartością graniczną dla Ci dla tej grupy będzie 0,60.Agregacja (elementów "CE" lub grup elementów "CE") powinna następować w kolejności od elementów najszybszych do najwolniejszych; tj.:TP1 ≥ TP2 ≥ … ≥ TPn, orazw przypadku TPi = TPi + 1 w kolejności od największego do najmniejszego; tj.:Ci ≥ Ci + 1Uwaga: W przypadku, gdy TP i dla elementu "CE"lub grupy elementów "CE" wynosi powyżej 50 Mtops, nie używa się współczynnika ki do elementów "CE" od 2 do 12; tj. Ci dla elementów "CE" 2 do 12 wynosi 0,75.UWAGA TECHNICZNA DOTYCZĄCA "SKORYGOWANEJ WYDAJNOŚCI SZCZYTOWEJ" ("APP")"APP" oznacza skorygowaną największą prędkość, z jaką "komputery cyfrowe" wykonują zmiennoprzecinkowe operacje dodawania i mnożenia na liczbach 64-bitowych lub dłuższych."APP" wyraża się w teraflopsach ważonych (WT), w jednostkach wynoszących 1012 skorygowanych operacji zmiennoprzecinkowych na sekundę.Skróty stosowane w niniejszej uwadze technicznejn | liczba procesorów w "komputerze cyfrowym" |i | numer procesora (i,…n) |ti | czas cyklu procesora (ti = 1/Fi) |Fi | częstotliwość procesora |Ri | szczytowa szybkość obliczeniowa dla operacji zmiennoprzecinkowych |Wi | współczynnik korygujący związany z architekturą systemu |Omówienie sposobu obliczania "APP"1. Dla każdego procesora i określić szczytową liczbę operacji zmiennoprzecinkowych (FPOi) na liczbach 64-bitowych lub dłuższych wykonywanych w jednym cyklu przez każdy procesor "komputera cyfrowego";Uwaga Określając FPO, należy brać pod uwagę wyłącznie zmiennoprzecinkowe operacje dodawania lub mnożenia na liczbach 64-bitowych lub dłuższych. Wszystkie operacje zmiennoprzecinkowe muszą być wyrażone w operacjach na cykl procesora; operacje wymagające wielu cykli można wyrażać w postaci wyniku ułamkowego na jeden cykl. W przypadku procesorów niezdolnych do wykonywania operacji na argumentach zmiennoprzecinkowych o długości 64 bitów lub dłuższych, efektywna szybkość obliczeniowa R wynosi zero.2. Obliczyć szybkość operacji zmiennoprzecinkowych R dla każdego procesora, Ri = FPOi/ti.3. Obliczyć "APP" ze wzoru "APP" = W1 × R1 + W2 × R2 + … + Wn × Rn.4. Dla "procesorów wektorowych", Wi = 0,9. Dla procesorów nie będących "procesorami wektorowymi", Wi = 0,3.Uwaga 1: W przypadku procesorów wykonujących w jednym cyklu, operacje złożone, takie jak dodawanie i mnożenie, liczy się każda operacja.Uwaga 2: W przypadku procesora działającego w trybie potokowym, jako efektywną szybkość obliczeniową R przyjmuje się większą z następujących prędkości: prędkość w trybie potokowym przy pełnym wykorzystaniu potoku i prędkości w trybie niepotokowym.Uwaga 3: Do celów obliczenia "APP" całego zespołu przyjmuje się dla każdego procesora składowego jego maksymalną teoretycznie możliwą szybkość obliczeniową R. Przyjmuje się, że zachodzi równoczesne wykonywanie operacji, jeżeli producent komputera stwierdza w broszurze lub podręczniku użytkownika, że komputer przetwarza dane w sposób współbieżny, równoległy lub równoczesny.Uwaga 4: Przy obliczaniu "APP" nie uwzględnia się procesorów, których rola ogranicza się do funkcji wejścia/wyjścia i peryferyjnych (np. w napędzie dysków, urządzeniach komunikacyjnych i wyświetlaczu wideo).Uwaga 5: Nie oblicza się wartości "APP" dla zespołów procesorów połączonych ze sobą i z innymi w ramach "lokalnych sieci komputerowych", rozległych sieci komputerowych (WAN), dzielonych wspólnych połączeń lub urządzeń wejścia/wyjścia, kontrolerów wejścia/wyjścia oraz we wszelkich połączeniach komunikacyjnych implementowanych przez "oprogramowanie".Uwaga 6: Konieczne jest obliczenie wartości "APP" dla:1.Zespołów procesorów zawierających procesory specjalnie zaprojektowane w celu zwiększenia wydajności poprzez agregację, równoczesne działanie i współdzielenie pamięci; lub2.Większej liczby zespołów pamięć/procesor działających równocześnie z wykorzystaniem specjalnie zaprojektowanego sprzętu.Uwaga 7:"Procesor wektorowy" jest zdefiniowany jako procesor wyposażony w wewnętrzne instrukcje pozwalające równocześnie wykonywać wielokrotne operacje na wektorach zmiennoprzecinkowych (jednowymiarowych tablicach złożonych z liczb 64-bitowych lub dłuższych), posiadający co najmniej dwie funkcjonalne jednostki wektorowe i co najmniej 8 rejestrów wektorowych, każdy o pojemności co najmniej 64 elementów.KATEGORIA 5TELEKOMUNIKACJA I "OCHRONA INFORMACJI"CZĘŚĆ 1TELEKOMUNIKACJAUwaga 1: W pozycjach Kategorii 5, Część 1, ujęto poziom kontroli komponentów, sprzętu "laserowego", testującego i "produkcyjnego", oraz "oprogramowania" do nich, specjalnie zaprojektowanych do sprzętu lub systemów telekomunikacyjnych.Uwaga 2:"Komputery cyfrowe", towarzyszący im sprzęt lub "oprogramowanie", mające zasadniczy wpływ na działanie i wspomaganie działań sprzętu telekomunikacyjnego przedstawionych w pozycjach dotyczących telekomunikacji w niniejszej Kategorii, są traktowane jako specjalnie opracowane komponenty, pod warunkiem, że są to modele standardowe, dostarczane przez producenta na zamówienie klienta. Dotyczy to komputerowych systemów obsługi, zarządzania, konserwacji, technicznych lub księgowych.5A1Systemy, sprzęt i komponenty:5A001a. Dowolny typ sprzętu telekomunikacyjnego, posiadający jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych lub właściwości albo realizujący jedną z wymienionych funkcji:1. Specjalnie zabezpieczone przed skutkami przejściowych zjawisk elektronicznych lub impulsu elektromagnetycznego, powstających w wyniku wybuchu jądrowego;2. Specjalnie zabezpieczone przed promieniowaniem gamma, neutronowym lub jonizacyjnym; lub3. Specjalnie zaprojektowane do eksploatacji w zakresie temperatur poza przedziałem od 218 °K (– 55 °C) do 397 °K (+ 124 °C).Uwaga: Pozycja 5A001.a.3. odnosi się wyłącznie do sprzętu elektronicznego.Uwaga: Pozycje 5A001.a.2 i 5A001.a.3 nie obejmują kontrolą sprzętu zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do stosowania na pokładach satelitów.b. Telekomunikacyjny sprzęt i systemy transmisyjne oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty i osprzęt, posiadające jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych oraz właściwości lub realizujących jedną z wymienionych poniżej funkcji:1. Będące systemami komunikacji podwodnej posiadającymi jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Akustyczna częstotliwość nośna spoza przedziału 20 kHz do 60 kHz;b. Działające w zakresie elektromagnetycznej częstotliwości nośnej poniżej 30 kHz; lubc. Działające z wykorzystaniem technik sterowania za pomocą wiązki elektronów;2. Będące sprzętem radiowym działającym w paśmie od 1,5 do 87,5 MHz, posiadającymi dowolną z wymienionych niżej cech charakterystycznych:a. Zastosowanie technik adaptacyjnych zapewniających tłumienie sygnałów zakłócających na poziomie większym niż 15 dB; lubb. Spełnianie obu niżej wymienionych warunków:1. Automatyczne przewidywanie i wybieranie częstotliwości oraz "całkowite szybkości przesyłania danych cyfrowych" na kanał, umożliwiające optymalizację transmisji; oraz2. Zaopatrzenie w liniowy wzmacniacz mocy umożliwiający równoczesną obróbkę wielu sygnałów przy mocy wyjściowej 1 kW lub wyższej, w zakresie częstotliwości od 1,5 do 30 MHz, lub 250 W lub wyższej w zakresie częstotliwości od 30 do 87,5 MHz, w zakresie "pasma chwilowego" o szerokości jednej oktawy lub większej oraz z wyjściem o zniekształceniach harmonicznych lub innych lepszych niż – 80 dB;3. Będące sprzętem radiowym, w którym zastosowano techniki "widma rozproszonego", w tym "rozrzucanie częstotliwości", poza wymienionymi w pozycji 5A001.b.4., posiadającym dowolną z niżej wymienionych cech charakterystycznych:a. Programowane przez użytkownika kody rozpraszania; lubb. Całkowita szerokość przesyłanego pasma 100 lub więcej razy większa od szerokości pasma dowolnego z kanałów informacyjnych w nadmiarze 50 kHz;Uwaga: Pozycja 5A001.b.3.b nie obejmuje kontrolą sprzętu radiowego sieci telekomunikacyjnych w układzie terytorialnym (komórkowym) działających w zakresie pasm cywilnych.Uwaga: Pozycja 5A001.b.3 nie obejmuje kontrolą urządzeń o mocy wyjściowej 1 W lub mniejszej.4. Będące sprzętem radiowym, w którym zastosowano ultraszerokopasmowe techniki modulacji, posiadające programowane przez użytkownika kody przydzielania kanałów, szyfrowania (scrambling) lub identyfikacji sieci, mające dowolne z następujących cech:a. Szerokość pasma przekraczająca 500 MHz; lubb."Ułamkowa szerokość pasma" wynosząca 20 % lub więcej;5. Będące sterowanymi cyfrowo odbiornikami radiowymi, które jednocześnie:a. Posiadają ponad 1000 kanałów;b. Charakteryzują się "czasem przełączania częstotliwości" niższym od 1 ms;c. Umożliwiają automatyczne przeszukiwanie lub skanowanie części widma fal elektromagnetycznych; orazd. Umożliwiają identyfikację odbieranych sygnałów lub typu nadajnika, lubUwaga: Pozycja 5A001.b.4 nie obejmuje kontrolą sprzętu specjalnie zaprojektowanego do komórkowych radiowych sieci telekomunikacyjnych, działających w zakresie pasm cywilnych.6. Będące urządzeniami wykorzystującymi funkcje cyfrowego "przetwarzania sygnałów" dla realizacji 'kodowania mowy' z szybkością poniżej 2400 bitów/s.Uwagi techniczne:1. Dla zmiennych współczynników kodowania głosu, pozycja 5A001.b.6 stosuje kodowanie wyjścia ciągłego sygnału głosowego.2. Do celów pozycji 5A001.b.6 'kodowanie mowy' określa się jako technikę próbkowania głosu ludzkiego, a następnie przetwarzania próbek na sygnał cyfrowy, z uwzględnieniem cech szczególnych mowy ludzkiej.c. Światłowodowe kable komunikacyjne, światłowody oraz akcesoria, w tym:1. Światłowody o długości ponad 500 m i określone przez producenta, jako mogące się oprzeć podczas testu kontrolnego, naprężeniom rozciągającym wynoszącym 2 × 109 N/m2 lub większe;Uwaga techniczna:Test kontrolny: prowadzona na bieżąco (on line) albo poza linią produkcyjną (off-line) kontrola zupełna, podczas której wszystkie włókna są obciążane dynamicznie z góry określonymi naprężeniami rozciągającymi, działającymi na odcinek światłowodu o długości od 0,5 do 3 m, przeciągany z szybkością 2 do 5 m/s pomiędzy bębnami nawijającymi o średnicy około 150 mm. Temperatura otoczenia powinna wynosić 293 °K (20 °C), a wilgotność względna 40 %. Testy kontrolne można przeprowadzić według równoważnych norm narodowych.2. Kable światłowodowe i akcesoria zaprojektowane do pracy pod wodą;Uwaga: Pozycja 5A001.c.2. nie obejmuje kontrolą kabli i akcesoriów dla standardowej telekomunikacji cywilnej.NB. 1: Dla kabli startowych (pępowinowych) lub łączników do nich patrz także pozycja 8A002.a.3.NB. 2: Dla światłowodowych penetratorów kadłubów statków lub złączy do nich także pozycja 8A002.c.d."Elektronicznie sterowane fazowane układy antenowe" pracujące w zakresie częstotliwości powyżej 31,8 GHz;Uwaga: Pozycja 5A001.d. nie obejmuje kontrolą "elektronicznie sterowanych fazowanych układów antenowych" do systemów kontroli lądowania oprzyrządowanych według wymagań norm ICAO obejmujących mikrofalowe systemy kontroli lądowania (MLS).e. Sprzęt radiowy do namierzania kierunku działający na częstotliwościach powyżej 30 MHz i posiadający wszystkie następujące cechy, jak również specjalnie zaprojektowane podzespoły do tego sprzętu:1."Chwilową szerokość pasma" wynoszącą 10 MHz lub więcej; oraz2. Zdolność określania namiaru na niewspółpracujące nadajniki radiowe emitujące sygnał o czasie trwania krótszym niż 1 ms.f. Sprzęt zakłócający zaprojektowany lub zmodyfikowany specjalnie na potrzeby celowego i selektywnego zakłócania, blokowania, utrudniania, pogarszania jakości lub wprowadzania w błąd systemów usług telefonii ruchomej, posiadający dowolne z następujących cech, jak również specjalnie zaprojektowane podzespoły do tego sprzętu:1. Zdolność symulowania funkcji sprzętu sieci dostępu radiowego (RAN); lub2. Wykrywanie i wykorzystywanie cech szczególnych stosowanego protokołu telefonii ruchomej (np. GSM).NB. Dla sprzętu zakłócającego usługi GNSS, patrz Wykaz uzbrojenia.5A101Sprzęt do zdalnego przekazywania wyników pomiarów i do zdalnego sterowania, włączając sprzęt naziemny, zaprojektowany lub zmodyfikowany do użycia w "pociskach rakietowych".Uwaga techniczna:W pozycji 5A101 "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe oraz systemy bezzałogowych statków powietrznych, zdolnych do pokonania odległości przekraczającej 300 km.Uwaga: Pozycja 5A101 nie obejmuje kontrolą:a.Sprzętu zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do załogowych samolotów lub satelitów;b.Sprzętu naziemnego, zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do zastosowań lądowych lub morskich;c.Sprzętu zaprojektowanego do celów usług GNSS (np. integralności danych, bezpieczeństwa lotów) o charakterze komercyjnym, cywilnym lub dla 'ratowania życia'5B1Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne5B001a. Sprzęt i specjalnie zaprojektowane do niego elementy i akcesoria, specjalnie zaprojektowane do "rozwoju", "produkcji" i "użytkowania" urządzeń, materiałów, funkcji lub właściwości ujętych w pozycjach 5A001, 5B001, 5D001 lub 5E001;Uwaga: Pozycja 5B001.a. nie obejmuje kontrolą sprzętu do cechowania światłowodów.b. Sprzęt i specjalnie zaprojektowane do niego elementy i akcesoria, specjalnie zaprojektowane do "rozwoju", następujących urządzeń telekomunikacyjnych lub przełączających:1. Sprzęt, w którym zastosowano techniki cyfrowe, zaprojektowane do pracy z "całkowitą cyfrową szybkością transferu" przekraczającą 15 Gbit/s;Uwaga techniczna:Dla sprzętu przełączającego "całkowita cyfrowa szybkość transferu" jest mierzona dla największej szybkości portu lub linii.2. Sprzęt wykorzystujący "laser" i posiadający następujące cechy:a. Długość fali nadawczej przekraczająca 1750 nm;b. Dający "wzmocnienie optyczne";c. Wykorzystujący techniki koherentnego przekazu optycznego lub koherentnej detekcji optycznej (zwane także technikami heterodyny optycznej lub technikami homodynowymi); lubd. Stosujący techniki analogowe i posiadający szerokość pasma przekraczającą 2,5 GHz;Uwaga: Pozycja 5A001.b.2.d. nie obejmuje kontrolą sprzętu specjalnie zaprojektowanego do "rozwoju" systemów telewizji komercyjnej.3. Sprzęt wykorzystujący "komutację optyczną";4. Sprzęt radiowy wykorzystujący technikę modulacji kwadraturowej (QAM), powyżej poziomu 128; lub5. Sprzęt wykorzystujący "wspólny kanał sygnalizowania", pracujący w trybie nie-skojarzonym;5C1MateriałyŻadne5D1Oprogramowanie5D001a."Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu, funkcji lub właściwości wyszczególnionych w pozycji 5A001 lub 5B001;b."Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do wspierania "technologii" wyszczególnionej w pozycji 5E001;c. Specyficzne "oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu umożliwienia sprzętowi osiągnięcia cech charakterystycznych, funkcji lub właściwości, wyszczególnionych w pozycji 5A001 lub 5B001;d."Oprogramowanie", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", następującego sprzętu telekomunikacyjnych oraz przełączającego:1. Sprzęt wykorzystujący techniki cyfrowe, zaprojektowane do pracy z "całkowitą cyfrową szybkością transferu" przekraczającą 15 Gbit/s;Uwaga techniczna:Dla sprzętu przełączającego "całkowita cyfrowa szybkość transferu" jest mierzona dla największej szybkości portu lub linii.2. Sprzęt wykorzystujący "laser" i posiadający następujące cechy;a. Długość fali nadawczej przekraczająca 1750 nm; lubb. Stosujące techniki analogowe i posiadające szerokość pasma przekraczającą 2,5 GHz;Uwaga: Pozycja 5A001.d.2.b. nie obejmuje kontrolą "oprogramowania" specjalnie zaprojektowanego do "rozwoju" systemów telewizji komercyjnej.3. Sprzęt wykorzystujący "komutację optyczną";4. Sprzęt radiowy wykorzystujący technikę modulacji kwadraturowej (QAM), powyżej poziomu 128;5D101"Oprogramowanie", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 5A101.5E1Technologia5E001a."Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" lub "użytkowania" (wyłączając obsługiwanie) sprzętu, funkcji, właściwości lub "oprogramowania", wyszczególnionych w pozycji 5A001, 5B001 lub 5D001;b. Technologie specjalne, takie jak:1."Technologie""niezbędne" do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu telekomunikacyjnego zaprojektowanego specjalnie do instalowania w satelitach;2."Technologie" do "rozwoju" lub "użytkowania""laserowych" technik komunikacyjnych z możliwością automatycznego wykrywania, ustalania pochodzenia i śledzenia sygnałów oraz utrzymywania komunikacji w egzoatmosferze lub w środowisku podpowierzchniowym (podwodnym);3."Technologie" do "rozwoju" komórkowych cyfrowych systemów radiowych, których możliwości odbiorcze pozwalają na multi-pasmowe, multi-kanałowe, multi-trybowe, multi-kodowe algorytmy lub multi-protokołowe użytkowanie, które może być modyfikowane poprzez zmiany w "oprogramowaniu";4."Technologie" do "rozwoju" technik "widma rozproszonego", łącznie z technikami "rozrzucania częstotliwości".c."Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" następującego sprzętu telekomunikacyjnego lub przełączającego, funkcji lub właściwości:1. Sprzęt wykorzystujący techniki cyfrowe, zaprojektowane do pracy z "całkowitą cyfrową szybkością transferu" przekraczającą 15 Gbit/s;Uwaga techniczna:Dla sprzętu przełączającego "całkowita cyfrowa szybkość transferu" jest mierzona dla największej szybkości portu lub linii.2. Sprzęt wykorzystujący "laser" i posiadający następujące cechy:a. Długość fali nadawczej przekraczająca 1750 nm;b. Wytwarzający "wzmocnienie optyczne" z wykorzystaniem wzmacniaczy światłowodowych prazedymowych domieszkowanych fluorem (PDFFA);c. Wykorzystujący techniki koherentnego przekazu optycznego lub koherentnej detekcji optycznej (zwane także technikami heterodyny optycznej lub technikami homodynowymi);d. Wykorzystujący techniki zwielokrotniania poprzez rozdzielanie fal, przekraczające 8 nośnych optycznych w pojedynczym oknie optycznym; lube. Stosujące techniki analogowe i posiadające szerokość pasma przekraczającą 2,5 GHz;Uwaga: Pozycja 5E001.c.2.e nie obejmuje kontrolą "technologii" specjalnie zaprojektowanej do "rozwoju" systemów telewizji komercyjnej.3. Sprzęt wykorzystujący "komutację optyczną";4. Sprzęt radiowy posiadający następujące cechy:a. Wykorzystujący technikę modulacji kwadraturowej (QAM), powyżej poziomu 256; lubb. Pracujący z częstotliwościami, wejściową lub wyjściową, powyżej 31,8 GHz;Uwaga: Pozycja 5E001.c.4.b nie obejmuje kontrolą "technologii" do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu przeznaczonego lub zmodyfikowanego do pracy w pasmach przydzielonych przez ITU dla służb radiokomunikacyjnych, ale nie do namierzania radiowego.5. Sprzęt wykorzystujący "wspólny kanał sygnalizowania", pracujący w trybie nie-skojarzonym.5E101"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 5A101.CZĘŚĆ 2"OCHRONA INFORMACJI"Uwaga 1: W niniejszej Kategorii określono poziom kontroli "ochrony informacji" sprzętu, "oprogramowania", systemów, szczególnych aplikacji "podzespołów elektronicznych", modułów, układów scalonych, komponentów, technologii lub funkcji, nawet, jeśli stanowią one elementy lub "podzespoły elektroniczne" wchodzące w skład innego sprzętu.Uwaga 2: Kategoria 5, Część 2 nie obejmuje kontrolą wyrobów, towarzyszących użytkownikowi dla jego osobistego użytku.Uwaga 3:Uwaga kryptograficznaPozycje 5A002 i 5D002 nie obejmują kontrolą towarów, które spełniają wszystkie niżej wymienione warunki:a.Są ogólnie dostępne dla klientów poprzez ich sprzedaż bez ograniczeń z magazynów punktów sprzedaży detalicznej w jakikolwiek z wymienionych niżej sposobów:1.Bezpośrednich transakcji przez ladę;2.Transakcji na podstawie zamówień pocztowych;3.Transakcji elektronicznych; lub4.Transakcji przez telefon.b.Ich funkcjonalność kryptograficzna nie może być łatwo zmieniona przez użytkownika;c.Są przeznaczone do zainstalowania przez użytkownika bez dalszej, znaczącej pomocy ze strony dostawcy; orazd.W przypadku zaistnienia konieczności, szczegóły techniczne tych towarów są dostępne i zostaną dostarczone, na żądanie właściwych organów państwa członkowskiego, w którym eksporter jest zarejestrowany, w celu potwierdzenia zgodności z warunkami określonymi w punktach od a. do c. powyżej.Uwaga techniczna:W ramach Kategorii 5 – Część 2, bity parzystości nie są wliczane do długości klucza.5A2Systemy, sprzęt i komponenty5A002a. Systemy, sprzęt, specyficzne aplikacje "podzespołów elektronicznych", moduły i układy scalone związane z "ochroną informacji" oraz inne specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, w tym:NB.: Do sterowania urządzeniami systemów globalnej nawigacji satelitarnej zawierających lub wykorzystujących funkcje szyfrowania (np. GPS lub GLONASS) patrz pozycja 7A005.1. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu zastosowania "kryptografii" z wykorzystaniem technik cyfrowych realizujących jakiekolwiek funkcje kryptograficzne, inne niż uwierzytelnienie lub podpis cyfrowy, w których stosuje się jakikolwiek z poniższych elementów:Uwagi techniczne:1.Funkcje uwierzytelnienia i podpisu cyfrowego obejmują związane z nimi funkcje zarządzania kluczami.2.Uwierzytelnienie obejmuje wszystkie aspekty kontroli dostępu, gdzie nie występuje szyfrowanie plików lub fragmentów tekstów, z wyjątkiem tych bezpośrednio związanych z ochroną haseł, Numerów Personalnej Identyfikacji (PIN) lub podobnych danych stosowanych do ochrony przed nieuprawnionym dostępem.3.Mechanizmy kryptograficzne nie obejmują technik kompresji lub kodowania danych.Uwaga: Pozycja 5A002.a.1 obejmuje sprzęt przeznaczony lub zmodyfikowany w celu zastosowania mechanizmów kryptograficznych do przekazywania informacji z wykorzystaniem technik analogowych, gdy stosowane są wraz z technikami cyfrowymi.a."Algorytm symetryczny" wykorzystujący długość klucza przekraczającą 56 bitów; lubb."Algorytm asymetryczny", w którym bezpieczeństwo stosowania algorytmu bazuje na jednej z następujących właściwości:1. Faktoryzacji liczb całkowitych powyżej 512 bitów (np. RSA);2. Zliczaniu dyskretnych logarytmów w multiplikatywnej grupie pola o skończonej wielkości większej niż 512 bitów (np. Diffie-Helman z Z/pZ); lub3. Dyskretnych logarytmach w grupie innej niż wspomniana w pozycji 5A002.a.1.b.2 większej niż 112 bitów (np. Diffie-Helman na krzywej eliptycznej);2. Zaprojektowane lub zmodyfikowane dla realizacji funkcji kryptoanalitycznych;3. Nie używany;4. Specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do redukcji przypadkowego przekazywania sygnałów noszących informację poza tym, co jest niezbędne ze względów zdrowotnych, bezpieczeństwa pracy i ochrony przed zakłóceniami elektromagnetycznymi;5. Zaprojektowane lub zmodyfikowane do wykorzystania technik kryptograficznych w celu generowania kodu rozpraszającego dla "widma rozproszonego", poza określonymi w pozycji 5A002.a.6, wraz z kodem rozrzucającym dla systemów z "rozrzucaniem częstotliwości";6. Zaprojektowane lub zmodyfikowane do wykorzystania technik kryptograficznych w celu generowania kodów przydzielania kanałów, szyfrowania (scrambling) lub identyfikacji sieci w systemach stosujących modulację ultraszerokopasmową, mające dowolne z następujących cech:a. Szerokość pasma przekraczająca 500 MHz; lubb."Ułamkowa szerokość pasma" wynosząca 20 % lub więcej;7. Nie używany;8. Systemy kabli telekomunikacyjnych zaprojektowane lub zmodyfikowane za pomocą elementów mechanicznych, elektrycznych lub elektronicznych w celu wykrywania włamań do sieci teleinformatycznych.9. Zaprojektowane lub zmodyfikowane do wykorzystania "kryptografii kwantowej".Uwaga techniczna:"Kryptografia kwantowa" bywa również określana jako kwantowa wymiana klucza (QKD).Uwaga: Pozycja 5A002 nie obejmuje kontrolą:a."Personalizowanych kart elektronicznych":1.Gdy wykorzystanie funkcji kryptograficznych ograniczone jest do urządzeń lub systemów wyłączonych z kontroli na podstawie punktów b do f niniejszej uwagi, lub2.Dla ogólnych zastosowań użytku publicznego, gdzie wykorzystanie funkcji kryptograficznych nie jest dostępne dla przeciętnego użytkownika oraz istnieje specjalnie zaprojektowana i ograniczona ochrona zgromadzonych danych osobowych.NB.: Jeżeli "personalizowane karty elektroniczne" są kartami wieloaplikacyjnymi, poziom kontroli każdej aplikacji oceniany jest indywidualnie;b.Sprzętu odbiorczego dla stacji radiowych, płatnej telewizji lub podobnych systemów telewizyjnych typu konsumenckiego o ograniczonym zasięgu, niepodlegającego cyfrowemu szyfrowaniu, oraz w którym cyfrowe szyfrowanie jest wykorzystywane tylko do wysyłania rachunków lub informacji związanych z programem wysyłanym zwrotnie do dostawców usług;c.Sprzętu, w którym funkcje kryptograficzne nie są dostępne dla użytkownika i są specjalnie zaprojektowane do realizacji funkcji ograniczonych do dowolnych z wymienionych niżej:1.Uruchamiania "oprogramowania" zabezpieczonego przed kopiowaniem;2.Realizowania dostępu do dowolnego z poniższych typów danych:a.Zabezpieczonych przed kopiowaniem danych przechowywanych na nośniku wykorzystywanym tylko do odczytu; lubb.Informacji przechowywanych na nośniku w formie zaszyfrowanej (np. w związku z ochroną praw własności intelektualnej), gdy nośnik oferowany jest do sprzedaży publicznej w identycznych zestawach;3.Kontroli kopiowania danych audio/video chronionych prawem autorskim; lub4. Szyfrowania lub odszyfrowywania do celów ochrony bibliotek, atrybutów projektów lub powiązanych danych dla potrzeb projektowania urządzeń półprzewodnikowych lub układów scalonych;d.Sprzętu kryptograficznego specjalnie zaprojektowanego i ograniczonego do zastosowań bankowych lub’ transakcji pieniężnych’;Uwaga techniczna:'Transakcje pieniężne' w ramach uwagi d do pozycji 5A002 obejmują zbieranie i ustalanie opłat lub funkcji kredytowych.e.Przewoźnych lub przenośnych radiotelefonów do zastosowań cywilnych, (np. do zastosowania w cywilnych systemach radiokomunikacji komórkowej), w których nie ma możliwości szyfrowania przez końcowych abonentów (typu "end-to-end");f.Sprzętu telefonii bezprzewodowej niezdolnego do szyfrowania typu "end-to-end", w którym, zgodnie z danymi producenta, maksymalny skuteczny zasięg działania bezprzewodowego bez dodatkowego wzmocnienia (tj. pojedyncza, bez pośrednictwa przekaźnika, odległość między terminalem a domową stacją bazową) wynosi mniej niż 400 m.5B2Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne5B002a. Sprzęt specjalnie zaprojektowany do:1."Rozwoju" sprzętu lub funkcji wyszczególniony w pozycji 5A002, 5B002, 5D002 lub 5E002, łącznie ze sprzętem pomiarowym lub testującym;2."Produkcji" sprzętu lub funkcji wyszczególniony w pozycji 5A002, 5B002, 5D002 lub 5E002, łącznie ze sprzętem pomiarowym, testującym, naprawczym lub produkcyjnym;b. Sprzęt pomiarowy specjalnie zaprojektowany do oceny i analizy funkcji "ochrony informacji" wyszczególniony w pozycji 5A002 lub 5D002.5C2MateriałyŻadne5D2Oprogramowanie5D002a."Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 5A002, 5B002 lub 5D002;b."Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do wspierania "technologii" wyszczególnionej w pozycji 5E002;c. Specyficzne "oprogramowanie", takie jak:1."Oprogramowanie" posiadające właściwości albo realizujące lub symulujące funkcje sprzętu wyszczególnionego w pozycji 5A002 lub 5B002;2."Oprogramowanie" do prowadzenia procesu certyfikacji "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 5D002.c.1;Uwaga: Pozycja 5D002 nie obejmuje kontrolą:a."Oprogramowania" niezbędnego do "użytkowania" sprzętu wykluczonego spod kontroli uwagą do pozycji 5A002;b."Oprogramowania" umożliwiającego realizację dowolnej funkcji sprzętu wykluczonego spod kontroli uwagą do pozycji 5A002.5E2Technologia5E002"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania", wyszczególnionego w pozycji 5A002, 5B002 lub 5D002.KATEGORIA 6CZUJNIKI I LASERY6ASystemy, urządzenia i części6A001Czujniki akustyczne.a. Następujące okrętowe systemy akustyczne, urządzenia albo specjalnie do nich przeznaczone elementy:1. Następujące systemy aktywne (nadajniki albo nadajniki-odbiorniki), urządzenia i specjalnie do nich przeznaczone elementy:Uwaga: Pozycja 6A001.a.1 nie obejmuje kontrolą:a.sond do pomiaru głębokości pracujących w pionie pod aparaturą, niemających możliwości przeszukiwania w zakresie powyżej ± 20°, których działanie jest ograniczone do pomiaru głębokości wody, odległości do zanurzonych lub zatopionych obiektów albo do wykrywania ławic ryb;b.następujących pław lub staw akustycznych:1.akustycznych pław lub staw ostrzegawczych;2.sonarów impulsowych specjalnie przeznaczonych do przemieszczenia się lub powrotu do położenia podwodnego.a. Systemy o szerokim zakresie przeszukiwania przeznaczone do badań batymetrycznych w celu sporządzania map topograficznych dna morskiego, mające wszystkie poniższe cechy charakterystyczne:1. Przeznaczenie do dokonywania pomiarów pod kątem większym od 20° w stosunku do pionu;2. Przeznaczenie do pomiarów głębokości większych niż 600 m, licząc od powierzchni wody; oraz3. Przeznaczenie do realizacji jednej z poniższych funkcji:a. Wprowadzanie wielu wiązek, z których co najmniej jedna ma rozwartość kątową poniżej 1,9°; lubb. Uzyskiwanie przeciętnej dokładności pomiarów głębokości wody na przeszukiwanym obszarze w odniesieniu do poszczególnych pomiarów lepszej niż 0,3 %;b. Systemy do wykrywania lub lokalizacji obiektów posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Częstotliwość nośna poniżej 10 kHz;2. Poziom ciśnienia akustycznego powyżej 224 dB (co odpowiada 1 mikropaskalowi na 1 m) w odniesieniu do urządzeń z częstotliwością roboczą w paśmie od 10 kHz do 24 kHz włącznie;3. Poziom ciśnienia akustycznego powyżej 235 dB (co odpowiada 1 mikropaskalowi na 1 m) w odniesieniu do urządzeń z częstotliwością roboczą w paśmie od 24 kHz do 30 kHz;4. Kształtujące wiązki o kącie rozproszenia poniżej 1° względem dowolnej osi i posiadające częstotliwość roboczą poniżej 100 kHz;5. Umożliwiające jednoznaczny pomiar odległości do obiektów w zakresie powyżej 5120 m; lub6. Skonstruowane w ten sposób, że w normalnych warunkach pracy są wytrzymałe na ciśnienia na głębokości większej niż 1000 m i są zaopatrzone w przetworniki:a. Z dynamiczną kompensacją ciśnienia; lubb. W których elementem przetwarzającym nie jest cyrkonian/tytanian ołowiu;c. Reflektory akustyczne, włącznie z przetwornikami, wyposażone w elementy piezoelektryczne, magnetostrykcyjne, elektrostrykcyjne, elektrodynamiczne lub hydrauliczne, działające indywidualnie lub w odpowiedniej kombinacji zespołowej, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:Uwaga 1: Status kontroli reflektorów akustycznych, włącznie z przetwornikami, specjalnie przeznaczonych do innych urządzeń, wynika ze statusu kontroli tych innych urządzeń.Uwaga 2: Pozycja 6A001.a.1.c nie obejmuje kontrolą elektronicznych źródeł kierujących dźwięk tylko w pionie ani źródeł mechanicznych (np. .pistolety powietrzne lub parowe) lub chemicznych (np. materiały wybuchowe).1.'Gęstość mocy akustycznej' w impulsie powyżej 0,01 mW/mm2/Hz dla urządzeń pracujących w paśmie częstotliwości poniżej 10 kHz;2.'Gęstość mocy akustycznej' ciągłej powyżej 0,001 mW/mm2/Hz dla urządzeń pracujących w paśmie częstotliwości poniżej 10 kHz; lubUwaga techniczna:'Gęstość mocy akustycznej' oblicza się dzieląc wyjściową moc akustyczną przez iloczyn pola powierzchni wypromieniowanej wiązki i częstotliwości roboczej.3. Mające tłumienie listka bocznego emisji powyżej 22 dB;d. Systemy akustyczne, urządzenia i specjalne elementy do określania położenia statków nawodnych lub pojazdów podwodnych skonstruowane z przeznaczeniem do działania w zasięgu powyżej 1000 m i umożliwiające wyznaczanie położenia z dokładnością poniżej 10 m (wartość średnia kwadratowa) w przypadku pomiaru w zasięgu do 1000 m;Uwaga: Pozycja 6A001.a.1.d obejmuje:a.urządzenia, w których zastosowano koherentne "przetwarzanie sygnałów" pomiędzy dwiema lub większą liczbą boi kierunkowych a hydrofonem na statku nawodnym albo pojeździe podwodnym,b.urządzenia mające możliwość automatycznego korygowania błędów prędkości rozchodzenia się dźwięku w celu obliczenia położenia obiektu.2. Następujące pasywne urządzenia i systemy (odbiorcze, współpracujące, albo nie, w normalnych zastosowaniach z oddzielnymi urządzeniami aktywnymi) oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy:a. Hydrofony posiadające jedną z następujących cech charakterystycznych:Uwaga: Status kontroli hydrofonów specjalnie zaprojektowanych do innych urządzeń, wynika ze statusu kontroli tych innych urządzeń.1. Wyposażone w ciągłe, elastyczne zespoły zczujnikowe;2. Złożone z dyskretnych elementów czujnikowych o średnicy lub długości poniżej 20 mm znajdujących się w odległości jeden od drugiego wynoszącej poniżej 20 mm;3. Wyposażone w jeden z następujących elementów czujnikowych:a. Światłowody;b."Piezoelektryczne powłoki polimerowe" inne niż polifluorek winylidenu (PVDF) i jego kopolimery {}{P(VDF-TrFE i P(VDF-TFE}}; lubc. Elastyczne, kompozyty piezoelektryczne;4.'Czułość hydrofonów' lepszą niż – 180 dB na każdej głębokości bez kompensacji przyspieszeniowej;5. W przypadku przeznaczenia do pracy na głębokościach większych niż 35 m z kompensacją przyspieszeniową; lub6. Przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1000 m;Uwagi techniczne:1.Elementy czujnikowe typu "piezoelektryczne powłoki polimerowe" składają się ze spolaryzowanej powłoki polimerowej, rozpiętej i przymocowanej do ramy lub szpuli (trzpienia).2.Elementy czujnikowe typu "elastyczny kompozyt piezoelektryczny" składają się z piezoelektrycznych cząstek lub włókien ceramicznych połączonych z elektrycznie izolującym, akustycznie przejrzystym komponentem z gumy, polimeru lub epoksydu, przy czym komponent ten jest integralną częścią elementów czujnikowych.3.'Czułość hydrofonu' definiuje się jako dwadzieścia logarytmów przy podstawie 10 ze stosunku napięcia skutecznego po sprowadzeniu do napięcia skutecznego 1 V, po umieszczeniu czujnika hydrofonowego, bez przedwzmacniacza, w polu akustycznych fal płaskich o ciśnieniu skutecznym 1 mikropaskala. Na przykład, hydrofon o czułości – 160 dB (po sprowadzeniu do poziomu 1 V na mikropaskal) daje w takim polu napięcie wyjściowe 10–8 V, natomiast hydrofon o czułości – 180 dB daje w takim samym polu napięcie wyjściowe tylko 10–9 V. Zatem hydrofon o czułości – 160 dB jest lepszy od hydrofonu o czułości – 180 dB.b. Holowane zestawy matrycowe hydrofonów akustycznych, mające jedną z następujących cech:1. Odległość pomiędzy grupami hydrofonów wynosi poniżej 12,5 m; lub "możliwe do modyfikowania" tak, żeby odległość pomiędzy grupami hydrofonów była mniejsza niż 12,5 m;2. Przeznaczone albo 'możliwe do modyfikowania' z przeznaczeniem do działania na głębokościach większych niż 35 m;Uwaga techniczna:Wspomniana w pozycji 6A001.a.2.b.1 i 2 'możliwość modyfikowania' oznacza, że są zaopatrzone w elementy umożliwiające zmianę przewodów lub połączeń w celu zmiany odległości pomiędzy grupami hydrofonów albo granicznych głębokości roboczych. Do elementów takich zalicza się: zapasowe przewody w ilości przewyższającej o 10 % liczbę przewodów używanych, bloki umożliwiające zmianę odległości pomiędzy grupami hydrofonów lub wewnętrzne regulowane urządzenia limitujące głębokość lub urządzenia sterujące umożliwiające sterowanie więcej niż jedną grupą hydrofonów.3. Czujniki kursowe objęte kontrolą według pozycji 6A001.a.2.d;4. Sieci węży ze wzmocnieniem podłużnym;5. Wyposażenie w układ zespołowy o średnicy mniejszej niż 40 mm;6. Możliwość multipleksowania sygnałów grup hydrofonów i przeznaczenie do działania na głębokościach większych niż 35 m albo wyposażenie w regulowane lub demontowalne czujniki głębokości z przeznaczeniem do pracy na głębokościach większych niż 35 m; lub7. Wyposażenie w hydrofony o właściwościach określonych w pozycji 6A001.a.2.a;c. Urządzenia przetwarzające, specjalnie przeznaczone do holowanych zestawów (matryc) hydrofonów akustycznych posiadające "możliwość dostępu użytkownika do oprogramowania" oraz możliwość przetwarzania i korelacji w funkcji czasu lub częstotliwości, włącznie z analizą spektralną, filtrowaniem cyfrowym i kształtowaniem wiązki za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub innych transformat lub procesów;d. Czujniki kursowe posiadające wszystkie z poniższych cech:1. Dokładność powyżej ± 0,5°; oraz2. Przeznaczone do pracy na głębokościach większych niż 35 m albo wyposażone w regulowane lub możliwe do demontażu czujniki głębokości z przeznaczeniem do pracy na głębokościach większych niż 35 m;e. Denne lub przybrzeżne układy kablowe mające jedną z poniższych cech:1. Wykorzystujące hydrofony z pozycji 6A001.a.2.a; lub2. Zawierające moduły multipleksowe sygnałów grup hydrofonów, mające wszystkie wymienione niżej cechy:a. Przeznaczone do działania na głębokości poniżej 35 m albo wyposażone w regulowane lub możliwe do demontażu czujniki głębokości, aby mogły działać na głębokości poniżej 35 m; ib. Mogące pracować wymiennie z modułami holowanych zestawów hydrofonów akustycznych.f. Urządzenia przetwarzające, specjalnie przeznaczone do kablowych układów dennych lub międzywręgowych, umożliwiające "programowalność dostępną dla użytkownika" oraz przetwarzanie i korelację w dziedzinie czasu lub częstotliwości, w tym analizę widmową, filtrowanie cyfrowe oraz cyfrowe kształtowanie wiązki za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub innych transformat lub procesów.b. Urządzenia sonarowe z korelacją prędkościową przeznaczone do pomiaru prędkości poziomej obiektu, na którym się znajdują, względem dna morza w przypadku odległości obiektu od dna powyżej 500 m.6A002Czujniki optyczneNB.: Sprawdź także pozycję 6A102.a. Następujące detektory optyczne:Uwaga: Pozycja 6A002.a nie obejmuje kontrolą elementów fotoelektrycznych wykonanych z germanu lub krzemu.NB.: Mikrobolometryczne "płaskie zespoły ogniskujące", inne niż "klasy kosmicznej", wykonane na bazie krzemu lub innych materiałów są wymienione jedynie w pozycji 6A002.a.3.f.1. Następujące detektory półprzewodnikowe "klasy kosmicznej":a. Detektory półprzewodnikowe "klasy kosmicznej" posiadające wszystkie z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Reakcja szczytowa w paśmie fal o długości powyżej 10 nm, ale poniżej 300 nm; i2. W zakresie fal o długości powyżej 400 nm reakcja słabsza niż 0,1 % reakcji szczytowej;b. Detektory półprzewodnikowe "klasy kosmicznej" posiadające wszystkie z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Reakcja szczytowa w zakresie długości fal powyżej 900 nm, ale poniżej 1200 nm; oraz2."Stała czasowa" reakcji 95 ns lub poniżej;c. Detektory półprzewodnikowe "klasy kosmicznej" posiadające reakcję szczytową w zakresie długości fal powyżej 1200 nm, ale poniżej 30000 nm;2. Następujące lampy wzmacniające obrazy i specjalnie do nich przeznaczone elementy:a. Lampy wzmacniające obrazy posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:1. Reakcja szczytowa w zakresie długości fal powyżej 400 nm, ale poniżej 1050 nm;2. Elektroda mikrokanalikowa do wzmacniania obrazów elektronicznych z otworkami w odstępach (odległość pomiędzy środkami otworków) poniżej 12 mikrometrów; oraz3. Następujące fotokatody:a. Fotokatody S-20 i S-25 lub alkaliczne (wielopierwiastkowe) o czułości świetlnej przekraczającej 350 μA/lm;b. Fotokatody GaAs lub GaInAs; lubc. Inne fotokatody półprzewodnikowe związków III–V.Uwaga: Pozycja 6A002.a.2.a.3.c nie obejmuje kontrolą fotokatod półprzewodnikowych związkowych o maksymalnej czułości promieniowania 10 mA/W lub mniej.b. Następujące specjalnie opracowane elementy:1. Elektrody mikrokanalikowe do wzmacniania obrazów z otworkami w odstępach (odległość pomiędzy środkami otworków) poniżej 12 mikrometrów;2. Fotokatody GaAs lub GaInAs;3. Inne fotokatody półprzewodnikowe związków III–V.Uwaga: Pozycja 6A002.a.2.b.3 nie obejmuje kontrolą fotokatod półprzewodnikowych związkowych o maksymalnej czułości promieniowania 10 mA/W lub mniej.3. Następujące, inne niż "klasy kosmicznej""płaskie zespoły ogniskujące":Uwaga: Mikrobolometryczne "płaskie zespoły ogniskujące", inne niż "klasy kosmicznej", wykonane na bazie krzemu lub innych materiałów są wymienione jedynie w pozycji 6A002.a.3.f.Uwagi techniczne:1."Płaskie zespoły ogniskujące" to liniowe lub dwuwymiarowe wieloelementowe zespoły czujników.2.Dla celów pozycji 6A002.a.3 'poprzeczny kierunek przeszukiwania' jest określany jako oś równoległa do liniowego układu elementów detekcyjnych, a 'kierunek przeszukiwania' jest określany jako oś prostopadła do liniowego układu elementów detekcyjnych.Uwaga 1: Pozycja 6A002.a.3 obejmuje kontrolą zespoły fotoprzewodzące i fotowoltaiczne.Uwaga 2: Pozycja 6A002.a.3 nie obejmuje kontrolą:a.wieloelementowych (nie więcej niż 16 elementów) komórek fotoelektrycznych w obudowie, zawierających siarczek lub selenek cynku.b. detektorów piroelektrycznych, w których zastosowano jeden z następujących związków:1. Siarczan triglicyny i jego odmiany;2. Tytanian ołowiu-lantanu-cyrkonu i odmiany;3. Tantalan litu;4. Polifluorek winylidenu i jego odmiany; lub5. Niobian strontu-baru i jego odmiany;a. Inne niż "klasy kosmicznej""płaskie zespoły ogniskujące" posiadające wszystkie z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Pojedyncze elementy o reakcji szczytowej w zakresie długości fal z przedziału powyżej 900 nm, ale poniżej 1050 nm; oraz2."Stała czasowa" reakcji poniżej 0,5 ns;b. Inne niż "klasy kosmicznej""płaskie zespoły ogniskujące" posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:1. Pojedyncze elementy o reakcji szczytowej w zakresie długości fal z przedziału powyżej 1050 nm, ale poniżej 1200 nm; oraz2."Stała czasowa" reakcji 95 ns lub mniej; lubc. Inne niż "klasy kosmicznej" nieliniowe (2 wymiarowe) "płaskie zespoły ogniskujące" posiadające reakcję szczytową poszczególnych elementów w zakresie długości fal z przedziału powyżej 1200 nm, ale poniżej 30000 nm;Uwaga: Mikrobolometryczne "płaskie zespoły ogniskujące", inne niż "klasy kosmicznej", wykonane na bazie krzemu lub innych materiałów są wymienione jedynie w pozycji 6A002.a.3.f.d. Inne niż "klasy kosmicznej" liniowe (1 wymiarowe) "płaskie zespoły ogniskujące", posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne:1. Pojedyncze elementy o reakcji szczytowej w zakresie długości fal z przedziału powyżej 1200 nm, ale poniżej 2500 nm; oraz2. Jedną z następujących właściwości:a. stosunek wymiaru 'kierunku przeszukiwania' elementu detekcyjnego do wymiaru 'poprzecznego kierunku przeszukiwania' elementu detekcyjnego poniżej 3,6; lubb. przetwarzanie sygnałów w elemencie (SPRITE);e. Inne niż "klasy kosmicznej" liniowe (1 wymiarowe) "płaskie zespoły ogniskujące" posiadające reakcję szczytową poszczególnych elementów w zakresie długości fal z przedziału powyżej 2500 nm, ale poniżej 30000 nm.f. Inne niż "klasy kosmicznej" nieliniowe (2 wymiarowe) "płaskie zespoły ogniskujące" w zakresie promieniowania podczerwonego oparte na materiale "mikrobolometrycznym" posiadające niefiltrowaną odpowiedź poszczególnych elementów w zakresie długości fal z przedziału powyżej 8000 nm, ale poniżej 14000 nm.Uwaga techniczna:Do celów 6A002.a.3.f "mikrobolometr" jest określany jako detektor termalny, który, w wyniku zmiany temperatury w detektorze spowodowanej przez absorpcję promieniowania podczerwonego, generuje nadające się do wykorzystania sygnały.b."Monospektralne czujniki obrazowe" i "wielospektralne czujniki obrazowe" przeznaczone do zdalnego wykrywania obiektów, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Chwilowe pole widzenia (IFOV) poniżej 200 mikroradianów; lub2. Przeznaczenie do działania w zakresie fal o długości powyżej 400 nm, ale poniżej 30000 nm oraz mające wszystkie następujące własności:a. Dostarczanie wyjściowych danych obrazowych w postaci cyfrowej; orazb. Spełnianie jednego z warunków:1. Posiadanie "klasy kosmicznej"; lub2. Przeznaczenie do zastosowań lotniczych i zaopatrzenie w czujniki inne niż krzemowe oraz posiadające IFOV poniżej 2,5 miliradianów.c. Urządzenia do 'bezpośredniego widzenia' działające w zakresie promieniowania widzialnego lub podczerwonego wyposażone w jeden z następujących zespołów:1. Lampy do wzmacniania obrazów objęte kontrolą według pozycji 6A002.a.2.a; lub2."Płaskie zespoły ogniskujące" objęte kontrolą według pozycji 6A002.a.3;Uwaga techniczna:Termin "bezpośrednie widzenie" odnosi się do urządzeń tworzących obrazy, działających w zakresie fal widzialnych albo podczerwonych i przedstawiających widzialny dla człowieka obraz bez jego przetwarzania na sygnał elektroniczny przekazywany na ekran telewizyjny, niemogących zarejestrować albo przechować obrazu na drodze fotograficznej, elektronicznej albo jakiejkolwiek innej.Uwaga: Pozycja 6A002.c nie obejmuje kontrolą następujących urządzeń zaopatrzonych w fotokatody inne niż z GaAs lub GaInAs:a.Przemysłowych lub cywilnych systemów alarmowych, systemów kontroli ruchu drogowego lub przemysłowego ani systemów zliczających;b.Urządzeń medycznych;c.Urządzeń przemysłowych stosowanych do kontroli, sortowania lub analizy właściwości materiałów;d.Wykrywaczy płomieni do pieców przemysłowych;e.Urządzeń specjalnie przeznaczonych do celów laboratoryjnych.d. Następujące specjalne elementy pomocnicze do czujników optycznych;1. Chłodnice kriogeniczne "klasy kosmicznej";2. Następujące chłodnice kriogeniczne nie należące do "klasy kosmicznej", posiadające źródło chłodzenia o temperaturze poniżej 218 K (– 55 °C):a. Pracujące w obiegu zamkniętym i charakteryzujące się średnim Czasem Do Awarii (MTTF) albo średnim Czasem Międzyawaryjnym (MTBF) powyżej 2500 godzin;b. Samoregulujące się minichłodnice Joula-Thomsona (JT) z otworkami o średnicy (na zewnątrz) poniżej 8 mm;3. Czujnikowe włókna optyczne o specjalnym składzie albo konstrukcji, albo zmodyfikowane techniką powlekania, w celu nadania im właściwości umożliwiających reagowanie na fale akustyczne, promieniowanie termiczne, siły bezwładności, promieniowanie elektromagnetyczne lub jądrowe,e."Płaskie zespoły ogniskujące""klasy kosmicznej" mające więcej niż 2048 elementów na zespół i reakcję szczytową w paśmie fal o długości powyżej 300 nm, ale poniżej 900 nm.6A003Kamery filmoweNB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A203.NB.: Dla kamer specjalnie opracowanych lub zmodyfikowanych do zastosowań podwodnych sprawdź także pozycje 8A002.d i 8A002.e.a. Następujące kamery rejestrujące i specjalnie dla nich przeznaczone elementy:Uwaga: Kamery rejestrujące, określone w poz. 6A003.a.3 do 6A003.a.5, o budowie modułowej powinny być oceniane wg ich maksymalnych możliwości przy wykorzystaniu 'zespołów wtykanych' zgodnie ze specyfikacją producenta kamery.1. Bardzo szybkie kamery filmowe rejestrujące na błonie dowolnego formatu od 8 mm do 16 mm włącznie, w których błona jest podczas rejestracji przesuwana w sposób ciągły, umożliwiające rejestrowanie obrazów z szybkościami powyżej 13150 klatek na sekundę;Uwaga: Pozycja 6A003.a.1 nie obejmuje kontrolą filmowych kamer rejestrujących przeznaczonych do użytku cywilnego.2. Bardzo szybkie kamery z napędem mechanicznym, bez przesuwu filmu, umożliwiające rejestrację z szybkościami powyżej 1000000 klatek na sekundę na całej szerokości błony 35 mm, lub z szybkościami proporcjonalnie większymi na błonach o mniejszych formatach, albo z szybkościami proporcjonalnie mniejszymi na błonach o formatach większych;3. Mechaniczne lub elektryczne kamery smugowe o szybkości zapisu powyżej 10 mm/mikrosekundę;4. Elektroniczne kamery obrazowe o szybkości powyżej 1000000 klatek na sekundę;5. Kamery elektroniczne posiadające obie z poniższych cech:a. Szybkość działania migawki elektronicznej (bramkowania) poniżej 1 mikrosekundy na pełną klatkę; orazb. Czas odczytu umożliwiający szybkość powyżej 125 pełnych klatek na sekundę;6.'Zespoły wtykane' posiadające wszystkie z poniższych cech:a. Specjalnie zaprojektowane do kamer rejestrujących, które mają modułową strukturę i które zostały wyszczególnione w pozycji 6A003.a.; orazb. Umożliwiające tym kamerom realizowanie właściwości wymienionych w pozycjach 6A003.a.3., 6A003.a.4. lub 6A003.a.5., zgodnie z danymi technicznymi producenta.b. Następujące kamery obrazowe:Uwaga: Pozycja 6A003.b nie obejmuje kontrolą kamer telewizyjnych ani wideokamer przeznaczonych specjalnie dla stacji telewizyjnych.1. Wideokamery z czujnikami półprzewodnikowymi posiadające reakcję szczytową w przedziale długości fal powyżej 10 nm, ale nie więcej niż 30000 nm, oraz wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:a. posiadające jedną z poniższych właściwości:1. powyżej 4 × 106"aktywnych pikseli" na półprzewodnikową siatkę dla kamer monochromatycznych (czarno-białych);2. powyżej 4 × 106"aktywnych pikseli" na półprzewodnikową siatkę dla kamer kolorowych z trzema siatkami półprzewodnikowymi; lub3. powyżej 12 × 106"aktywnych pikseli" na półprzewodnikową siatkę dla kamer kolorowych z jedną siatką półprzewodnikową; orazb. posiadające jedną z poniższych:1. zwierciadła optyczne objęte kontrolą według pozycji 6A004.a;2. urządzenia do sterowania optyką objęte kontrolą według pozycji 6A004.d; lub3. zdolność do nanoszenia wytwarzanych wewnętrznie ścieżek danych o kamerze.Uwaga techniczna:1.Na użytek niniejszego punktu wideokamery cyfrowe powinny być oceniane na podstawie maksymalnej liczby "aktywnych pikseli" wykorzystywanych do rejestrowania obrazów ruchomych.2.Na użytek niniejszego punktu, ścieżki danych o kamerze stanowią informacje niezbędne do określenia orientacji widzenia kamery względem ziemi. Należą do nich: 1) kąt poziomy osi widzenia kamery względem kierunku pola magnetycznego ziemi; oraz 2) kąt pionowy pomiędzy osią widzenia kamery a horyzontem ziemi.2. Kamery skaningowe i systemy kamer skaningowych posiadające wszystkie z poniższych właściwości:a. Posiadające reakcję szczytową w przedziale długości fal powyżej 10 nm, ale nie większą niż 30000 nm;b. Liniowe siatki detekcyjne posiadające powyżej 8192 elementów na siatkę; ic. Mechaniczne przeszukiwanie w jednym kierunku;3. Kamery obrazowe wyposażone we wzmacniacze obrazów wymienione w pozycji 6A002.a.2.a.;4. Kamery obrazowe zawierające "płaskie zespoły ogniskujące" wyposażone w:a."płaskie zespoły ogniskujące" objęte kontrolą według pozycji 6A002.a.3.a do 6A002.a.3.e; lubb."płaskie zespoły ogniskujące" objęte kontrolą według pozycji 6A002.a.3.f.Uwaga 1:"kamery obrazowe" opisane w pozycji 6A003.b.4 zawierają "płaskie zespoły ogniskujące" połączone z odpowiednią elektroniką przetwarzania sygnałów, poza układem odczytującym, w celu umożliwienia przynajmniej wyjścia sygnału analogowego lub cyfrowego po podłączeniu zasilania.Uwaga 2: Pozycja 6A003.b.4.a nie obejmuje kontrolą kamer obrazowych wykorzystujących liniowe "płaskie zespoły ogniskujące" o 12 lub mniej elementach, nieposiadających w elementach opóźnienia czasowego i całkowania, przeznaczone do następujących zastosowań:a.Przemysłowe lub cywilne alarmy włamaniowe, kontrola ruchu na drogach lub w przemyśle, lub systemy zliczające;b.Urządzenia przemysłowe stosowane do nadzoru lub monitorowania wypływu ciepła w budynkach, urządzeniach lub procesach przemysłowych;c.Urządzenia przemysłowe stosowane do nadzoru, sortowania lub analizy właściwości materiałów;d.Urządzenia specjalnie zaprojektowane do zastosowań laboratoryjnych; lube.Sprzęt medyczny.Uwaga 3: Pozycja 6A003.b.4.b. nie obejmuje kontrolą kamer obrazowych posiadających dowolną z następujących cech:a.szybkość analizy obrazów równa lub wyższa niż 9 Hz;b.oraz wszystkie wymienione poniżej:1.poziome lub pionowe minimalne chwilowe pole widzenia (IFOV) wynoszące przynajmniej 10 mrad/pixel (miliradianów/piksel);2.wyposażone w stałą soczewkę ogniskującą, która została zaprojektowana w sposób uniemożliwiający usunięcie;3.brak wyposażenia w wyświetlacz "bezpośredniego widzenia", oraz4.posiadanie dowolnej z następujących cech :a.brak możliwości uzyskania widzialnego obrazu wykrytego pola widzenia; lubb.zaprojektowanie kamery dla jednego rodzaju zastosowania, bez możliwości modyfikowania jej funkcji przez użytkownika; lubc.pecjalne zaprojektowanie kamery do instalacji w cywilnych pasażerskich pojazdach lądowych o ciężarze mniejszym niż trzy tony (ciężar brutto pojazdu) i posiadanie przez nią wszystkich następujących cech:1.możliwość funkcjonowania tylko, gdy kamera jest zainstalowana w jednym z następujących:a.cywilne pasażerskie pojazdy lądowe, do których była przeznaczona; lubb.specjalnie zaprojektowane, autoryzowane urządzenie do testów konserwacyjnych; oraz2.Posiada aktywny mechanizm, który powoduje zaprzestanie działania kamery, gdy jest ona zdjęta z pojazdu, dla którego została przeznaczona.Uwagi techniczne:1.Chwilowe pole widzenia (IFOV) określone w pozycji 6.A003.b.4 uwaga 3.b jest mniejszą z wartości poziomego IFOV lub pionowego IFOV.Poziome IFOV = poziome pole widzenia (FOV) / liczba poziomych elementów detekcyjnych.Pionowe IFOV = pionowe pole widzenia (FOV) / liczba pionowych elementów detekcyjnych.2.Termin "bezpośrednie widzenie" określony w pozycji 6A003.b.4. uwaga 3.b. odnosi się do kamery obrazowej działającej w zakresie fal podczerwonych, która wytwarza obraz widzialny dla człowieka będącego obserwatorem, wykorzystując mikrowyświetlacz bliski oku wyposażony w dowolny mechanizm zabezpieczenia przed światłem.6A004Elementy optycznea. Następujące zwierciadła optyczne (reflektory):1."Zwierciadła odkształcalne" o powierzchni ciągłej lub wieloelementowej oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy, mające możliwość dynamicznej zmiany położenia części powierzchni zwierciadła z szybkością powyżej 100 Hz;2. Lekkie zwierciadła monolityczne o przeciętnej "gęstości zastępczej" poniżej 30 kg/m2 i masie całkowitej powyżej 10 kg;3. Lekkie konstrukcje zwierciadlane z materiałów "kompozytowych" lub spienionych o przeciętnej "gęstości zastępczej" poniżej 30 kg/m2 i masie całkowitej powyżej 2 kg;4. Zwierciadła do kierowania wiązką, mające średnicę albo długość osi głównej powyżej 100 mm, zachowujące płaskość rzędu lambda/2 lub lepszą (lambda jest równe 633 nm) i sterowane wiązką o szerokości pasma powyżej 100 Hz;b. Elementy optyczne z selenku cynku (ZnSe) lub siarczku cynku (ZnS) z możliwością transmisji w zakresie długości fal powyżej 3000 nm, ale poniżej 25000 nm i posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Objętość powyżej 100 cm3; lub2. Średnicę lub długość osi głównej powyżej 80 mm oraz grubość (głębokość) powyżej 20 mm;c. Następujące elementy "klasy kosmicznej" do systemów optycznych:1. O "gęstości zastępczej" obniżonej o 20 % w porównaniu z masywnym wyrobem o takiej samej aperturze i grubości;2. Podłoża surowe, podłoża powlekane powierzchniowo (z powłoką jednowarstwową lub wielowarstwową, metaliczną lub dielektryczną, przewodzącą, półprzewodzącą lub izolującą) lub pokryte błoną ochronną;3. Segmenty lub zespoły zwierciadeł przeznaczone do montażu z nich w przestrzeni kosmicznej systemów optycznych, mające sumaryczną aperturę równoważną lub większą niż pojedynczy element optyczny o średnicy 1 metra;4. Wykonane z materiałów "kompozytowych" o współczynniku liniowej rozszerzalności termicznej w kierunku dowolnej współrzędnej równym lub mniejszym niż 5 × 10-6;d. Następujące urządzenia do sterowania elementami optycznymi:1. Urządzenia specjalnie przeznaczone do utrzymywania kształtu lub orientacji powierzchni elementów "klasy kosmicznej" objętych kontrolą według pozycji 6A004.c.1 lub 6A004.c.3;2. Urządzenia posiadające pasmo sterowania, śledzenia, stabilizacji lub strojenia rezonatora o szerokości równej lub większej niż 100 Hz oraz dokładność 10 μrad (mikroradianów) lub lepszą;3. Zawieszenia kardanowe mające wszystkie z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Maksymalny kąt wychylenia powyżej 5°;b. Szerokość pasma równą lub większą niż 100 Hz;c. Możliwość ustawiania kątowego z dokładnością równą lub lepszą niż 200 μrad (mikroradianów); orazd. Jeden z wymienionych poniżej parametrów:1. średnicę lub długość osi głównej powyżej 0,15 m, ale nie większą niż 1 m i możliwość zmiany położenia kątowego z przyspieszeniami powyżej 2 rad (radianów)/s2; lub2. średnicę lub długość osi głównej powyżej 1 m i możliwość zmiany położenia kątowego z przyspieszeniami powyżej 0,5 rad (radianów)/s2;4. Urządzenia specjalnie przeznaczone do utrzymywania w odpowiednim położeniu systemów układów fazowanych lub systemów fazowanych zwierciadeł segmentowych o średnicy segmentów lub długości osi głównej równej lub większej od 1 m;e.'Asferyczne elementy optyczne', mające wszystkie wymienione niżej cechy:1. Największy wymiar apertury optycznej jest większy niż 400 mm;2. Nierówność powierzchni jest mniejsza niż 1 nm (średnia wartość kwadratowa) dla długości próbkowania równej lub większej niż 1 mm; i3. Wartość absolutna współczynnika liniowej rozszerzalności termicznej przy 25 °C jest mniejsza niż 3 × 10-6/K.Uwagi techniczne:1.'Asferycznym elementem optycznym' jest taki element, stosowany w systemach optycznych, którego powierzchnia lub powierzchnie czynne są zaprojektowane jako odbiegające od kształtu idealnej sfery.2.Od producentów nie jest wymagany pomiar nierówności, o którym mowa w 6A004.e., jeżeli element optyczny nie został zaprojektowany lub wykonany z zamiarem dotrzymania lub przekroczenia parametru kontrolnego.Uwaga: Pozycja 6A004.e.2 nie obejmuje kontrolą asferycznych elementów optycznych mających którąkolwiek z następujących cech:a.Największy wymiar apertury optycznej mniejszy niż 1 m i stosunek długości ogniskowej do apertury równy lub większy niż 4.5:1;b.Największy wymiar apertury optycznej równy lub większy niż 1 m i stosunek długości ogniskowej do apertury równy lub większy niż 7:1;c.Zaprojektowany jako element Fresnela, oko muchy, pasek, pryzmat lub element dyfrakcyjny;d.Wykonany ze szkła borokrzemowego mającego współczynnik rozszerzalności liniowej większy niż 2,5 × 10 -6 /K przy 25 °C; lube.Będący elementem optyki rentgenowskiej, mającym właściwości zwierciadła wewnętrznego (np. zwierciadła typu rurowego).NB.: Jeżeli chodzi o elementy asferyczne specjalnie zaprojektowane dla urządzeń litograficznych, patrz 3B001.6A005Następujące "lasery", ich elementy i urządzenia optyczne do nich, różne od wymienionych w pozycjach 0B001.g.5 lub 0B001.h.6:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A205.Uwaga 1: Do "laserów" impulsowych zalicza się lasery z falą ciągłą (CW), z nakładanymi na nią impulsami.Uwaga 2: Do "laserów" wzbudzanych impulsowo zalicza się lasery działające w trybie wzbudzenia ciągłego z nakładającym się wzbudzeniem impulsowym.Uwaga 3: Status kontroli "laserów" Ramana wynika z parametrów "laserów" pompujących. "Laserem" pompującym może być każdy z "laserów" wymienionych poniżej.a. Następujące "lasery" gazowe:1."Lasery" ekscymerowe posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Długość fali wyjściowej nieprzekraczającą 150 nm oraz jedną z poniższych właściwości:1. Energia wyjściowa powyżej 50 mJ na impuls; lub2. Przeciętna moc wyjściowa powyżej 1 W;b. Długość fali wyjściowej powyżej 150 nm, ale nie dłuższą niż 190 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 1,5 J na impuls; lub2. Przeciętna moc wyjściowa powyżej 120 W;c. Długość fali wyjściowej powyżej 190 nm, ale nie więcej niż 360 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 10 J na impuls; lub2. Przeciętna moc wyjściowa powyżej 500 W; lubd. Długość fali wyjściowej powyżej 360 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 1,5 J na impuls; lub2. Przeciętna moc wyjściowa powyżej 30 W;NB.: W przypadku "laserów" ekscymerowych specjalnie zaprojektowanych dla urządzeń litograficznych sprawdź 3B001.2. Następujące "lasery" na parach metali:a."Lasery" na miedzi (Cu) o przeciętnej mocy wyjściowej powyżej 20 W;b."Lasery" na złocie (Au) o przeciętnej mocy wyjściowej powyżej 5 W;c."Lasery" na sodzie (Na) o mocy wyjściowej powyżej 5 W;d."Lasery"na barze (Ba) o przeciętnej mocy wyjściowej powyżej 2 W;3."Lasery" na tlenku węgla (CO) posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Energia wyjściowa powyżej 2 J na impuls i "szczytowa moc" impulsu powyżej 5 kW; lubb. Przeciętna lub ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 5 kW;4."Lasery" na dwutlenku węgla (CO2) posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 15 kW;b. Wyjście impulsowe z "szerokością impulsu" powyżej 10 mikrosekund oraz jeden z poniższych parametrów:1. Przeciętna moc wyjściowa powyżej 10 kW; lub2."Moc szczytowa" impulsu powyżej 100 kW; lubc. Wyjście impulsowe o "szerokości impulsu" równej lub mniejszej niż 10 mikrosekund oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia impulsu powyżej 5 J na impuls; lub2. Przeciętna moc wyjściowa powyżej 2,5 kW;5. Następujące "lasery chemiczne":a."Lasery" fluorowodorowe (HF);b."Lasery" na fluorku deuteru (DF);c."Lasery z przekazaniem energii":1."Lasery" tlenowo-jodowe (O2-I);2."Lasery" na mieszaninie fluorku deuteru i dwutlenku węgla (DF-CO2);6."Lasery" jarzeniowo-jonowe, tj. "lasery" na jonach kryptonu lub argonu posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Energia wyjściowa powyżej 1,5 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 50 W; lubb. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 50 W;7. Inne "lasery" gazowe, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:Uwaga: Pozycja 6A005.a.7. nie obejmuje kontrolą "laserów" azotowych.a. Długość fali wyjściowej nie większa niż 150 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 50 mJ na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 1 W; lub2. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;b. Długość fali wyjściowej większa niż 150 nm, ale nie dłuższa niż 800 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 1,5 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 30 W; lub2. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 30 W;c. Długość fali wyjściowej większa niż 800 nm, ale nie dłuższa niż 1400 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 0,25 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 10 W; lub2. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 10 W; lubd. Długość fali wyjściowej większa niż 1400 nm oraz przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;b."Lasery" półprzewodnikowe, jak następuje:1. Indywidualne "lasery" półprzewodnikowe działające w trybie z pojedynczym przejściem poprzecznym posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Długość fali mniejszą niż 1510 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 1,5 W; lubb. Długość fali większą niż 1510 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 500 mW;2. Indywidualne "lasery" półprzewodnikowe działające w trybie z wielokrotnym przejściem poprzecznym posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Długość fali mniejszą niż 1400 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 10 W;b. Długość fali większą niż 1400 nm a mniejszą niż 1900 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 2,5 W; lubc. Długość fali równą lub większą niż 1900 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 1 W.3. Indywidualne zestawy oddzielnych "laserów" półprzewodnikowych posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Długość fali mniejszą niż 1400 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 80 W;b. Długość fali większą niż 1400 nm a mniejszą niż 1900 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 25 W; lubc. Długość fali równą lub większą niż 1900 nm oraz przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 10 W.4. Stosy układów "laserów" półprzewodnikowych zawierające przynajmniej jeden układ znajdujący się pod pozycją 6A005.b.3.Uwagi techniczne:1."Lasery" półprzewodnikowe są powszechnie nazywane diodami "laserowymi".2."Układ" składa się z wielu półprzewodnikowych emiterów "laserowych" wytwarzanych jako jeden układ scalony tak, że środki emitowanych wiązek światła leżą na liniach równoległych.3."Stos układów" wytwarza się układając na sobie, albo w inny sposób, tworząc zespół, "układy" tak, że środki emitowanych wiązek światła leżą na liniach równoległych.Uwaga 1: Pozycja 6A005.b. obejmuje "lasery" półprzewodnikowe wyposażone w optyczne złącza wyjściowe (np. kable z włókien światłowodowych).Uwaga 2: Status kontroli "laserów" półprzewodnikowych przeznaczonych specjalnie do innych urządzeń wynika ze statusu kontroli tych innych urządzeń.c. Następujące "lasery" na ciele stałym:1."Lasery""przestrajalne" posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:Uwaga: Pozycja 6A005.c.1. obejmuje "lasery" tytanowo-szafirowe (Ti: Al 2 O 3 ), tul – YAG (Tm: YAG), tul – YSGG (Tm: YSGG), aleksandrytowe (CR: BeAl 2 O 4 ) oraz "lasery" barwnikowe.a. Długość fali wyjściowej poniżej 600 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 50 mJ na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 1 W; lub2. Przeciętna lub ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;b. Długość fali wyjściowej 600 nm lub większa, ale nieprzekraczająca 1400 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 1 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 20 W; lub2. Przeciętna lub ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 20 W; lubc. Długość fali wyjściowej powyżej 1400 nm oraz jeden z poniższych parametrów:1. Energia wyjściowa powyżej 50 mJ na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 1 W; lub2. Przeciętna lub ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;2. Następujące "lasery""nieprzestrajalne":Uwaga: Pozycja 6A005.c.2. obejmuje kontrolą "lasery" na ciele stałym z przemianą atomową.a. Następujące "lasery" ze szkła neodymowego:1."Lasery modulowane dobrocią" posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Energia wyjściowa powyżej 20 J, ale nie więcej niż 50 J na impuls i przeciętna moc wyjściowa powyżej 10 W; lubb. Energia wyjściowa powyżej 50 J na impuls;2."Lasery niemodulowane dobrocią" posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Energia wyjściowa powyżej 50 J, ale nie więcej niż 100 J na impuls i przeciętna moc wyjściowa powyżej 20 W; lubb. Energia wyjściowa powyżej 100 J na impuls;b. Następujące "lasery" z domieszką neodymu (z wyjątkiem szkła) z falą wyjściową o długości powyżej 1000 nm, ale nie dłuższą niż 1100 nm;Uwaga:"Lasery" z domieszką neodymową (inną niż szkło), o długościach fali wyjściowej nie większych niż 1000 nm lub powyżej 1100 nm, ujęto w pozycji 6A005.c.2.c.1. Wzbudzane impulsowo, z blokadą trybu działania, "lasery modulowane dobrocią" o "szerokości impulsu" poniżej 1 ns oraz mające jeden z poniższych parametrów:a."Moc szczytowa" powyżej 5 GW;b. Przeciętna moc wyjściowa powyżej 10 W; lubc. Energia impulsu powyżej 0,1 J;2. Wzbudzane impulsowo "lasery modulowane dobrocią" o "szerokości impulsu" równej albo większej niż 1 ns oraz mające jeden z poniższych parametrów:a. Sygnał wyjściowy w trybie pojedynczego przejścia poprzecznego mający:1."Moc szczytową" powyżej 100 MW;2. Przeciętną moc wyjściową powyżej 20 W; lub3. Energię impulsu powyżej 2 J; lubb. Sygnał wyjściowy w trybie wielokrotnego przejścia poprzecznego mający:1."Moc szczytową" powyżej 400 MW;2. Przeciętną moc wyjściową powyżej 2 kW; lub3. Energię impulsu powyżej 2 J;3. Wzbudzane impulsowo "lasery innego typu niż modulowane dobrocią", posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Wyjście w trybie pojedynczego przejścia poprzecznego oraz jeden z poniższych parametrów:1."Moc szczytową" powyżej 500 kW; lub2. Przeciętną moc wyjściową powyżej 150 W; lubb. Wyjście w trybie wielokrotnego przejścia poprzecznego oraz jeden z poniższych parametrów:1."Moc szczytową" powyżej 1 MW; lub2. Przeciętną moc wyjściową powyżej 2 kW;4."Lasery" o wzbudzeniu ciągłym posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:a. Wyjście w trybie pojedynczego przejścia poprzecznego oraz jeden z poniższych parametrów:1."Moc szczytową" powyżej 500 kW; lub2. Przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 150 W; lubb. Wyjście w trybie wielokrotnego przejścia poprzecznego oraz jeden z poniższych parametrów:1."Moc szczytową" powyżej 1 MW; lub2. Przeciętną lub ciągłą (CW) moc wyjściową powyżej 2 kW;c. Inne "lasery" nieprzestrajalne posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Długość fali wyjściowej poniżej 150 nm oraz jeden z poniższych parametrów:a. Energia wyjściowa powyżej 50 mJ na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 1 W; lubb. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;2. Długość fali wyjściowej 150 nm lub więcej, ale nie powyżej 800 nm oraz jeden z poniższych parametrów:a. Energia wyjściowa powyżej 1,5 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 30 W; lubb. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 30 W;3. Następujące lasery o długości fali wyjściowej powyżej 800 nm, ale nie powyżej 1400 nm:a."Lasery modulowane dobrocią" o następujących parametrach:1. Energia wyjściowa powyżej 0,5 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 50 W; lub2. Przeciętna moc wyjściowa powyżej:a. Dla "laserów" pracujących w trybie pojedynczym 10 W;b. Dla "laserów" pracujących w trybie wielokrotnym 30 W;b."Lasery niemodulowane dobrocią" o następujących parametrach:1. Energia wyjściowa powyżej 2 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 50 W; lub2. Przeciętna lub ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 50 W; lub4. Długość fali powyżej 1400 nm oraz jeden z poniższych parametrów:a. Energia wyjściowa powyżej 100 mJ na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 1 W; lubb. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;d."Lasery" barwnikowe i inne cieczowe, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Długość fali wyjściowej poniżej 150 nm oraz:a. Energia wyjściowa powyżej 50 mJ na impuls i "moc szczytowa impulsu" powyżej 1 W; lubb. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;2. Długość fali 150 nm lub więcej, ale nie powyżej 800 nm oraz jeden z poniższych parametrów:a. Energia wyjściowa powyżej 1,5 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 20 W;b. Przeciętna lub ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 20 W; lubc. Impulsowy pojedynczy oscylator podłużny o przeciętnej mocy wyjściowej powyżej 1 W i częstotliwości powtarzania impulsów 1 kHz, w przypadku gdy "szerokość impulsu" wynosi poniżej 100 ns;3. Długość fali powyżej 800 nm, ale nie więcej niż 1400 nm oraz jeden z poniższych parametrów:a. Energia wyjściowa powyżej 0,5 J na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 10 W; lubb. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 10 W; lub4. Długość fali powyżej 1400 nm oraz jeden z poniższych parametrów:a. Energia wyjściowa powyżej 100 mJ na impuls i "moc szczytowa" impulsu powyżej 1 W; lubb. Przeciętna albo ciągła (CW) moc wyjściowa powyżej 1 W;e. Następujące elementy:1. Zwierciadła 'chłodzone czynnie' albo za pomocą termicznej chłodnicy rurkowej;Uwaga techniczna:'Chłodzenie czynne' jest techniką chłodzenia elementów optycznych za pomocą cieczy przepływającej pomiędzy powierzchnią optyczną a dodatkową (zazwyczaj znajdującą się w odległości poniżej 1 mm od powierzchni optycznej), wskutek czego następuje odprowadzenie ciepła z powierzchni optycznej.2. Zwierciadła optyczne albo przepuszczalne lub częściowo przepuszczalne elementy optyczne lub elektrooptyczne specjalnie przeznaczone do "laserów" objętych kontrolą;f. Następujące urządzenia optyczne:NB.: Odnośnie elementów optycznych z dzieloną aperturą, zdolnych do pracy w "laserach super wysokiej mocy", sprawdź także Wykaz Uzbrojenia.1. Dynamiczne urządzenia pomiarowe do czoła fali (faza) umożliwiające mapowanie co najmniej 50 położeń na czole wiązki falowej charakteryzujące się następującymi parametrami:a. Szybkość analizy obrazów równa lub wyższa niż 100 Hz oraz dyskryminacja fazy na co najmniej 5 % długości fali wiązki; lubb. Szybkość analizy obrazów równa lub wyższa niż 1000 Hz i dyskryminacja fazy na co najmniej 20 % długości fali wiązki;2."Laserowe" urządzenia diagnostyczne umożliwiające pomiar błędów sterowania położeniem kątowym "systemów laserowych bardzo wysokiej mocy" (SHPL) z dokładnością równą lub lepszą niż 10 μrad (mikroradianów);3. Urządzenia optyczne, zespoły lub elementy specjalnie przeznaczone do systemów "SHPL" w formie zespołów fazowanych w celu sterowania wiązkami koherentnymi z dokładnością Lambda/10 dla określonej długości fali, lub 0,1 mikrometra, w zależności od tego, która z tych wielkości jest mniejsza;4. Teleskopy projekcyjne specjalnie przeznaczone do systemów SHPL.6A006Następujące "magnetometry", "mierniki gradientu magnetycznego", "mierniki gradientu magnetycznego własnego", podwodne czujniki pola elektrycznego i systemy kompensacji oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy:Uwaga: Pozycja 6A006 nie obejmuje kontrolą instrumentów specjalnie przeznaczonych do pomiarów biomagnetycznych do celów zastosowań w rybołówstwie lub diagnostyce medycznej.a. Następujące "magnetometry" i podukłady:1. W których zastosowano "technologie" materiałów "nadprzewodzących" (SQUID) i posiadające następujące cechy:a. Systemy SQUID przeznaczone do działania nieruchomego bez specjalnie przeznaczonych podukładów do zmniejszenia hałasu w ruchu i charakteryzujące się "poziomem szumów" mniejszym (czułością lepszą) niż 50fT (rms)/ square root Hz przy częstotliwości 1 Hz; lubb. Systemy SQUID posiadające magnetometr ruchu ruchu i charakteryzujące się "poziomem szumów" mniejszym (czułością lepszą) niż 20 pT(rms) na pierwiastek kwadratowy Hz przy częstotliwości 1 Hz i specjalnie zaprojektowane do zmniejszenia szumu w ruchu;2. W których zastosowano technologię pompowania optycznego, precesji jądrowej (proton/Overhauser) charakteryzujące się "poziomem szumów" (czułością) mniejszą (lepszą) niż 20 pT(rms) na pierwiastek kwadratowy Hz;3. W których zastosowano technologię bramkowania strumienia charakteryzujące się "poziomem szumów" (czułością) mniejszą (lepszą) niż 10 pT (średnia wartość kwadratowa) na pierwiastek kwadratowy z Hz;4."Magnetometry" z cewką indukcyjną, charakteryzujące się "poziomem szumów" mniejszym (czułością lepszą) niż jeden z poniższych:a. 0,05 nT rms/square root Hz [(średnia wartość kwadratowa) na pierwiastek kwadratowy z Hz] w zakresie częstotliwości poniżej 1 Hz;b. 1 × 10-3 nT rms/square root Hz [(średnia wartość kwadratowa) na pierwiastek kwadratowy z Hz] w zakresie częstotliwości 1 Hz lub powyżej, ale nieprzekraczających 10 Hz; lubc. 1 × 10-4 nT rms/square root Hz w zakresie częstotliwości powyżej 10 Hz;5."Magnetometry" światłowodowe charakteryzujące się "poziomem szumów" (czułością) poniżej (lepszą niż) 1 nT [(średnia wartość kwadratowa) na pierwiastek kwadratowy z Hz];b. Podwodne czujniki pola elektrycznego o "poziomie szumów" (czułości) niższym (lepszym) niż 8 nanowoltów na metr na pierwiastek kwadratowy z Hz mierzonym dla częstotliwości 1 Hz.c. Następujące "mierniki gradientu magnetycznego":1."Mierniki gradientu magnetycznego", w których zastosowano pewną liczbę "magnetometrów" objętych kontrolą według pozycji 6A006.a;2. Światłowodowe "mierniki gradientu magnetycznego własnego" charakteryzujące się "poziomem szumów" gradientu pola magnetycznego (czułością) niższym (lepszą) niż 0,3 nT/m rms/square root Hz [(średnia wartość kwadratowa) na pierwiastek kwadratowy z Hz];3."Mierniki gradientu magnetycznego własnego", w których zastosowano inną "technologię" niż światłowodowa, charakteryzujące się "poziomem szumów" gradientu pola magnetycznego (czułością) niższym (lepszą) niż 0,015 nT/m rms/square root Hz;d. Systemy kompensacji do czujników magnetycznych lub podwodnych czujników pola elektrycznego o parametrach odpowiadających lub przewyższających parametry kontrolne dotyczące pozycji 6A006.a, 6A006.b lub 6A006.c.6A007Następujące grawimetry i mierniki gradientu pola grawitacyjnego:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A107.a. Grawimetry zaprojektowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do pomiarów naziemnych o dokładności statycznej poniżej (lepszej niż) 10 μgal;Uwaga: Pozycja 6A007.a. nie obejmuje kontrolą grawimetrów do pomiarów naziemnych z elementem kwarcowym (Wordena).b. Grawimetry do stosowania na ruchomych platformach charakteryzujące się wszystkimi z poniższych parametrów:1. Dokładność statyczna poniżej (lepsza niż) 0,7 mgal; oraz2. Dokładność eksploatacyjna (robocza) poniżej (lepsza niż) 0,7 mgal przy czasie do ustalenia warunków rejestracji poniżej 2 minut bez względu na sposób kompensacji oddziaływań ubocznych i wpływu ruchu;c. Mierniki gradientu pola grawitacyjnego.6A008Systemy, urządzenia i zespoły radarowe o jednej z wymienionych poniżej cech charakterystycznych oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A108.Uwaga: Pozycja 6A008 nie obejmuje kontrolą następujących obiektów:a.Pomocniczych radarów kontroli rejonu (SSR);b.Radarów samochodowych ostrzegających przed zderzeniami;c.Wyświetlaczy i monitorów stosowanych w kontroli ruchu powietrznego mających nie więcej niż 12 rozróżnialnych elementów na mm.d.Radarów meteorologicznych (do kontroli pogody).a. Działające w zakresie częstotliwości od 40 GHz do 230 GHz i charakteryzujące się przeciętną mocą wyjściową powyżej 100 mW;b. Umożliwiające przestrajanie pasma częstotliwości w zakresie powyżej ± 6,25 % od 'środkowej częstotliwości roboczej';Uwaga techniczna:'Środkowa częstotliwość robocza' równa się połowie sumy najwyższej i najniższej nominalnej częstotliwości roboczej.c. Zdolne do równoczesnego działania na dwóch lub więcej częstotliwościach nośnych;d. Zdolne do działania w trybie z syntezą apertury (SAR), z odwróconą syntezą apertury (ISAR) albo jako radiolokatory pokładowe obserwacji bocznej (SLAR);e. Zaopatrzone w "sterowany elektronicznie fazowany układ antenowy";f. Zdolne do określania wysokości niepowiązanych ze sobą celów;Uwaga: Pozycja 6A008.f nie obejmuje kontrolą urządzeń radiolokacyjnych dokładnej kontroli podejścia do lądowania (PAR) odpowiadających standardom ICAO;g. Przeznaczone specjalnie dla lotnictwa (zainstalowane na balonach lub samolotach) i mające możliwość "przetwarzania sygnałów" dopplerowskich w celu wykrywania obiektów ruchomych;h. Zdolne do przetwarzania sygnałów radiolokacyjnych następującymi technikami:1."Rozproszonego widma radiolokacyjnego"; lub2."Regulacji częstotliwości sygnałów radiolokacyjnych";i. Zapewniające działania naziemne o maksymalnym "zasięgu roboczym "powyżej 185 km;Uwaga: Pozycja 6A008.i. nie obejmuje kontrolą:a.radarów kontroli łowisk rybackich;b.radarowych instalacji naziemnych specjalnie przeznaczonych do kierowania ruchem lotniczym, specjalnie opracowanych, aby spełniały wszystkie poniższe warunki:1.ich maksymalny "zasięg roboczy" wynosi co najwyżej 500 km;2.skonfigurowano je w taki sposób, że umożliwiają transmisję danych o celach radarowych tylko w jedną stronę, od miejsca zainstalowania radaru do jednego lub więcej cywilnych ośrodków ATC (kierowania ruchem lotniczym).3.nie zawierają żadnych elementów umożliwiających zdalne sterowanie szybkością przeszukiwania radaru z ośrodka ATC; oraz4.mają być zainstalowane na stałe.c.meteorologicznych, balonowych radiolokatorów śledzących.j. Radary "laserowe" lub optyczne (LIDAR'y), mające jedną z poniższych cech charakterystycznych:1. Parametry "klasy kosmicznej"; lub2. Zastosowanie koherentnych heterodynowych lub homodynowych technik wykrywania obiektów oraz posiadanie rozdzielczości kątowej poniżej (lepszej niż) 20 μrad (mikroradianów);Uwaga: Pozycja 6A008.j. nie obejmuje kontrolą urządzeń LIDAR'owych specjalnie przeznaczonych do badań lub do obserwacji meteorologicznych.k. Wyposażone w podukłady do "przetwarzania sygnałów" techniką "kompresji impulsów" posiadające jedną z poniższych cech charakterystycznych:1. Wskaźnik "kompresji impulsów" powyżej 150; lub2. Szerokość impulsu poniżej 200 ns; lubl. Wyposażone w podukłady do przetwarzania danych umożliwiające realizację jednej z poniższych funkcji:1."Automatyczne śledzenie celu" zapewniające, przy dowolnym położeniu kątowym anteny, przewidzenie położenia celu w okresie pomiędzy kolejnymi przejściami wiązki radiolokacyjnej;Uwaga: Pozycja 6A008.l.1 nie obejmuje kontrolą układów ostrzegających przed możliwością zderzenia, wchodzących w skład systemów kontroli ruchu powietrznego albo morskiego lub portowego.2. Obliczanie prędkości celu za pomocą radaru głównego, o nieperiodycznych (zmiennych) częstotliwościach przeszukiwania;3. Przetwarzanie danych do automatycznego rozpoznawania typu (wychwytywanie cech charakterystycznych) i porównywania z charakterystycznymi parametrami znajdującymi się w bazie danych (w postaci kształtu fal albo obrazów) w celu identyfikacji lub klasyfikacji obiektu; lub4. Superpozycję (nakładanie) i korelację lub scalanie danych o celu z dwóch lub więcej "współpracujących czujników radarowych""rozrzuconych geograficznie" w celu wzmocnienia i wyodrębnienia celów.Uwaga: Pozycja 6A008.l.4 nie obejmuje kontrolą systemów, urządzeń lub zespołów używanych do kontroli ruchu na morzu.6A102'Detektory' zabezpieczone przed promieniowaniem, różne od wymienionych w pozycji 6A002, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do ochrony przed skutkami wybuchów jądrowych (np. impulsów elektromagnetycznych (EMP), promieniowania rentgenowskiego, kombinowanych efektów podmuchu i udaru termicznego) i znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych", skonstruowane lub przystosowane w taki sposób, że są w stanie wytrzymać łączną dawkę promieniowania o wartości 5 × 105 radów (Si).Uwaga techniczna:W pozycji 6A102 przez pojęcie detektora należy rozumieć urządzenie mechaniczne, elektryczne, optyczne lub chemiczne, do automatycznej identyfikacji i rejestracji takich bodźców, jak zmiany warunków otoczenia, np. ciśnienie lub temperatura, sygnał elektryczny lub elektromagnetyczny albo promieniowanie materiału radioaktywnego. Obejmuje to urządzenia, które wykrywają bodziec poprzez jednorazowe zadziałanie albo uszkodzenie się.6A107Następujące grawimetry i podzespoły do mierników grawitacji i mierników gradientu pola grawitacyjnego:a. Grawimetry różne od wymienionych w pozycji 6A007.b, zaprojektowane lub zmodyfikowane do stosowania w lotnictwie lub w warunkach morskich, posiadające dokładność statyczną lub eksploatacyjną (roboczą) równą lub niższą (lepszą) niż 7 × 10-6 m/s2 (0,7 miligala) przy czasie do ustalenia warunków rejestracji równym lub krótszym od 2 minut;b. Specjalnie zaprojektowane podzespoły do grawimetrów wymienionych w pozycjach 6A007.b lub 6A107.a oraz do mierników gradientu pola grawitacyjnego wymienionych w pozycji 6A007.c.6A108Następujące instalacje radarowe i śledzące, różne od wymienionych w pozycji 6A008:a. Instalacje radarowe lub laserowe przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.Uwaga: Pozycja 6A108.a obejmuje następujące obiekty:a.Urządzenia do wykonywania map konturowych terenu;b.Urządzenia czujnikowe obrazów;c.Urządzenia do wykonywania i korelacji obrazów terenu (analogowe i cyfrowe);d.Urządzenia do radarowej nawigacji doplerowskiej;b. Następujące precyzyjne instalacje do śledzenia torów obiektów, znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych":1. Instalacje do śledzenia torów, wyposażone w translatory kodów współpracujące z instalacjami naziemnymi lub nadziemnymi albo satelitarnymi instalacjami nawigacyjnymi w celu pomiaru w czasie rzeczywistym położeń i prędkości obiektów w locie;2. Radary kontroli obszaru powietrznego współpracujące z instalacjami śledzenia obiektów w zakresie optycznym i podczerwonym, posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:a. Rozdzielczość kątową lepszą niż 3 miliradiany (0,5 mils);b. Zasięg 30 km lub większy z rozdzielczością odległości lepszą niż 10 m (średnia kwadratowa);c. Dokładność ustalania prędkości lepszą od 3 m/s.Uwaga techniczna:Termin "pocisk rakietowy" w pozycji 6A108b oznacza kompletną instalację rakietową i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km.6A202Lampy fotopowielaczowe mające wszystkie następujące cechy:a. powierzchnię fotokatody powyżej 20 cm2; orazb. czas narastania impulsu katody poniżej 1 ns.6A203Następujące kamery filmowe i ich podzespoły, różne od wymienionych w pozycji 6A003:a. Następujące kamery z wirującym zwierciadłem napędzanym mechanicznie oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:1. Kamery filmowe z kadrowaniem z szybkością powyżej 225000 klatek zdjęciowych na sekundę;2. Kamery smugowe z prędkościami zapisu powyżej 0,5 mm na mikrosekundę;Uwaga: W pozycji 6A203.a do podzespołów kamer tego typu zalicza się specjalnie skonstruowane elektroniczne elementy synchronizujące oraz specjalne zespoły wirników składające się z turbinek, zwierciadeł i łożysk.b. Następujące elektroniczne kamery i lampy smugowe i obrazowe:1. Elektroniczne kamery smugowe o rozdzielczości czasowej 50 ns lub mniejszej;2. Lampy smugowe do kamer wymienionych w poz. 6A203.b.1;3. Kamery elektroniczne (albo z elektroniczną migawką) o czasie naświetlania 50 ns lub krótszym.4. Następujące lampy obrazowe i półprzewodnikowe urządzenia obrazowe do kamer filmowych wymienionych w pozycji 6A203.b.3:a. Lampy wzmacniające ogniskowanie obrazów zbliżeniowych, posiadające fotokatodę w postaci warstwy osadzonej na przezroczystej powłoce przewodzącej w celu zmniejszenia jej oporności;b. Lampy wzmacniające na bramkach wykonanych w technologii SIT (silicon intensifier target), w których szybki układ umożliwia bramkowanie fotoelektronów z fotokatody przed ich uderzeniem w płytkę SIT;c. Migawki elektrooptyczne z fotokomórkami działającymi na zasadzie efektu Kerra lub Pockela; lubd. Inne lampy obrazowe oraz półprzewodnikowe urządzenia obrazowe o czasie bramkowania szybkich obrazów poniżej 50 ns, specjalnie przeznaczone do kamer filmowych wymienionych w pozycji 6A203.b.3.c. Kamery telewizyjne zabezpieczone przed promieniowaniem oraz soczewki do nich, skonstruowane lub przystosowane w taki sposób, że są w stanie wytrzymać promieniowanie o natężeniu powyżej 50 × 103 Gy (Si) [5 × 106 rad (Si)] bez pogorszenia własności eksploatacyjnych, oraz specjalnie do nich przeznaczone soczewki.Uwaga techniczna:Termin Gy(silikon) odnosi się do energii w Jooulach na kilogram wchłoniętej przez nieosłoniętą próbkę krzemową po wystawieniu na działanie promieniowania jonizującego.6A205Następujące "lasery", wzmacniacze "laserowe" i oscylatory, różne od wymienionych w pozycjach 0B001.g.5, 0B001.h.6 i 6A005:a. Lasery na jonach argonu mające obydwie wymienione cechy:1. pracujące w zakresie fal o długościach pomiędzy 400 nm a 515 nm; i2. przeciętną moc wyjściową powyżej 40 W;b. Przestrajalne, impulsowe oscylatory na laserach barwnikowych pracujące w trybie pojedynczym, mające wszystkie następujące cechy:1. pracujące w przedziale długości fal od 300 nm do 800 nm;2. przeciętną moc wyjściową powyżej 1 W;3. częstotliwości powtarzania powyżej 1 kHz; i4. impuls o długości poniżej 100 ns;c. Przestrajalne, impulsowe wzmacniacze i oscylatory na laserach barwnikowych, mające wszystkie następujące cechy:1. pracujące w przedziale długości fal od 300 nm do 800 nm;2. przeciętną moc wyjściową powyżej 30 W;3. częstotliwości powtarzania powyżej 1 kHz; i4. impuls o długości poniżej 100 ns;Uwaga: Pozycja 6A205.c. nie obejmuje oscylatorów pracujących w trybie pojedynczym;d. Impulsowe "lasery" na dwutlenku węgla, mające wszystkie następujące cechy:1. pracujące w przedziale długości fal od 9000 nm do 11000 nm;2. częstotliwości powtarzania powyżej 250 Hz;3. przeciętnej mocy wyjściowej powyżej 500 W; oraz4. szerokości impulsu poniżej 200 ns;e. Przekształtniki na parawodorze działające w paśmie Ramana, przeznaczone do pracy na fali 16-mikrometrowej z częstotliwością powtarzania powyżej 250 Hz.f. Wzbudzane impulsowo "lasery modulowane dobrocią", domieszkowane neodymem (z wyjątkiem szkła), posiadające wszystkie poniższe parametry:1. wyjściową długość fali powyżej 1000 nm, ale nieprzekraczającą 1100 nm;2. czas trwania impulsu równy lub większy niż 1 ns; oraz3. wyjście w trybie wielokrotnego przejścia poprzecznego ze średnią mocą wyjściową ponad 50 W.6A225Interferometry do pomiaru prędkości w zakresie powyżej 1 km/s w odstępach czasowych poniżej 10 mikrosekund.Uwaga: Pozycja 6A225 obejmuje doplerowskie interferometry laserowe, jak VISAR'y, DLI itp.6A226Następujące czujniki ciśnienia:a. Czujniki wykonane z manganinu z przeznaczeniem do pomiaru ciśnień powyżej 10 GPa; lubb. Kwarcowe przetworniki ciśnień do pomiarów ciśnień powyżej 10 GPa.6BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne6B004Następujące urządzenia optyczne:a. Urządzenia do pomiaru absolutnego współczynnika odbicia z dokładnością ± 0,1 % wartości odbicia;b. Urządzenia różne od optycznych urządzeń do pomiaru rozpraszania powierzchni, posiadające nieprzysłoniętą aperturę o wielkości powyżej 10 cm, specjalnie przeznaczone do bezstykowych pomiarów optycznych figur o przestrzennych (nieplanarnych) powierzchniach optycznych (profili) z "dokładnością" 2 nm lub większą (lepszą) na danym profilu.Uwaga: Pozycja 6B004 nie obejmuje kontrolą mikroskopów.6B007Urządzenia do produkcji, strojenia i wzorcowania grawimetrów lądowych o dokładności statycznej lepszej niż 0,1 miligal;6B008Systemy do impulsowych pomiarów radarowego przekroju czynnego o szerokościach impulsu przesyłowego 100 ns lub mniejszych oraz specjalnie dla nich przeznaczone elementy.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6B108.6B108Systemy specjalnie przeznaczone do pomiarów radarowego przekroju czynnego znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych" i ich podzespołach, różne od wymienionych w pozycji 6B008.6CMateriały6C002Następujące materiały do czujników optycznych:a. Tellur pierwiastkowy (Te) o poziomie czystości równym lub wyższym niż 99,9995 %;b. Pojedyncze kryształy następujących substancji (włącznie z epitaksjalnymi płytkami);1. Tellurku kadmu i cynku (kadmowo-cynkowego) (CdZnTe), o zawartości cynku mniej niż 6 % w 'ułamku molowym';2. Tellurku kadmu (CdTe) o dowolnym poziomie czystości; lub3. Tellurku kadmu i rtęci (kadmowo-rtęciowego) (HgCdTe) o dowolnym poziomie czystości.Uwaga techniczna:'Ułamek molowy' definiowany jest jako stosunek moli ZnTe do sumy moli CdTe i ZnTe znajdujących się w krysztale.6C004Następujące materiały optyczne:a."Półprodukty podłoży" z selenku cynku (ZnSe) i siarczku cynku (ZnS) wytwarzane techniką osadzania z par lotnych, mające jedną z następujących właściwości:1. O objętości powyżej 100 cm3; lub2. O średnicy większej niż 80 mm i grubości równej lub większej niż 20 mm;b. Kęsy następujących materiałów elektrooptycznych:1. Arsenianu potasu i tytanylu (potasowo-tytanylowy) (KTA);2. Selenku srebra i galu (srebrowo-galowy) (AgGaSe2);3. Selenku talu i arsenu (talowo-arsenowego) (Tl3AsSe3, znanego również pod nazwą TAS);c. Nieliniowe materiały optyczne o następujących parametrach:1. Wrażliwość trzeciego rzędu (chi 3) równa 10-6m2/V2 lub lepsza; oraz2. Czas reakcji poniżej 1 ms;d."Półprodukty podłoży" z osadzonym węglikiem krzemu lub beryl-beryl (Be/Be) o średnicy lub długości osi głównej powyżej 300 mm;e. Szkło, włącznie ze stopioną krzemionką, szkło fosforanowe, fluorofosforanowe, z fluorku cyrkonu (ZrF4) i fluorku hafnu (HfF4) mające wszystkie z następujących właściwości:1. Stężenie jonów hydroksylowych (OH-) poniżej 5 ppm (części na milion);2. Zawartość wtrąceń metalicznych poniżej 1 ppm; oraz3. Wysoka jednorodność (wahania współczynnika załamania światła) poniżej 5 × 10–6;f. Wytwarzany syntetycznie materiał diamentowy o współczynniku pochłaniania poniżej 10-5 cm–1 dla fal o długościach powyżej 200 nm, ale nie dłuższych niż 14000 nm;6C005Następujące półprodukty do "laserów" na kryształach syntetycznych:a. Szafir domieszkowany tytanem;b. Aleksandryt.6DOprogramowanie6D001"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń objętych kontrolą według pozycji 6A004, 6A005, 6A008 lub 6B008.6D002"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "użytkowania" urządzeń objętych kontrolą według pozycji 6A002.b, lub 6A008 lub 6B008.6D003Następujące inne oprogramowanie:a.1."Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do kształtowania wiązek akustycznych do "przetwarzania w czasie rzeczywistym" danych akustycznych pochodzących z pasywnego odbioru za pomocą holowanego zespołu hydrofonów;2."Kod źródłowy" do "przetwarzania w czasie rzeczywistym" danych akustycznych pochodzących z pasywnego odbioru za pomocą holowanego zespołu hydrofonów;3."Oprogramowanie" specjalnie opracowane do formowania wiązek akustycznych do "przetwarzania w czasie rzeczywistym" danych akustycznych w celu biernej detekcji za pomocą dennych lub przybrzeżnych układów kablowych;4."Kod źródłowy" do "przetwarzania w czasie rzeczywistym" danych akustycznych dla biernej detekcji dla dennych lub przybrzeżnych układów kablowych;b.1."Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do systemów kompensacji pola magnetycznego i elektrycznego do czujników magnetycznych przeznaczonych do pracy na ruchomych platformach;2."Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do wykrywania anomalii pola magnetycznego i elektrycznego na ruchomych platformach;c."Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do korygowania wpływu oddziaływań związanych z ruchem na grawimetry i mierniki gradientu pola grawitacyjnego;d.1."Programy" aplikacyjne "oprogramowania" do Kontroli Ruchu Powietrznego zainstalowane na komputerach ogólnego przeznaczenia w centrach Kontroli Ruchu Powietrznego, umożliwiające realizację jednej z wymienionych poniżej funkcji:a. Przetwarzanie i wyświetlanie równocześnie ponad 150 "ścieżek systemowych"; lubb. Przyjmowanie danych radiolokacyjnych o obiektach z więcej niż czterech radarów pierwotnych;2."Oprogramowanie" do projektowania lub "produkcji" kopuł anten radiolokatorów, które:a. Są specjalnie przeznaczone do ochrony "sterowanych elektronicznie fazowanych układów antenowych" objętych kontrolą według pozycji 6A008.e.; orazb. Wpływają na charakterystykę promieniowania anteny, mając 'przeciętny poziom listków bocznych' większy niż 40 dB poniżej wartości szczytowych wiązki głównej.Uwaga techniczna:'Przeciętny poziom listków bocznych' w pozycji 6D003.d.2.b mierzony jest dla całego układu, pomijając rozpiętość kątową wiązki głównej i pierwsze dwa listki boczne z każdej strony.6D102"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane do "użytkowania""wyrobów" wymienionych w pozycji 6A108.6D103"Oprogramowanie" do obróbki (po zakończeniu lotu) danych zebranych podczas lotu, umożliwiające określenie położenia pojazdu w każdym punkcie toru jego lotu, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla "pocisków rakietowych".Uwaga techniczna:"Pocisk rakietowy" w pozycji 6D103 odnosi się do kompletnych systemów rakietowych i bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km.6ETechnologia6E001"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" urządzeń, materiałów lub "oprogramowania" objętych kontrolą według pozycji 6A, 6B, 6C lub 6D.6E002"Technologie" według uwagi ogólnej do technologii do "produkcji" urządzeń lub materiałów objętych kontrolą według pozycji 6A, 6B lub 6C.6E003Następujące inne technologie:a.1."Technologie" wytwarzania i obróbki powłok na powierzchniach optycznych "niezbędne" do osiągnięcia jednorodności 99,5 % lub lepszej na powłokach optycznych o średnicy lub długości osi głównej wynoszącej 500 mm lub więcej i całkowitego współczynnika strat (pochłanianie i rozpraszanie) poniżej 5 × 10–3;NB.: Sprawdź także pozycję 2E003.f.2."Technologie" wytwarzania elementów optycznych wykorzystujące jednoostrzowe techniki diamentowania, umożliwiające wygładzanie powierzchni z dokładnością lepszą niż 10 nm (wartość średnia kwadratowa) na powierzchniach niepłaskich o polu powyżej 0,5 m2;b."Technologie""niezbędne" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" specjalnie zaprojektowanych instrumentów diagnostycznych lub obiektów w urządzeniach testujących specjalnie przeznaczonych do testowania instalacji "urządzeń laserowych bardzo wysokiej mocy" (SHPL) albo testowania lub oceny materiałów napromienionych wiązką z tych systemów;6E101"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" urządzeń lub "oprogramowania" objętych kontrolą według pozycji 6A002, 6A007.b i c., 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 lub 6D103.Uwaga: Pozycja 6E101 obejmuje wyłącznie "technologie" do urządzeń wymienionych w pozycji 6A008 w razie jej przeznaczenia do stosowania w lotnictwie i możliwości zastosowania w "pociskach rakietowych".6E201"Technologie" według uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" urządzeń wymienionych w pozycjach 6A003, 6A005.a.1.c, 6A005.a.2.a, 6A005.c.1.b, 6A005.c.2.c.2, 6A005.c.2.d.2.b, 6A202, 6A203, 6A205, 6A225 lub 6A226.KATEGORIA 7NAWIGACJA I AWIONIKA7ASystemy, urządzenia i części:NB.: W przypadku automatycznych pilotów do pływających jednostek podwodnych sprawdź także Kategorię 8.W przypadku radarów sprawdź także Kategorię 6.7A001Przyspieszeniomierze liniowe przeznaczone do inercyjnych systemów nawigacji lub naprowadzania i posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A101. W PRZYPADKU PRZYSPIESZENIOMIERZY KĄTOWYCH LUB OBROTOWYCH SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A002.a."Stabilność""wychylenia wstępnego" poniżej (lepszą niż) 130 g względem ustalonej wartości wzorcowej w okresie jednego roku;b."Stabilność""współczynnika skalowania" poniżej (lepszą niż) 130 ppm względem ustalonej wartości wzorcowej w okresie jednego roku; lubc. Przeznaczone do pracy przy przyspieszeniach na poziomie powyżej 100 g;7A002Żyroskopy i przyspieszeniomierze kątowe lub obrotowe, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych, oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A102.a."Stabilność""pełzania zera", mierzona w warunkach przyspieszenia równego 1 g w okresie jednego miesiąca i w odniesieniu do ustalonej wartości wzorcowej, wynosząca:1. Poniżej (lepsza niż) 0,1° na godzinę w przypadku przeznaczenia do ciągłego działania w warunkach przyspieszenia liniowego poniżej 12 g; lub2. Poniżej (lepsza niż) 0,5° na godzinę w przypadku przeznaczenia do ciągłego działania w warunkach przyspieszenia liniowego od 12 g do 100 g włącznie; lubb.'Kąt błądzenia losowego' mniejszy (lepszy) lub równy 0,0035° na pierwiastek kwadratowy godziny; lubUwaga: 7A002.b nie kontroluje żyroskopów wirujących (są to żyroskopy wykorzystujące stale obracającą się masę do wykrywania ruchu obrotowego).Uwaga techniczna:Dla celów 7A02.b 'kąt błądzenia losowego' oznacza narastanie błędu kątowego w czasie, spowodowane białym szumem w ruchu obrotowym. (IEEE STD 528-2001).c. Przeznaczenie do działania w warunkach przyspieszeń liniowych o wartościach na poziomie powyżej 100 g.7A003Inercyjne systemy nawigacji i specjalnie zaprojektowane do nich podzespoły:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A103.a. Inercyjne systemy nawigacyjnie (INS) (z zawieszeniem kardanowym lub innym) i urządzenia bezwładnościowe, przeznaczone dla "statków powietrznych", pojazdów lądowych lub "statków kosmicznych" do pomiarów wysokości, naprowadzania lub sterowania oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Błąd nawigacji (czysto inercyjny) po prawidłowej regulacji, wynoszący 0,8 (lub mniej) mili morskiej na godzinę (nm/hr) 'Koło Równego Prawdopodobieństwa' (CEP) lub mniej (lepiej); lub2. Przeznaczonie do określonych zadań na poziomach przyspieszeń liniowych powyżej 10 g;b. Hybrydowe systemy nawigacyjnie wbudowane w Globalne Satelitarne Systemy Nawigacyjne (GNSS) lub współpracujące z systemami "Nawigacji opartej na danych z bazy danych" ("DBRN") do pomiarów wysokości, naprowadzania lub sterowania, po normalnym zestrojeniu, cechujące się dokładnością pozycyjną nawiganci INS, po utracie kontaktu z GNSS lub "DBRN" przez okres do czterech minut, mniejszy (lepszy) niż 10 metrów" Koło Równego Prawdopodobieństwa" (CEP).c. Inercyjne urządzenia do wyznaczania azymutu, naprowadzania lub wskazywania północy, mające jedną z poniższych właściwości, oraz specjalnie do nich zaprojektowane zespoły:1. zaprojektowane tak, żeby dokładność wyznaczania azymutu, naprowadzania lub północy była równa lub mniejsza (lepsza) niż 6 minut łuku (wartość średnia kwadratowa) na szerokości 45 stopni; lub2. zaprojektowane tak, żeby miały nieroboczy poziom wstrząsów 900 g lub większy przez okres 1 milisekundy, albo większy.Uwaga 1: Parametry pozycji 7A003.a mają zastosowanie wraz z jednym z poniższych warunków środowiskowych:1.Wejściowe drgania przypadkowe o całkowitej wielkości średniej kwadratowej 7,7 g przez pierwsze pół godziny oraz ogólny czas trwania testu 1,5 godziny na każdą z trzech prostopadłych osi, gdy drgania przypadkowe spełniają następujące warunki:a.Stała gęstość widmowa mocy o wartości 0,04 g 2 /Hz w przedziale częstotliwości od 15 do 1000 Hz; orazb.Gęstość widmowa mocy malejąca od 0,04 g 2 /Hz do 0,01 g 2 /Hz w przedziale częstotliwości od 1000 do 2000 Hz; lub2.Przechylenie i odchylenie równe lub większe niż + 2,62 radian/s (150 deg/s); lub3.Zgodnie z normami krajowymi równoważnych dla 1 lub 2 powyżej.Uwaga 2: Pozycja 7A003 nie obejmuje kontrolą inercyjnych systemów nawigacyjnych certyfikowanych do stosowania w "cywilnych statkach powietrznych" przez władze cywilne "państwa uczestniczącego".Uwaga 3: Pozycja 7A003.c.1 nie obejmuje kontrolą systemów teodolitowych zawierających urządzenia inercyjne specjalnie przeznaczone do cywilnych zastosowań badawczych.Uwagi techniczne:1.Pozycja 7A003.b odnosi się do systemów, w których INS lub inne niezależne pomoce nawigacyjne są wbudowane w jeden zespół w celu uzyskania poprawy parametrów.2.'Krąg równego prawdopodobieństwa' (CEP) (7) – W kołowym rozkładzie normalnym, promień okręgu zawierającego 50-procent poszczególnych wyników pomiarów albo promień okręgu, w którym występuje 50-procentowe prawdopodobieństwo.7A004Żyro-astrokompasy i inne urządzenia umożliwiające określanie położenia lub orientację przestrzenną za pomocą automatycznego śledzenia ciał niebieskich lub satelitów, o dokładności azymutowej równej 5 sekund kątowych lub mniej (lepszej niż).NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A104.7A005Urządzenia odbiorcze globalnych satelitarnych systemów nawigacji (np. GPS lub GLONASS) posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A105.a. wyposażenie w systemy dekodujące; lubb. wyposażenie w samoczynnie nastawne anteny.7A006Wysokościomierze lotnicze działające poza pasmem częstotliwości od 4,2 do 4,4 GHz włącznie, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A106.a."Sterowanie mocą"; lubb. Wyposażenie w zespoły do modulacji z przesunięciem fazy.7A101Przyspieszeniomierze, różne od wymienionych w pozycji 7A001, oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:a. Przyspieszeniomierze liniowe przeznaczone do stosowania w inercyjnych systemach nawigacyjnych lub w dowolnego typu systemach naprowadzania nadających się do zastosowania w 'pociskach rakietowych', mające wszystkie z poniższych cech, oraz specjalnie do nich zaprojektowane zespoły:1.'Powtarzalność'"wychylenia wstępnego" mniejsza (lepsza) niż 1250 μg; oraz2.'Powtarzalność'"współczynnika skalowania" mniejsza (lepsza) niż 1250 ppm;Uwaga: Pozycja 7A101.a nie dotyczy przyspieszeniomierzy specjalnie przeznaczonych i opracowanych jako czujniki MWD (Measurement While Drilling – pomiar podczas wiercenia) stosowanych podczas prac wiertniczych.Uwagi techniczne:1.W pozycji 7A101.a 'pocisk rakietowy' oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km;2.W pozycji 7A101.a pomiar "wychylenia wstępnego" i "współczynnika skalowania" odnosi się do odchylenia standardowego wielkości 1 sigma w odniesieniu do ustalonej wartości wzorcowej w okresie jednego roku;3.W pozycji 7A101.a pojęcie 'powtarzalności' definiuje się zgodnie z normą IEEE 528-2001 jako stopień zgodności powtarzalnych pomiarów tej samej zmiennej w tych samych warunkach operacyjnych w sytuacji, gdy pomiędzy pomiarami występują zmiany warunków lub przerwy w działaniu.b. Przyspieszeniomierze z wyjściem ciągłym przeznaczone do pracy przy poziomach przyspieszenia przekraczających 100 g.7A102Wszystkie typy żyroskopów, różne od wymienionych w pozycji 7A002, nadające się do stosowania w "pociskach rakietowych", o "stabilności""pełzania zera" poniżej 0,5° (1 sigma lub średnia kwadratowa) na godzinę w warunkach przyspieszenia 1 g oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.Uwaga techniczna:W pozycji 7A102 'pocisk rakietowy' oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km.7A103Następujące instrumenty, urządzenia i systemy nawigacyjne, różne od wymienionych w pozycji 7A003, oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:a. Urządzenia inercyjne lub inne, w których zastosowano przyspieszeniomierze wymienione w pozycjach 7A001, 7A101 lub żyroskopy wymienione w pozycjach 7A002, 7A102, oraz systemy, w których znajdują się urządzenia tego typu;Uwaga: Pozycja 7A103.a nie dotyczy urządzeń zawierających przyspieszeniomierze wyspecyfikowane w pozycji 7A001 oraz przeznaczone i opracowane jako czujniki MWD (Measurement While Drilling – pomiar podczas wiercenia) stosowane podczas prac wiertniczych.b. Zintegrowane systemy samolotowych przyrządów pokładowych, zawierające stabilizatory żyroskopowe lub automatycznego pilota, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004, bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.c.'Zintegrowane systemy nawigacyjne' przeznaczone lub zmodyfikowane do zastosowania w 'pociskach rakietowych' i zdolne do zapewniania dokładności nawigacyjnej dla kręgu równego prawdopodobieństwa (CEP) wynoszącej 200 m lub mniej.Uwagi techniczne:1. W skład 'zintegrowanego systemu nawigacyjnego' zazwyczaj wchodzą następujące elementy składowe:a. inercyjne urządzenie pomiarowe (np. system pomiaru wysokości i naprowadzania, inercyjny zespół odniesienia, albo inercyjny system nawigacyjny);b. jeden lub więcej czujników zewnętrznych używanych do aktualizowania położenia i/lub prędkości, albo okresowo, albo w sposób ciągły w trakcie lotu (np. satelitarny odbiornik nawigacyjny, wysokościomierze radarowy, i/lub radar dopplerowski); orazc. sprzęt i oprogrowanie scalające:2. W pozycji 7A102 'pocisk rakietowy' oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km.7A104Żyro-astrokompasy i inne urządzenia, różne od wymienionych w pozycji 7A004, umożliwiające określanie położenia lub orientację przestrzenną za pomocą automatycznego śledzenia ciał niebieskich lub satelitów oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.7A105Urządzenia odbiorcze Globalnego Satelitarnego Systemu Nawigacji (GNSS; np. GPS, GLONASS lub Galileo) oraz specjalnie przeznaczone do nich zespoły, o następujących właściwościach:a. przeznaczone lub zmodyfikowane do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004, bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104; lubb. przeznaczone lub zmodyfikowane do zastosowań lotniczych i mające następujące parametry:1. zdolne do dostarczania danych nawigacyjnych przy prędkościach powyżej 600 m/s;2. stosujące kodowanie, przeznaczone lub zmodyfikowane do zadań wojskowych lub rządowych, w celu uzyskania dostępu do zabezpieczonych sygnałów/ danych GNSS; lub3. specjalnie zaprojektowane do stosowania elementów przeciwzakłóceniowych (np. bezmodemowa antena sterująca lub antena sterowana elektronicznie) do działania w warunkach, w których występuje aktywne lub bierne przeciwdziałanie.Uwaga: Pozycje 7A105.b.2 i 7A105b.3 nie obejmują kontrolą urządzeń przeznaczonych do komercyjnego, cywilnego lub ratunkowego dostępu do GNSS (np. integracja danych, bezpieczeństwo lotów).7A106Wysokościomierze, różne od wymienionych w pozycji 7A006, typu radarowego lub laserowego, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.7A115Pasywne czujniki do określania namiaru na określone źródła fal elektromagnetycznych (namierniki) lub właściwości terenu, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.Uwaga: Pozycja 7A115 obejmuje czujniki do następujących urządzeń:a.do zobrazowania (mapowania) rzeźby terenu;b.czujniki do tworzenia obrazów (zobrazowania) (aktywne i pasywne);c.interferometry pasywne.7A116Następujące systemy sterowania lotem i serwozawory, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104:a. hydrauliczne, mechaniczne, elektrooptyczne lub elektromechaniczne systemy sterowania lotem (w tym systemy typu "fly-by-wire");b. urządzenia do sterowania wysokością;c. serwozawory do sterowania lotem przeznaczone lub zmodyfikowane do systemów określonych w pozycjach 7A116.a. lub 7A116.b., oraz przeznaczone lub zmodyfikowane do działania w środowisku wibracyjnym o parametrach powyżej 10 g (wartość średnia kwadratowa) pomiędzy 20 Hz i 2 kHz.7A117"Instalacje do naprowadzania" znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych" umożliwiające uzyskanie dokładności instalacji 3,33 % zasięgu lub lepszej (np. "CEP" [Krąg Równego Prawdopodobieństwa] 10 km lub mniej w zasięgu 300 km).7BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne7B001Urządzenia do testowania, wzorcowania lub strojenia specjalnie przeznaczone do urządzeń objętych kontrolą według pozycji 7A,Uwaga: Pozycja 7B001 nie obejmuje kontrolą urządzeń do testowania, wzorcowania lub strojenia specjalnie przeznaczonych do I i II Poziomu Obsługi.Uwagi techniczne:1.Poziom Obsługi IWykrycie awarii urządzenia nawigacji inercyjnej w samolocie i jej sygnalizowanie przez Jednostkę Sterowania i Wyświetlania (CDU) albo komunikat statusowy z odpowiedniego podukładu. Na podstawie instrukcji producenta można zlokalizować przyczyny awarii na poziomie wadliwego funkcjonowania liniowego elementu wymiennego (LRU). Następnie operator demontuje LRU i zastępuje go częścią zapasową.2.Poziom Obsługi IIUszkodzony LRU przekazuje się do warsztatu technicznego (u producenta lub operatora odpowiedzialnego za obsługę techniczną na Poziomie II). W warsztacie technicznym LRU poddaje się testom za pomocą różnych, odpowiednich do tego urządzeń, w celu sprawdzenia i lokalizacji uszkodzonego modułu warsztatowego zespołu wymiennego (SRA) odpowiedzialnego za awarię. Następnie demontuje się wadliwy SRA i zastępuje go zespołem zapasowym. Uszkodzony SRA (albo też kompletny LRU) wysyła się do producenta.NB.: Na Poziomie Obsługi II nie przewiduje się demontażu z SRA przyspieszeniomierzy ani też czujników żyroskopowych objętych kontrolą.7B002Następujące urządzenia specjalnie przeznaczone do określania parametrów zwierciadeł do pierścieniowych żyroskopów "laserowych":NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7B102.a. Urządzenia do pomiaru rozproszenia z dokładnością do 10 ppm lub mniej (lepszą);b. Profilometry o dokładności pomiarowej 0,5 nm (5 angstremów) lub mniej (lepszej);7B003Urządzenia specjalnie przeznaczone do "produkcji" urządzeń ujętych w pozycji 7A.Uwaga: Pozycja 7B0030 obejmuje:a.Stanowiska testowe do regulacji żyroskopów;b.Stanowiska do dynamicznego wyważania żyroskopów;c.Stanowiska do testowania silniczków do żyroskopów;d.Stanowiska do usuwania powietrza i napełniania żyroskopów;e.Uchwyty odśrodkowe do łożysk do żyroskopów;f.Stanowiska do regulacji pozycji osi przyspieszeniomierzy.7B102Reflektometry specjalnie przeznaczone do wyznaczania charakterystyk zwierciadeł do żyroskopów "laserowych", posiadające dokładność pomiarową 50 ppm lub mniej (lepszą).7B103Następujące "instalacje produkcyjne" i "urządzenia produkcyjne":a. Specjalnie zaprojektowane "instalacje produkcyjne" do urządzeń wymienionych w pozycji 7A117;b. Urządzenia produkcyjne i inne urządzenia do testowania, wzorcowania lub strojenia, różne od wymienionych w pozycjach 7B001 do 7B003, zaprojektowane lub zmodyfikowane do urządzeń wymienionych w pozycji 7A.7CMateriałyŻadne.7DOprogramowanie7D001"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń wymienionych w pozycji 7A lub 7B.7D002"Kod źródłowy" do "użytkowania" wszelkich urządzeń do nawigacji inercyjnej lub Układów Informujących o Położeniu i Kursie (AHRS) włącznie z inercyjnymi urządzeniami niewymienionymi w pozycji 7A003 lub 7A004.Uwaga: Pozycja 7D002 nie obejmuje kontrolą "kodów źródłowych" do "użytkowania" zawieszonych kardanowo układów AHRS.Uwaga techniczna:Układy AHRS w istotny sposób różnią się od inercyjnych systemów nawigacji (INS), ponieważ układy te (AHRS) dostarczają podstawowych informacji o położeniu i kursie, i zazwyczaj nie dostarczają informacji o przyspieszeniu, prędkości i położeniu, jakich dostarcza układ INS.7D003Następujące inne "oprogramowanie":a."Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane w celu poprawy parametrów eksploatacyjnych lub zmniejszenia błędów nawigacyjnych systemów do poziomu określonego w pozycjach 7A003 lub 7A004;b."Kod źródłowy" do hybrydowych układów scalonych poprawiający parametry eksploatacyjne lub zmniejszający błędy nawigacyjne systemu do poziomu określonego w pozycji 7A003 poprzez ciągłą syntezę danych inercyjnych z jednymi z następujących danych nawigacyjnych:1. Prędkością określaną za pomocą radaru dopplerowskiego;2. Porównywaniem z danymi z globalnego satelitarnego systemu nawigacyjnego (np. GPS lub GLONASS); lub3. Informacjami z "bazy danych o terenie";c."Kod źródłowy" do zintegrowanych systemów awionicznych lub systemów realizacji zadań bojowych, umożliwiający wykorzystywanie danych z czujników oraz "systemów eksperckich";d."Kod źródłowy" do "rozwoju" jednego z poniżej wymienionych:1. Cyfrowych systemów sterowania lotem umożliwiających "kompleksowe sterowanie lotem";2. Zintegrowanych systemów sterowania napędem i lotem;3. Systemów sterowania elektronicznego (fly-by-wire) i światłowodowego;4."Aktywnych systemów sterowania lotem", tolerujących błędy pilotażu lub mających możliwość samoczynnej rekonfiguracji;5. Automatycznych lotniczych systemów namiarowych;6. Systemów przyrządów pokładowych dostarczających danych dotyczących parametrów powietrza w locie na podstawie pomiarów powierzchniowych parametrów statycznych; lub7. Przeziernikowych wyświetlaczy rastrowych lub trójwymiarowych.e."Oprogramowanie" do komputerowo wspomaganego projektowania (CAD), specjalnie opracowane do "rozwoju""układów aktywnego sterowania lotem" sterowników helikopterowych wieloosiowych systemów sterowania elektronicznego i światłowodowego lub helikopterowych "cyrkulacyjnych układów równoważenia momentu lub cyrkulacyjnych układów sterowania kierunkiem", których technologie są wyspecyfikowane w pozycjach 7E004.b, 7E004.c.1 lub 7E004.c.2.7D101"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "użytkowania" urządzeń wymienionych w pozycjach 7A001 do 7A006, 7A101 do 7A106, 7A115, 7A116.a., 7A116.b., 7B001, 7B002, 7B003, 7B102 lub 7B103.7D102"Oprogramowanie" scalające, jak następuje:a."Oprogramowanie" scalające do urządzeń wymienionych w pozycji 7A103.b;b."Oprogramowanie" scalające specjalnie zaprojektowane do urządzeń wymienionych w pozycjach 7A003 lub 7A103.a;c."Oprogramowanie" scalające specjalnie zaprojektowane do urządzeń wymienionych w pozycji 7A103.Uwaga: Powszechnie spotykaną postacią "oprogramowania" scalającego jest filtrowanie Kalmana.7D103"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do modelowania lub symulowania działania "instalacji do naprowadzania" wymienionych w pozycji 7A117 lub do ich integrowania konstrukcyjnego z kosmicznymi pojazdami nośnymi wymienionymi w pozycji 9A004 lub z rakietami meteorologicznymi wymienionymi w pozycji 9A104.Uwaga:"Oprogramowanie" wymienione w pozycji 7D103 podlega kontroli, jeśli jest przeznaczone specjalnie do sprzętu wymienionego w pozycji 4A102.7ETechnologie7E001"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" urządzeń lub "oprogramowania" wymienionych w pozycjach 7A, 7B lub 7D.7E002"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "produkcji" urządzeń wymienionych w pozycjach 7A lub 7B.7E003"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do naprawy, regeneracji lub remontowania urządzeń wymienionych w pozycjach 7A001 do 7A004.Uwaga: Pozycja 7E003 nie obejmuje kontrolą "technologii" obsługi technicznej bezpośrednio związanych z wzorcowaniem, usuwaniem lub wymianą uszkodzonych lub nienadających się do użytku liniowych elementów wymiennych (LRU) i warsztatowych zespołów wymiennych (SRA) w "cywilnych statkach powietrznych" zgodnie z opisem w I lub w II Poziomie Obsługi.NB.: Patrz uwagi techniczne do 7B001.7E004Następujące inne "technologie":a. Technologie do "rozwoju" lub "produkcji":1. Lotniczych automatycznych urządzeń namiarowych pracujących w paśmie częstotliwości powyżej 5 MHz;2. Systemów przyrządów pokładowych podających dane dotyczące parametrów powietrza w locie w oparciu wyłącznie o pomiary powierzchniowych parametrów statycznych, tj. dostarczane z konwencjonalnych sond do pomiarów parametrów powietrza;3. Przeziernikowych wyświetlaczy rastrowych lub trójwymiarowych do "statków powietrznych";4. Inercyjnych systemów nawigacyjnych lub żyro-astrokompasów wyposażonych w przyspieszeniomierze lub żyroskopy objęte kontrolą według pozycji 7A001 lub 7A002;5. Serwomotorów elektrycznych (tj. elektromechanicznych, elektrohydrostatycznych i zintegrowanych) specjalnie opracowanych dla "podstawowego sterowania lotem";6."Układów czujników optycznych sterowania lotem" specjalnie opracowanych dla "aktywnych układów sterowania lotem";b. Następujące technologie "rozwoju""aktywnych systemów sterowania lotem" włącznie z systemami elektronicznymi lub światłowodowymi) do:1. Projektowania konfiguracji połączeń wielokrotnych mikroelektronicznych elementów przetwarzających (do komputerów pokładowych) umożliwiających osiągnięcie "przetwarzania w czasie rzeczywistym" z przeznaczeniem do wprowadzania reguł sterowania;2. Kompensacji reguł sterowania z uwzględnieniem położenia czujników lub obciążeń dynamicznych płatowca, tj. kompensacji z uwzględnieniem wibracji czujników lub zmian położenia czujników względem środka ciężkości;3. Elektronicznego sterowania redundancją danych lub redundancją systemów w celu wykrywania błędów, tolerowania błędów, identyfikacji elementów niesprawnych drogą eliminacji lub zmiany konfiguracji;Uwaga: Pozycja 7E004.b.3 nie obejmuje kontrolą "technologii" do projektowania redundancji fizycznej.4. Sterowania lotem umożliwiającego przeprowadzenie w locie zmiany konfiguracji sterowania siłą i momentem w celu autonomicznego sterowania pojazdem powietrznym w czasie rzeczywistym;5. Integracji systemu sterowania cyfrowego, danych z systemu nawigacyjnego i napędowego w jeden system cyfrowego kierowania lotem dla "kompleksowego sterowania lotem";Uwaga: Pozycja 7E004.b.5 nie obejmuje kontrolą:a."Technologii""rozwoju" integracji cyfrowych systemów sterowania lotem, danych nawigacyjnych i danych kontrolnych układu napędowego do systemu cyfrowego kierowania lotem w celu "optymalizacji toru lotu".b."Technologii""rozwoju" przyrządów kontroli lotu dla „statków powietrznych”, zintegrowanych wyłącznie z systemami nawigacyjnymi i podchodzenia do lądowania, takimi jak VOR (radiolatarnia kierunkowa wysokiej częstotliwości), DME (radiodalmierz), ILS (system lądowania na przyrządy) lub MLS (mikrofalowy system lądowania);6. Całkowicie autonomiczne cyfrowe systemy sterowania lotem lub wieloczujnikowe systemy kierowania realizacją zadań, wyposażone w "systemy eksperckie";NB.: W przypadku "technologii" Całkowicie Autonomicznych Cyfrowych Systemów Sterowania Silnikami (FADEC) sprawdź także pozycję 9E003.a.9.c. Następujące "technologie" do "rozwoju" systemów do śmigłowców:1. Wieloosiowe systemy sterowania elektronicznego i światłowodowego, w których połączono funkcje co najmniej dwóch z wymienionych poniżej systemów w jeden zespół sterowania:a. System sterowania skokiem ogólnym;b. System sterowania skokiem okresowym łopat;c. System kierowania odchyleniem kursowym;2."Sterowane cyrkulacyjnie (opływowo) systemy kompensacji momentu lub sterowania kierunkiem lotu";3. Łopaty wirnika z "profilami o zmiennej geometrii" opracowane do systemów umożliwiających niezależne sterowanie poszczególnymi łopatami.7E101"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" urządzeń wymienionych w pozycjach 7A001 do 7A006, 7A101 do 7A106, 7A115 do 7A117, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103, 7D101 do 7D103.7E102Następujące "technologie" do zabezpieczania podzespołów awioniki i elektrycznych przed impulsem elektromagnetycznym (EMP) i zagrożeniem zakłóceniami elektromagnetycznymi ze źródeł zewnętrznych:a."technologie" projektowania ekranowania;b."technologie" projektowania dla konfigurowania odpornych obwodów elektrycznych i podukładów;c."technologie" projektowania dla wyznaczania kryteriów uodporniania w odniesieniu do technologii wymienionych powyżej w pozycjach 7E102.a. i 7E102.b.7E104"Technologie" scalania danych z systemów sterowania lotem, naprowadzania i napędu w system zarządzania lotem w celu optymalizacji toru lotu rakiet.KATEGORIA 8URZĄDZENIA OKRĘTOWE8ASystemy, urządzenia i części8A001Następujące pływające jednostki podwodne lub nawodne:Uwaga: Status kontroli urządzeń do pojazdów podwodnych określono w następujących pozycjach:Kategoria 5, Część 2 "ochrona informacji" – w zakresie szyfrujących urządzeń komunikacyjnych;Kategoria 6 – w zakresie czujników;Kategoria 7 i 8 – w zakresie urządzeń nawigacyjnych;Kategoria 8.A. – w zakresie urządzeń podwodnych.a. Załogowe pojazdy podwodne na uwięzi, przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1000 m;b. Załogowe, swobodne pojazdy podwodne, posiadające jedną z poniższych cech:1. Przeznaczenie do 'działań autonomicznych' i nośność stanowiącą jednocześnie:a. 10 % lub więcej ich wagi w powietrzu; orazb. 15 kN lub więcej;2. Przeznaczenie do działania na głębokościach większych niż 1000 m; lub3. Posiadanie wszystkich następujących właściwości:a. Przeznaczenie dla załogi czteroosobowej lub liczniejszej;b. Przeznaczenie do "autonomicznego działania" przez 10 lub więcej godzin;c.'Zasięg' 25 lub więcej mil morskich; lubd. Długość 21 m lub mniejszą;Uwagi techniczne:1.Dla potrzeb pozycji 8A001.b. termin 'działanie autonomiczne' dotyczy działań prowadzonych przez pojazd podwodny (posiadający układ napędowy pracujący pod wodą albo nad wodą) w całkowitym zanurzeniu, bez chrap, przy wszystkich systemach pracujących i krążenia z minimalną prędkością, przy której pojazd podwodny może bezpiecznie regulować dynamicznie głębokość zanurzenia za pomocą wyłącznie sterów głębokości, bez korzystania z pomocy nawodnej jednostki pływającej, ani bazy nawodnej, na dnie lub brzegu morza.2.Dla potrzeb pozycji 8A001.b 'zasięg' oznacza połowę maksymalnego dystansu, jaki pojazd podwodny może pokonać.c. Bezzałogowe pojazdy podwodne na uwięzi przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1000 m, posiadające jedną z poniższych cech charakterystycznych:1. Przeznaczenie do manewrowania z własnym napędem za pomocą silników napędowych lub silników odrzutowych objętych kontrolą według pozycji 8A002.a.2; lub2. światłowodowe kanały przesyłania danych;d. Bezzałogowe pojazdy podwodne bez uwięzi (swobodne), posiadające jedną z poniższych cech charakterystycznych:1. Możliwość decydowania o kursie względem dowolnego systemu geograficznego bez bieżącej (w czasie rzeczywistym) pomocy człowieka;2. Wyposażenie w akustyczne kanały przesyłania danych lub poleceń; lub3. Wyposażenie w dłuższe niż 1000 m światłowodowe kanały przesyłania danych lub poleceń;e. Oceaniczne urządzenia ratownicze o nośności powyżej 5 MN przeznaczone do ratowania obiektów z głębokości większych niż 250 m i mające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Dynamiczne systemy ustalania położenia zdolne do utrzymania położenia z dokładnością do 20 m względem danego punktu za pomocą systemu nawigacyjnego; lub2. Systemy nawigacyjne działające względem dna morza i zintegrowane systemy nawigacyjne przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1000 m, umożliwiające utrzymywanie położenia względem danego punktu z dokładnością do 10 m;f. Pojazdy na poduszce powietrznej (odmiana z pełnym fartuchem bocznym), mające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:1. Maksymalną prędkość projektową z pełnym obciążeniem przekraczającą 30 węzłów przy falach o wysokości 1,25 m (stan morza 3) lub wyższej;2. Ciśnienie powietrza w poduszce powyżej 3830 Pa; oraz3. Stosunek masy pustej jednostki pływającej do całkowicie obciążonej poniżej 0,7;g. Pojazdy na poduszce powietrznej (odmiana ze sztywnymi burtami) o maksymalnej prędkości obliczeniowej z pełnym obciążeniem powyżej 40 węzłów przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5) lub większej;h. Wodoloty wyposażone w aktywne systemy automatycznego sterowania położeniem płatów nośnych, o maksymalnej prędkości obliczeniowej z pełnym obciążeniem równej lub wyższej od 40 węzłów przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5) lub większej;i.'Jednostki pływające o małym polu przekroju wodnicowego' mające jedną z poniższych cech charakterystycznych:1. Wyporność z pełnym obciążeniem powyżej 500 ton i maksymalną prędkość obliczeniową z pełnym obciążeniem powyżej 35 węzłów przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5) lub większej; lub2. Wyporność z pełnym obciążeniem powyżej 1500 ton i maksymalną prędkość obliczeniową z pełnym obciążeniem powyżej 25 węzłów przy falach o wysokości 4 m (stan morza 6) lub większej;Uwaga techniczna:'Jednostkę pływającą o małym polu przekroju wodnicowego' definiuje się według następującego wzoru: pole przekroju wodnicowego przy konstrukcyjnym zanurzeniu eksploatacyjnym mniejsze od 2 × (wyparta objętość przy konstrukcyjnym zanurzeniu eksploatacyjnym) 2/3 .8A002Następujące układy lub urządzenia:Uwaga: Podwodne instalacje telekomunikacyjne ujęto w Kategorii, 5 część 1 – Telekomunikacja.a. Następujące systemy i urządzenia, specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do pojazdów podwodnych, przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1000 m:1. Obudowy ciśnieniowe lub kadłuby sztywne o maksymalnej średnicy wewnętrznej komory powyżej 1,5 m;2. Silniki napędowe na prąd stały lub silniki odrzutowe;3. Kable startowe i łączniki do nich, na bazie włókien optycznych i zaopatrzone w syntetyczne elementy wzmacniające;b. Systemy specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do automatycznego sterowania ruchem urządzeń do pojazdów podwodnych objętych kontrolą według pozycji 8A001, korzystające z danych nawigacyjnych i wyposażone w serwomechanizmy sterujące ze sprzężeniem zwrotnym w celu umożliwienia pojazdowi:1. Poruszania się w słupie wody w zasięgu 10 m od ściśle określonego punktu;2. Utrzymania położenia w słupie wody w zasięgu 10 m od określonego punktu; lub3. Utrzymania położenia w zasięgu do 10 m od kabla leżącego na dnie albo znajdującego się pod dnem morza;c. Penetratory światłowodowe do kadłubów lub łączniki;d. Następujące podwodne systemy wizyjne:1. Następujące systemy i kamery telewizyjne:a. Instalacje telewizyjne (składające się z kamery, świateł, urządzeń monitorujących i do przesyłania sygnałów) o rozdzielczości granicznej mierzonej w powietrzu powyżej 800 linii i specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane w taki sposób, że można nimi zdalnie sterować z pojazdów podwodnych;b. Podwodne kamery telewizyjne o rozdzielczości granicznej mierzonej w powietrzu powyżej 1100 linii;c. Bardzo czułe kamery telewizyjne (działające przy słabym oświetleniu) specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do działania pod wodą, wyposażone w oba poniżej wymienione elementy:1. Lampy do wzmacniania obrazów wymienione w pozycji 6A002.a.2.a; oraz2. Siatki na elementach półprzewodnikowych z ponad 150000"aktywnych pikseli" na powierzchni siatki;Uwaga techniczna:W telewizji rozdzielczość graniczna jest miarą rozdzielczości poziomej, wyrażanej zazwyczaj jako maksymalna liczba linii mieszcząca się w wysokości obrazu, rozróżnianych na karcie testowej, określana według normy IEEE 208/1960 lub dowolnej normy stanowiącej jej odpowiednik.2. Systemy, specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do zdalnego kierowania z pojazdu podwodnego, w których zastosowano techniki umożliwiające minimalizację zjawiska rozpraszania wstecznego, włącznie z iluminatorami o regulowanym zakresie lub systemami "laserowymi";e. Aparaty fotograficzne specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wodą, na głębokościach poniżej 150 m, na błony filmowe formatu 35 mm lub większego, mające jedną z poniższych cech:1. Możliwość zapisu na błonie komentarza w postaci danych ze źródła zewnętrznego względem aparatu fotograficznego;2. Mechanizm do automatycznego korygowania ogniskowej; lub3. System automatycznego sterowania kompensacją o specjalnej konstrukcji umożliwiającej wykorzystanie obudowy kamery podwodnej na głębokościach większych niż 1000 m;f. Elektroniczne systemy tworzenia obrazów, specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wodą, mające możliwość zapamiętania w postaci cyfrowej ponad 50 naświetlonych obrazów;Uwaga: Pozycja 8A002.f nie obejmuje kontrolą kamer cyfrowych specjalnie zaprojektowanych do użytku konsumentów, z wyjątkiem wykorzystujących elektroniczne techniki zwielokrotniania obrazu.g. Następujące instalacje oświetleniowe, specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wodą:1. Stroboskopowe instalacje oświetleniowe o energii strumienia świetlnego powyżej 300 J na jeden błysk i o szybkości powtarzania większej niż 5 błysków na sekundę;2. Instalacje oświetleniowe, w których światło wytwarza łuk argonowy, specjalnie przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1000 m;h."Roboty" (manipulatory) specjalnie przeznaczone do pracy pod wodą, zarządzane za pomocą dedykowanego komputera, mające jedną z poniższych cech:1. Wyposażenie w układy sterujące "robotem" dzięki informacjom z czujników mierzących siły lub momenty działające na obiekty zewnętrzne albo odległość do zewnętrznego obiektu, lub czujników dotykowych "robota" wyczuwających obiekt zewnętrzny; lub2. Możliwość działania z siłą 250 N lub większą albo momentem 250 Nm lub większym, i do których budowy zastosowano stopy na osnowie tytanowej albo materiały "kompozytowe" na osnowie "włókien lub włókienek";i. Zdalnie sterowane manipulatory przegubowe specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w pojazdach podwodnych i posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:1. Wyposażenie w układy sterujące ruchem manipulatora na podstawie informacji z czujników mierzących moment lub siłę działającą na obiekt zewnętrzny albo z czujników dotykowych wyczuwających dotyk manipulatora do obiektu zewnętrznego; lub2. Sterowanie na zasadzie proporcjonalnego odtwarzania ruchów operatora albo za pomocą dedykowanego komputera oraz posiadanie 5 lub więcej stopni swobody ruchu;Uwaga: Przy określaniu liczby stopni swobody ruchu bierze się pod uwagę wyłącznie te funkcje, w których wykorzystywane jest sterowanie proporcjonalne z pozycyjnym sprzężeniem zwrotnym lub sterowanie za pomocą dedykowanego komputera.j. Następujące układy napędowe niezależne od dopływu powietrza, specjalnie przeznaczone do działania pod wodą:1. Niezależne od powietrza systemy napędowe z silnikami pracującymi według obiegu Braytona (Joula) lub Rankina, wyposażone w jeden z wymienionych poniżej układów:a. Chemiczne układy oczyszczające lub absorpcyjne, specjalnie przeznaczone do usuwania dwutlenku węgla, tlenku węgla i cząstek stałych zawieszonych w gazie wydechowym z silnika pracującego w obiegu z recyrkulacją;b. Specjalne układy przystosowane do pracy na gazach jednoatomowych;c. Urządzenia lub obudowy specjalnie przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządzenia mocujące, osłabiające skutki wstrząsów; lubd. Układy specjalnie przeznaczone do:1. Prasowania produktów reakcji albo do regeneracji paliw;2. Składowania produktów reakcji; oraz3. Usuwania produktów reakcji w warunkach ciśnienia zewnętrznego 100 kPa lub większego;2. Niezależne od powietrza systemy napędowe z silnikami wysokoprężnymi (obieg Diesla) wyposażone we wszystkie z wymienionych poniżej układów:a. Chemiczne układy oczyszczające lub absorpcyjne, specjalnie przeznaczone do usuwania dwutlenku węgla, tlenku węgla i cząstek stałych zawieszonych w gazie wydechowym z silnika pracującego w obiegu z recyrkulacją;b. Specjalne układy przystosowane do pracy na gazach jednoatomowych;c. Urządzenia lub obudowy specjalnie przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządzenia mocujące osłabiające skutki wstrząsów; orazd. Specjalne układy wydechowe o nieciągłym odprowadzaniu produktów spalania;3. Niezależne od powietrza układy energetyczne na ogniwach paliwowych o mocy powyżej 2 kW, wyposażone w jeden z wymienionych poniżej układów:a. Urządzenia lub obudowy specjalnie przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządzenia mocujące, osłabiające skutki wstrząsów; lubb. Układy specjalnie przeznaczone do:1. Prasowania produktów reakcji albo do regeneracji paliw;2. Składowania produktów reakcji; oraz3. Usuwania produktów reakcji w warunkach ciśnienia zewnętrznego 100 kPa lub większego;4. Niezależne od powietrza systemy napędowe z silnikami pracującymi według obiegu Stirlinga, wyposażone we wszystkie z poniższych układów:a. Urządzenia lub obudowy specjalnie przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 Hz, lub specjalne urządzenia mocujące, osłabiające skutki wstrząsów; orazb. Specjalne układy wydechowe do usuwania produktów spalania w warunkach ciśnienia zewnętrznego 100 kPa lub większego;k. Następujące fartuchy boczne poduszkowców, uszczelnienia i inne elementy montażowe:1. Wytrzymałe na ciśnienia w poduszce powietrznej 3830 Pa lub wyższe, działające przy falach o wysokości 1,25 m (stan morza 3) lub większej i specjalnie przeznaczone do pojazdów na poduszce powietrznej (odmiana z pełnym fartuchem bocznym) objętych kontrolą według pozycji 8A001.f; lub2. Wytrzymałe na ciśnienia w poduszce powietrznej 6224 Pa lub wyższe, działające przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5) lub większej i specjalnie przeznaczone do pojazdów na poduszce powietrznej (odmiana ze sztywnymi burtami) objętych kontrolą według pozycji 8A001.g;l. Dmuchawy nośne o mocy nominalnej powyżej 400 kW, specjalnie przeznaczone do pojazdów na poduszce powietrznej objętych kontrolą według pozycji 8A001.f lub 8A00.1.g;m. Pracujące w całkowitym zanurzeniu podkawitacyjne lub superkawitacyjne płaty wodne specjalnie przeznaczone do jednostek pływających objętych kontrolą według pozycji 8A001.h;n. Układy aktywne specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do automatycznej kompensacji wywołanych działaniem wody ruchów jednostek pływających lub pojazdów objętych kontrolą według pozycji 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h lub 8A001.i;o. Następujące pędniki, układy przenoszenia napędu, generatory mocy i układy tłumienia szumów:1. Następujące pędniki śrubowe lub układy przenoszenia napędu specjalnie przeznaczone do pojazdów poduszkowych (zarówno do odmian z pełnym fartuchem bocznym, jak i ze sztywnymi burtami), wodolotów lub jednostek pływających o małym polu przekroju wodnicowego, objętych kontrolą według pozycji 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h, lub 8A001.i:a. Śruby napędowe superkawitacyjne, superwentylowane, częściowo zanurzone lub zanurzone niecałkowicie, o mocy nominalnej powyżej 7,5 MW;b. Zespoły śrub napędowych przeciwbieżnych o mocy nominalnej powyżej 15 MW;c. Układy napędowe, w których do uspokojenia przepływu przez śruby zastosowano zawirowanie wstępne albo wylotowe;d. Lekkie przekładnie redukcyjne o wysokim przełożeniu (współczynnik przełożenia K powyżej 300);e. Wałowe układy przeniesienia napędu, składające się z elementów wykonanych z materiałów "kompozytowych", zdolne do przenoszenia mocy powyżej 1 MW;2. Następujące pędniki śrubowe, generatory mocy lub układy przenoszenia napędu przeznaczone dla jednostek pływających:a. Śruby napędowe o regulowanym skoku oraz zespoły piast do śrub o mocy nominalnej powyżej 30 MW;b. Elektryczne silniki napędowe z wewnętrznym chłodzeniem cieczowym o mocy wyjściowej powyżej 2,5 MW;c."Nadprzewodnikowe" silniki napędowe albo elektryczne silniki napędowe z magnesami stałymi, o mocy wyjściowej powyżej 0,1 MW;d. Wałowe układy przeniesienia napędu, których elementy są wykonane z materiałów "kompozytowych", zdolne do przenoszenia mocy powyżej 2 MW;e. Wentylowane lub podobne napędy śrubowe o mocy nominalnej powyżej 2,5 MW;3. Następujące układy do tłumienia szumów, przeznaczone dla jednostek pływających o wyporności 1000 t lub wyższej:a. Układy tłumienia szumów podwodnych o częstotliwościach poniżej 500 Hz, składające się ze złożonych systemów montażowych służących do izolacji akustycznej silników wysokoprężnych, zespołów generatorów wysokoprężnych, turbin gazowych, zespołów generatorów gazowych, silników napędowych lub napędowych przekładni redukcyjnych, specjalnie przeznaczone do tłumienia dźwięków lub wibracji, mające masę stanowiącą ponad 30 % masy urządzeń, na których mają być zamontowane;b. Aktywne układy tłumienia lub eliminacji szumów albo łożyska magnetyczne, specjalnie przeznaczone do układów przenoszenia napędu, wyposażone w elektroniczne układy sterowania umożliwiające aktywne zmniejszanie wibracji urządzeń poprzez bezpośrednie generowanie do źródła dźwięków sygnałów tłumiących dźwięki i wibracje;p. Strugowodne układy napędowe o mocy wyjściowej powyżej 2,5 MW, w których, w celu poprawy sprawności napędu lub zmniejszenia rozchodzącego się pod wodą wytworzonego dźwięku, pochodzącego z układu napędowego, zastosowano dysze rozbieżne oraz łopatki kierujące przepływem.q. Niezależne aparaty do nurkowania i pływania podwodnego o zamkniętym lub półzamkniętym obiegu.Uwaga: Pozycja 8A002.q nie obejmuje kontrolą aparatów indywidualnych, kiedy towarzyszą one użytkownikowi do jego osobistego użytku.8BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne8B001Tunele wodne o szumie tła poniżej 100 dB (odpowiednik 1 mikropaskala, 1 Hz) w paśmie częstotliwości od 0 do 500 Hz, przeznaczone do pomiaru pól akustycznych wytwarzanych przez przepływy cieczy wokół modeli układów napędowych.8CMateriały8C001'Pianka syntaktyczna' (porowata) do użytku pod wodą mająca obie poniższe cechy:a. Przeznaczenie do stosowania na głębokościach większych niż 1000 m; orazb. Gęstość mniejszą niż 561 kg/m3.Uwaga techniczna:'Pianka syntaktyczna' składa się z pustych w środku kuleczek z tworzywa sztucznego lub szkła osadzonych w matrycy z żywicy.8DOprogramowanie8D001"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń lub materiałów objętych kontrolą według pozycji 8A, 8B lub 8C;8D002"Oprogramowanie" specjalne, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji", napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej obróbki skrawaniem) śrub, specjalnie w celu tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów.8ETechnologie8E001Technologie według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń lub materiałów objętych kontrolą według pozycji 8A, 8B lub 8C;8E002Następujące inne technologie:a. Technologie do "rozwoju", "produkcji", napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej obróbki skrawaniem) śrub specjalnie w celu tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów;b. Technologie do remontów lub modyfikacji urządzeń objętych kontrolą według pozycji 8A001 lub 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o, lub 8A002.p.KATEGORIA 9UKŁADY NAPĘDOWE, POJAZDY KOSMICZNE I ICH WYPOSAŻENIE9ASystemy, urządzenia i częściNB.: Dla układów napędowych specjalnie skonstruowanych lub zabezpieczonych przed promieniowaniem neutronowym lub przenikliwym promieniowaniem jonizującym sprawdź także Wykaz uzbrojenia.9A001Następujące lotnicze silniki turbinowe posiadające którekolwiek z następujących cech:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A101.a. Posiadające jedną z technologii objętych kontrolą według pozycji 9E003.a lubUwaga: Pozycja 9A001.a nie obejmuje silników turbinowych spełniających wszystkie poniższe wymogi:a.Posiadanie certyfikatu wydanego przez cywilne władze lotnicze „państwa uczestniczącego”; orazb.Przeznaczenie do napędzania niewojskowych załogowych "statków powietrznych", dla których "państwo uczestniczące" wydało jeden z następujących dokumentów, odnoszących się do samolotu wyposażonego w silnik tego właśnie typu:1.Certyfikat zezwalający na zastosowanie cywilne; lub2.Równoważny dokument uznawany przez Międzynarodową Organizację Lotnictwa Cywilnego (ICAO).b. Przeznaczone do napędzania samolotów do lotów z prędkościami Ma = 1 przez ponad trzydzieści minut.9A002'Turbinowe silniki okrętowe' o nominalnej mocy ciągłej określonej według normy ISO wynoszącej 24245 kW lub więcej i zużyciu jednostkowym paliwa nieprzekraczającym 0,219 kg/kWh w dowolnym punkcie roboczym w zakresie mocy od 35 do 100 %, oraz specjalnie do nich przeznaczone zespoły i elementy;Uwaga: Termin 'turbinowe silniki okrętowe' obejmuje również turbinowe silniki przemysłowe lub lotnicze, przystosowane do napędzania jednostek pływających lub wytwarzania energii elektrycznej na jednostkach pływających.9A003Następujące specjalne zespoły i elementy, w których zastosowano jedną z technologii objętych kontrolą według pozycji 9E003.a, do wymienionych poniżej turbinowych silników napędowych:a. Wymienionych w pozycji 9A001;b. Skonstruowanych lub wyprodukowanych w krajach innych niż "państwa członkowskie" lub nieznanych producentowi (wnioskodawcy);9A004Kosmiczne pojazdy nośne "statki kosmiczne";NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A104.Uwaga: Pozycja 9A004 nie obejmuje kontrolą ładunku użytecznego.NB.: Dla określenia statusu kontroli produktów wchodzących w skład ładunku użytecznego "statku kosmicznego" sprawdź odpowiednie Kategorie.9A005Rakietowe systemy napędowe na paliwo ciekłe zawierające jeden z systemów lub elementów wymienionych w pozycji 9A006;NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 9A105 I 9A119.9A006Następujące systemy lub elementy specjalnie przeznaczone do rakietowych układów napędowych na paliwo ciekłe:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 9A106, 9A108 i 9A120.a. Chłodziarki kriogeniczne, pokładowe pojemniki Dewara, kriogeniczne instalacje grzewcze lub urządzenia kriogeniczne specjalnie przeznaczone do pojazdów kosmicznych, umożliwiające ograniczenie strat cieczy kriogenicznych do poziomu poniżej 30 % rocznie;b. Pojemniki kriogeniczne lub pracujące w obiegu zamkniętym układy chłodzenia umożliwiające utrzymanie temperatur na poziomie 100 K (- 173 °C) lub mniejszym, przeznaczone do "samolotów" zdolnych do rozwijania prędkości powyżej Ma = 3, do rakiet nośnych lub "statków kosmicznych";c. Urządzenia do przechowywania lub transportu wodoru w formie mieszaniny fazy ciekłej ze stałą (zawiesiny);d. Wysokociśnieniowe (powyżej 17,5 MPa) pompy turbinowe, ich elementy lub towarzyszące im gazowe lub pracujące w cyklu rozprężnym napędy turbinowe;e. Wysokociśnieniowe (powyżej 10,6 MPa) komory ciągu silników rakietowych i dysze do nich;f. Urządzenia do przechowywania paliw napędowych na zasadzie kapilarnej lub wydmuchowej (tj. z elastycznymi przeponami);g. Wtryskiwacze ciekłych paliw napędowych, w których średnice pojedynczych otworków nie przekraczają 0,381 mm (pole powierzchni 1,14 × 10–3 cm2 lub mniejsze dla otworków niekolistych), specjalnie skonstruowane do silników rakietowych na paliwo ciekłe;h. Wykonane z jednego elementu materiału typu węgiel – węgiel komory ciągu lub wykonane z jednego elementu materiału typu węgiel – węgiel stożki wylotowe, których gęstości przekraczają 1,4 g/cm3, a wytrzymałości na rozciąganie są większe niż 48 MPa.9A007Systemy napędowe rakiet na paliwo stałe o następujących parametrach:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119.a. Impuls całkowity powyżej 1,1 MNs;b. Impuls właściwy 2,4 kNs/kg lub większy w sytuacji wypływu z dyszy do otoczenia w warunkach istniejących na poziomie morza przy ciśnieniu w komorze wyregulowanym na poziomie 7 MPa;c. Udział masowy stopnia powyżej 88 % i procentowy udział składników stałych w paliwie powyżej 86 %;d. Zawierające dowolne elementy objęte kontrolą według pozycji 9A008; lube. Wyposażone w układy izolacyjne i wiążące paliwo, w których zastosowano bezpośrednio połączone konstrukcje silnikowe zapewniające 'silne połączenia mechaniczne' lub elementy barierowe uniemożliwiające migrację chemiczną pomiędzy paliwem stałym a stanowiącym osłonę materiałem izolacyjnym;Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 9A007.e 'silne połączenie mechaniczne' oznacza wytrzymałość wiązania równą lub większą niż wytrzymałość paliwa.9A008Następujące elementy przeznaczone do rakietowych układów napędowych na paliwo stałe:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A108.a. Układy izolacyjne i wiążące paliwo, w których zastosowano wykładziny zapewniające 'silne połączenia mechaniczne' lub elementy barierowe uniemożliwiające migrację chemiczną pomiędzy paliwem stałym a stanowiącym osłonę materiałem izolacyjnym;Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 9A008.a 'silne połączenie mechaniczne' oznacza wytrzymałość wiązania równą lub większą niż wytrzymałość paliwa.b. Wykonane z włókien nawojowych "kompozytowe" osłony silników o średnicy powyżej 0,61 m lub o 'wskaźnikach efektywności strukturalnej (PV/W)' powyżej 25 km;Uwaga techniczna:'Wskaźnik efektywności strukturalnej (PV/W)' jest iloczynem ciśnienia wybuchu (P) i pojemności zbiornika (V) podzielonym przez całkowitą wagę zbiornika ciśnieniowego (W);c. Dysze o ciągach powyżej 45 kN lub szybkości erozyjnego zużycia gardzieli poniżej 0,075 mm/s;d. Dysze ruchome lub systemy sterowania wektorem ciągu za pomocą pomocniczego wtrysku płynów o jednym z następujących parametrów:1. Ruch okrężny z odchyleniem kątowym powyżej ± 5 °;2. Kątowy obrót wektora ciągu rzędu 20 °/s lub więcej; lub3. Przyspieszenia kątowe wektora ciągu rzędu 40 °/s2 lub większe.9A009Hybrydowe systemy napędowe rakiet o następujących parametrach:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 9A109 I 9A119.a. Impuls całkowity powyżej 1,1 MNs; lubb. Ciąg powyżej 220 kN w warunkach próżni na wylocie;9A010Następujące specjalnie opracowane elementy, systemy lub struktury do rakiet nośnych lub systemów napędowych do rakiet nośnych, lub "statków kosmicznych":NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 1A002 I 9A110.a. Elementy lub struktury, każde z nich o masie przekraczającej 10 kg, specjalnie skonstruowane do rakiet nośnych i wytwarzane z "kompozytów" na "matrycy" metalowej, "kompozytów" organicznych, materiałów na "matrycy" ceramicznej lub wzmacnianych wiązaniami międzymetalicznymi, wymienionych w pozycji 1C007 lub 1C010.;Uwaga: Podany limit masy nie dotyczy stożków czołowych ochronnych rakiet.b. Elementy lub struktury specjalnie skonstruowane do systemów napędowych rakiet nośnych, wyspecyfikowanych w pozycjach 9A005 do 9A009, wytwarzane z "kompozytów" na "matrycy" metalowej, "kompozytów" organicznych, materiałów na "matrycy" ceramicznej lub wzmacnianych wiązaniami międzymetalicznymi, wymienionych w pozycji 1C007 lub 1C010.;c. Części struktur i systemy izolacyjne specjalnie skonstruowane w celu aktywnej kontroli odpowiedzi dynamicznej lub odkształceń struktur "statków kosmicznych";d. Pulsacyjne silniki rakietowe na paliwo ciekłe mające stosunek ciągu do masy równy lub większy niż 1 kN/kg i czas odpowiedzi (czas niezbędny do osiągnięcia 90 % całkowitego ciągu znamionowego od chwili rozruchu) mniejszy niż 30 ms.9A011Silniki strumieniowe, naddźwiękowe silniki strumieniowe lub silniki o cyklu kombinowanym oraz specjalnie do nich opracowane elementy.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 9A111 I 9A118.9A012Następujące "bezzałogowe statki powietrzne" ("UAV"), związane z nimi systemy, sprzęt i komponenty:a."UAV" mające dowolne z następujących cech:1. Autonomiczne sterowanie lotem i prowadzenie nawigacji (np. automatyczny pilot z systemem nawigacji bezwładnościowej); lub2. Możliwość sterowania lotem poza zasięgiem bezpośredniego widzenia z udziałem człowieka (np. telewizyjne zdalne sterowanie).b. Następujące związane z nimi systemy, sprzęt i elementy:1. Sprzęt przeznaczony specjalnie do zdalnego sterowania "UAV" wymienionych w pozycji 9A012.a.;2. Systemy naprowadzania i sterowania poza wymienionymi w pozycji 7A, przeznaczone specjalnie do instalacji w "UAV", wymienione w pozycji 9A012.a.;3. Sprzęt lub elementy przeznaczone specjalnie do przekształcania załogowego "statku powietrznego" w "UAV", wymienione w pozycji 9A012.a.9A101Następujące lekkie silniki turboodrzutowe i turbowentylatorowe (w tym silniki turbinowe), różne od wymienionych w pozycji 9A001:a. Silniki posiadające obie podane poniżej cechy charakterystyczne:1. Wartość ciągu maksymalnego powyżej 400 N (uzyskiwana przed zamontowaniem) z wyłączeniem silników certyfikowanych przez instytucje cywilne, posiadających maksymalną wartość ciągu powyżej 8890 N (uzyskiwaną przed zamontowaniem silnika); oraz2. Jednostkowe zużycie paliwa 0,15 kg/Nh lub mniejsze (na poziomie morza w warunkach statycznych i standardowych);b. Silniki przeznaczone do "pocisków rakietowych" albo zmodyfikowane w tym celu.9A104Rakiety meteorologiczne (sondujące) o zasięgu co najmniej 300 km.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A004.9A105Następujące silniki rakietowe na paliwo ciekłe:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119.a. Silniki rakietowe na paliwo ciekłe nadające się do "pocisków rakietowych", różne od wymienionych w pozycji 9A005 i posiadające impuls całkowity równy lub większy niż 1,1 MNs;b. Silniki rakietowe na paliwo ciekłe nadające się do kompletnych systemów rakietowych lub bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu co najmniej 300 km, różne od wymienionych w pozycji 9A005 lub 9A105.a. i posiadające impuls całkowity równy lub większy niż 0,841 MNs;9A106Następujące systemy lub podzespoły, różne od wymienionych w pozycji 9A006, nadające się do stosowania w "pociskach rakietowych", specjalnie przeznaczone do układów napędowych rakiet na paliwo ciekłe:a. Wykładziny ablacyjne (ciepłochronne) do komór ciągu lub spalania;b. Dysze wylotowe do rakiet;c. Podzespoły do sterowania wektorem ciągu;Uwaga techniczna:Do sposobów sterowania wektorem ciągu wymienionych w pozycji 9A106.c. należą np.:1.Dysza regulowana;2.Dodatkowy wtrysk cieczy lub gazu;3.Ruchoma komora silnika lub dysza wylotowa;4.Odchylanie strumienia gazów wylotowych za pomocą łopatek kierowanych (nastawnych) lub systemów wtryskiwaczy; albo5.Używanie klapek oporowych.d. Zespoły do sterowania przepływem płynnych i zawiesinowych paliw napędowych (w tym utleniaczy) oraz specjalnie przeznaczone do nich elementy, skonstruowane lub zmodyfikowane pod kątem eksploatacji w środowiskach, w których występują drgania o średniej wartości kwadratowej większej niżej 10 g i o częstotliwości od 20 Hz do 2 kHz.Uwaga: Jedynymi objętymi kontrolą w pozycji 9A106.d serwozaworami i pompami elektrohydraulicznymi są:a.serwozawory o objętościowym natężeniu przepływu równym lub większym niż 24 litrów na minutę przy ciśnieniu absolutnym równym lub większym niż 7 MPa i czasie reakcji roboczej poniżej 100 ms;b.pompy do paliw płynnych o prędkościach obrotowych na wale 8000 lub więcej obrotów na minutę lub o ciśnieniu wylotowym równym lub większym niż 7 MPa.9A107Silniki rakietowe na paliwo stałe nadające się do kompletnych systemów rakietowych lub bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu co najmniej 300 km, różne od wymienionych w pozycji 9A007 i posiadające impuls całkowity równy lub większy niż 0,841 MNs.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119.9A108Następujące podzespoły, różne od wymienionych w pozycji 9A008, nadające się do "pocisków rakietowych", specjalnie przeznaczone do układów napędowych do rakiet na paliwo stałe:a. Osłony do silników rakietowych, i ich komponenty służące do "izolacji";b. Dysze do silników rakietowych;c. Podzespoły do sterowania wektorem ciągu.Uwaga techniczna:Do sposobów sterowania wektorem ciągu wymienionych w pozycji 9A108.c należą np.:1.Dysza regulowana;2.Dodatkowy wtrysk cieczy lub gazu;3.Ruchoma komora silnika lub dysza wylotowa;4.Odchylanie strumienia gazów wylotowych za pomocą łopatek kierowanych (nastawnych) lub systemów wtryskiwaczy; albo5.Używanie klapek oporowych.9A109Hybrydowe silniki rakietowe, nadające się do "pocisków rakietowych", różne od wymienionych w pozycji 9A009, oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119.Uwaga techniczna:W pozycji 9A109 'pocisk rakietowy' oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km.9A110Materiały kompozytowe, laminaty i wyroby z nich, różne od wymienionych w pozycji 9A010, przeznaczone specjalnie do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104, lub podsystemów wymienionych w pozycjach 9A005, 9A007, 9A105.a., 9A106 do 9A108, 9A116 lub 9A119.NB.: VSPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 1A002.9A111Pulsacyjne silniki odrzutowe nadające się do "pocisków rakietowych" oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 9A011 I 9A118.9A115Następujące urządzenia i instalacje startowe, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104:a. Aparatura i urządzenia do manipulacji, sterowania, uruchamiania lub odpalania, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004, bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104;b. Pojazdy do transportu, manipulacji, sterowania, uruchamiania i odpalania, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004, bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104;9A116Następujące statki kosmiczne zdolne do lądowania na ziemi nadające się do "pocisków rakietowych" oraz przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do nich podzespoły:a. Statki kosmiczne zdolne do lądowania na ziemi;b. Osłony ciepłochronne i elementy do nich wykonane z materiałów ceramicznych lub ablacyjnych;c. Urządzenia pochłaniające ciepło i elementy do nich wykonane z lekkich materiałów o wysokiej pojemności cieplnej;d. Urządzenia elektroniczne specjalnie przeznaczone do statków kosmicznych zdolnych do lądowania na ziemi;9A117Mechanizmy do łączenia stopni, mechanizmy do rozłączania stopni oraz mechanizmy międzystopniowe, nadające się do wykorzystania w "pociskach rakietowych".9A118Urządzenia do regulacji spalania w silnikach, nadające się do "pocisków rakietowych" wymienionych w pozycjach 9A011 lub 9A111.9A119Pojedyncze stopnie do rakiet, nadające się do kompletnych systemów rakietowych lub bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu co najmniej 300 km, różne od wymienionych w pozycjach 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 i 9A109.9A120Zbiorniki na paliwo ciekłe, poza wymienionymi w pozycji 9A006, przeznaczone specjalnie na paliwa wymienione w pozycji 1C111 lub 'inne paliwa ciekłe', stosowane w systemach rakietowych o ładunku użytkowym co najmniej 500 kg i zasięgu co najmniej 300 km.Uwaga: W pozycji 9A120 'inne paliwa ciekłe' obejmują paliwa wymienione w Wykazie uzbrojenia, ale nie ograniczają się do nich.9A350Układy zraszania lub mgławienia, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w taki sposób, aby nadawały się do samolotów i "pojazdów lżejszych od powietrza" lub bezzałogowe statki powietrzne oraz specjalnie zaprojektowane ich komponenty, jak następuje:a. Kompletne układy zraszania lub mgławienia mogące zapewniać, z ciekłej zawiesiny, początkową kroplę o VMD poniżej 50 μm przy natężeniu przepływu powyżej dwóch litrów na minutę;b. Rury rozdzielcze z rozpylaczami lub układy jednostek generujących aerozol mogące zapewniać, z ciekłej zawiesiny, początkową kroplę o VMD poniżej 50 μm przy natężeniu przepływu powyżej dwóch litrów na minutę;c. Jednostki generujące aerozol specjalnie zaprojektowane w taki sposób, aby nadawały się do układów określonych w pozycji 9A350.a i b.Uwaga 1: Jednostki generujące aerozol są urządzeniami specjalnie zaprojektowanymi lub zmodyfikowanymi w taki sposób, aby nadawały się do samolotów, takimi jak: dysze, rozpylacze bębnowe obrotowe i podobne urządzenia.Uwaga 2: Pozycja 9A350 nie obejmuje kontrolą układów zraszania i mgławienia oraz komponenty, które wykazano, że nie nadają się do roznoszenia środków biologicznych w postaci zakaźnych aerozoli.Uwagi techniczne:1.Wielkość kropli w przypadku urządzeń zraszających lub dysz specjalnie zaprojektowanych do stosowania w samolotach, "pojazdach lżejszych od powietrza" lub bezzałogowych statkach powietrznych powinna być mierzona z zastosowaniem jednej z następujących metod:a.metoda lasera dopplerowskiego;b.metoda dyfrakcji laserowej.2.W pozycji 9A350 "VMD" oznacza Volume Median Diameter (objętościowa mediana średnicy), a dla układów wodnych jest równoznaczna z Mass Median Diameter (MMD)9BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne9B001Następujące specjalnie zaprojektowane urządzenia, oprzyrządowanie i osprzęt do produkcji wirujących i nieruchomych łopatek turbin lub bandaży do wirników:a. Urządzenia umożliwiające kierunkowe krzepnięcie lub wytwarzanie pojedynczych kryształów;b. Rdzenie lub powłoki ceramiczne;9B002Pracujące w trybie bezpośrednim (w czasie rzeczywistym) systemy sterowania, oprzyrządowanie (włącznie z czujnikami) lub automatyczne systemy do zbierania i przetwarzania danych, specjalnie przeznaczone do "rozwoju" silników turbogazowych, ich zespołów lub elementów z zastosowaniem "technologii" objętych kontrolą według pozycji 9E003.a.9B003Urządzenia specjalnie przeznaczone do "produkcji" lub testowania uszczelnień szczotkowych w turbinach gazowych wirujących z prędkościami obrotowymi odpowiadającymi prędkości liniowej wierzchołka łopatki powyżej 335 m/s i przy temperaturach przekraczających 773 K (500 °C) oraz specjalnie do nich przeznaczone części lub akcesoria;9B004Oprzyrządowanie, matryce lub uchwyty do zgrzewania dyfuzyjnego "nadstopu", tytanu lub międzymetalicznych połączeń profili łopatkowych z tarczą, opisanych w pozycjach 9E003.a.3 lub 9E003.a.6 dla turbin gazowych;9B005Pracujące w trybie bezpośrednim (w czasie rzeczywistym) systemy sterowania, oprzyrządowanie (włącznie z czujnikami) lub automatyczne systemy do zbierania i przetwarzania danych, specjalnie przeznaczone do stosowania w jednym z wymienionych poniżej tuneli lub urządzeń aerodynamicznych:NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9B105.a. Tunele aerodynamiczne do prędkości Ma=1,2 lub wyższych, z wyjątkiem tuneli przeznaczonych do celów edukacyjnych i mających 'wymiar przestrzeni pomiarowej' (mierzony w kierunku poprzecznym) o wielkości poniżej 250 mm;Uwaga techniczna:'Wymiar przestrzeni pomiarowej' w pozycji 9B005 oznacza średnicę okręgu lub bok kwadratu, albo najdłuższy bok prostokąta w najszerszym miejscu przestrzeni pomiarowej.b. Urządzenia symulujące warunki przepływu przy prędkościach powyżej Ma=5, włącznie z impulsowymi tunelami hiperdźwiękowymi, tunelami plazmowymi, rurami uderzeniowymi, tunelami gazowymi i rurami uderzeniowymi na gazy lekkie; lubc. Tunele lub urządzenia aerodynamiczne, różne od urządzeń z sekcjami dwuwymiarowymi, umożliwiające symulację przepływów, dla których wartość liczby Reynoldsa wynosi powyżej 25 × 106;9B006Sprzęt do badań akustycznych wibracji, w którym można wytwarzać ciśnienia akustyczne na poziomie 160 dB lub wyższe (odpowiadające 20 mikropaskalom) o mocy wyjściowej 4 kW lub większej przy temperaturze w komorze pomiarowej powyżej 1273 K (1000 °C) oraz specjalnie do niego przeznaczone grzejniki kwarcowe.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9B106.9B007Urządzenia specjalnie przeznaczone do kontroli stanu silników rakietowych metodami nieniszczącymi (NDT), z wyłączeniem urządzeń do dwuwymiarowych badań rentgenowskich i badań za pomocą podstawowych metod chemicznych lub fizycznych.9B008Przetworniki specjalnie przeznaczone do bezpośrednich pomiarów tarcia w warstwie przyściennej w badanym przepływie przy temperaturach spiętrzenia powyżej 833 K (560° C).9B009Oprzyrządowanie specjalnie przeznaczone do wytwarzania elementów wirników silników turbinowych z proszków metali, zdolnych do pracy przy poziomie naprężeń stanowiącym 60 % jednostkowej wytrzymałości na rozciąganie (UTS) lub wyższym i temperaturach metalu wynoszących 873 K (600° C) lub wyższych.9B010Sprzęt przeznaczony specjalnie do wytwarzania "UAV" oraz związanych z nimi systemów, sprzętu i komponentów wymienionych w pozycji 9A012.9B105Tunele aerodynamiczne do prędkości Ma= 0,9 lub wyższych, nadające się do "pocisków rakietowych" oraz ich podzespołów.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9B005.9B106Następujące komory klimatyczne i komory bezechowe:a. Komory klimatyczne umożliwiające symulowanie następujących warunków lotu:1. Wibracji ze średniej wartości kwadratowej (RMS) równej lub wyższej niż 10 g, mierzonej na 'nagim stole' w zakresie częstotliwości od 20 Hz do 2 kHz i generujących siły o wartościach równych lub wyższych niż 5 kN; oraz2. Warunków na wysokościach równych lub większych niż 15000 m; lub3. Temperatury w zakresie co najmniej 223 K (– 50° C) do 398 K (+125° C).Uwagi techniczne:1.Pozycja 9B106.a określa układy zdolne generować środowisko wibracyjne poprzez pojedynczą falę (np. falę sinusoidalną) oraz układy zdolne generować szerokopasmowe wibracje nieuporządkowane (tj. widmo mocy);2.W pozycji 9B106.a.1 'nagi stół' oznacza płaski stół lub powierzchnię bez osprzętu i wyposażenia.b. Komory bezechowe umożliwiające symulowanie następujących warunków lotu:1. Warunków akustycznych, w których całkowity poziom ciśnienia akustycznego wynosi 140 dB lub więcej (co odpowiada 20 mPa) lub o mocy wyjściowej 4 kW lub większej; oraz2. Warunków na wysokościach 15000 m lub większych; lub3. Temperatury w zakresie co najmniej 223 K (– 50 °C) do 398 K (+ 125 °C).9B115Specjalne "urządzenia produkcyjne" do systemów, podsystemów i podzespołów wymienionych w pozycjach 9A005 do 9A009, 9A011, 9A101, 9A105 do 9A109, 9A111, 9A116 do 9A119.9B116"Instalacje produkcyjne" specjalnie przeznaczone do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub systemów, podsystemów i elementów wymienionych w pozycjach 9A005 do 9A009, 9A011, 9A101, 9A104 do 9A109, 9A111 lub 9A116 do 9A119.9B117Stoiska do prób i stoiska badawcze do rakiet na paliwo stałe lub ciekłe lub do silników rakietowych, posiadające jedną z następujących cech charakterystycznych:a. Możliwość badania zespołów o ciągu powyżej 90 kN; lubb. Możliwość równoczesnego pomiaru składowych ciągu wzdłuż trzech osi.9CMateriały9C108Materiały do "izolacji" luzem i "wykładziny wewnętrzne", poza wymienionymi w pozycji 9A008, do osłon silników rakietowych możliwych do wykorzystania w 'pociskach rakietowych' lub specjalnie do nich przeznaczone.Uwaga techniczna:W pozycji 9C108 'pocisk rakietowy' oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km.9C110Maty z włókien, impregnowane żywicami, i materiały z włókien powlekanych metalem do tych mat, do produkcji struktur kompozytowych, laminatów i wyrobów wymienionych w poz. 9A110, wytwarzane zarówno na matrycach organicznych, jak i metalowych wykorzystujących wzmocnienia włóknami lub materiałami włókienkowymi, mające "wytrzymałość właściwą na rozciąganie" większą niż 7,62 × 104 m i "moduł właściwy" większy niż 3,18 × 106 m.NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 1C010 I 1C210.Uwaga: Jedynymi matami z włókien impregnowanych żywicami, których dotyczy pozycja 9C110, są te, w których zastosowano żywice o temperaturze zeszklenia (Tg) po utwardzeniu przekraczającej 418K (145 °C), jak określono w ASTM D4065 lub jej odpowiedniku.9DOprogramowanie9D001"Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane do "rozwoju" urządzeń lub "technologii" objętych kontrolą według pozycji 9A001 do 9A119, 9B lub 9E003;9D002"Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane do "produkcji" urządzeń objętych kontrolą według pozycji 9A001 do 9A119 lub 9B.9D003Następujące "oprogramowanie" specjalnie opracowane lub modyfikowane do "użytkowania"'całkowicie autonomicznych systemów cyfrowego sterowania silnikami'"FADEC" w systemach napędowych objętych kontrolą według pozycji 9A lub urządzeniach objętych kontrolą według pozycji 9B:a."Oprogramowanie" działające w cyfrowych układach sterowania układami napędowymi, urządzeniach badawczych w przestrzeni kosmicznej lub w urządzeniach do badania silników lotniczych potrzebujących powietrza do spalania;b.'Odporne na uszkodzenia'"oprogramowanie" stosowane w systemach FADEC do układów napędowych i związanych z nimi urządzeń badawczych.9D004Następujące inne "oprogramowanie":a."Oprogramowanie" uwzględniające składowe sił lepkości w dwóch lub trzech wymiarach, przeznaczone do tuneli aerodynamicznych lub badań w locie, niezbędne do szczegółowego modelowania przepływu w silnikach;b."Oprogramowanie" do badania turbogazowych silników lotniczych, zespołów lub elementów do nich, specjalnie przeznaczone do zbierania, redukcji i analizy danych w czasie rzeczywistym i zdolne do sterowania ze sprzężeniem zwrotnym, włącznie z dynamiczną regulacją elementów lub warunków badań w czasie trwania testów;c."Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do sterowania ukierunkowanym krzepnięciem lub wytwarzaniem pojedynczych kryształów;d."Oprogramowanie" w postaci "kodu źródłowego", "kodu wynikowego" lub kodu maszynowego, niezbędne do "użytkowania" systemów aktywnej kompensacji do regulacji luzu wierzchołkowego łopatek wirnikowych.Uwaga: Pozycja 9D004.d nie obejmuje kontrolą "oprogramowania" wchodzącego w skład nieobjętych kontrolą urządzeń lub niezbędnego do czynności technicznych związanych z wzorcowaniem lub naprawą albo aktualizacją aktywnie kompensowanych systemów regulacji luzu wierzchołkowego łopatek.e."Oprogramowanie" przeznaczone specjalnie lub zmodyfikowane na potrzeby "użytkowania""UAV" i związanych z nimi systemów, sprzętu i komponentów wymienionych w pozycji 9A012.9D101"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "użytkowania" wyrobów wymienionych w pozycjach 9B105, 9B106, 9B116 lub 9B117.9D103"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do modelowania, symulowania lub integrowania konstrukcyjnego kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104, lub podsystemów wymienionych w pozycjach 9A005, 9A007, 9A105.a., 9A106, 9A108, 9A116 lub 9A119.Uwaga:"Oprogramowanie" wymienione w pozycji 9D103 podlega kontroli również w przypadku stosowania go do specjalnego osprzętu wymienionego w pozycji 4A102.9D104"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" towarów wyspecyfikowanych w pozycjach 9A001, 9A005, 9A006.d., 9A006.g., 9A007.a., 9A008.d., 9A009.a., 9A010.d., 9A011, 9A101, 9A105, 9A106.c., 9A106.d., 9A107, 9A108.c., 9A109, 9A111, 9A115.a., 9A116.d., 9A117 lub 9A118.9D105"Oprogramowanie", które koordynuje funkcje więcej niż jednego podsystemu, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" w pojazdach kosmicznych określonych w pozycji 9A004 lub rakietach meteorologicznych określonych w 9A104.9ETechnologiaUwaga:"Technologie" do "rozwoju" lub "produkcji" wymienione w pozycji 9E001 do 9E003 dotyczące silników turbogazowych podlegają kontroli, również w przypadku kiedy są stosowane jako technologie "użytkowania" do napraw, przebudowy i remontów. Kontroli nie podlegają: dane techniczne, rysunki lub dokumentacja do czynności związanych z obsługą techniczną bezpośrednio dotyczącą wzorcowania, usuwania lub wymiany uszkodzonych lub niezdatnych do użytku elementów wymiennych, włącznie z całymi silnikami lub modułami silnikowymi.9E001"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" urządzeń lub "oprogramowania" objętego kontrolą według pozycji 9A001.c, 9A004 do 9A012, 9A350, 9B lub 9D.9E002"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "produkcji" urządzeń wymienionych w pozycjach 9A001.c, 9A004 do 9A011, 9A350 lub 9B.Uwaga: Dla potrzeb kontroli technologii napraw konstrukcji, laminatów lub materiałów sprawdź pozycję 1E002.f.9E003Następujące inne "technologie":a."Technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji" dowolnego z następujących elementów i zespołów do silników turbogazowych:1. Łopatek wirujących do turbin gazowych, łopatek nieruchomych lub bandaży wytwarzanych techniką ukierunkowanego krzepnięcia (DS) lub ze stopów monokrystalicznych (SC) mających (w kierunku 001 wskaźników Millera) czas życia do zerwania przy pełzaniu przekraczający 400 godzin przy 1273 K (1000 °C) i naprężeniu 200 MPa, oparty na średnich wartościach właściwości fizycznych;2. Komór spalania pracujących w średnich temperaturach na wylocie z palników powyżej 1813 K (1540 °C), albo komór spalania zaopatrzonych w izolowane termicznie wkładki do spalania, wkładki z niemetali lub niemetaliczne powłoki;3. Elementów wytwarzanych z następujących materiałów:a. organicznych materiałów "kompozytowych", przeznaczonych do pracy w temperaturach powyżej 588 K (315 °C);b. materiałów "kompozytowych" na "matrycy" metalowej, materiałów na "matrycy" ceramicznej, materiałów międzymetalicznych lub materiałów ze wzmocnieniami międzymetalicznymi, objętych kontrolą według pozycji 1C007; lubc. materiałów "kompozytowych" wyspecyfikowanych w pozycji 1C010 i wytwarzanych z użyciem żywic wyszczególnionych w 1C008.4. Niechłodzonych łopatek turbinowych, łopatek kierowniczych, bandaży lub innych elementów przeznaczonych do pracy w strumieniu gazu o temperaturach 1323 K (1050 °C) lub wyższych;5. Chłodzonych łopatek turbinowych, łopatek kierowniczych lub bandaży, innych niż wymienione w pozycjach 9E003.a.1, pracujących w strumieniu gazu o temperaturach 1643 K (1370 °C) lub wyższych;6. Połączeń profili łopatkowych z tarczą techniką zgrzewania dyfuzyjnego;7. Elementów silników turbogazowych wytwarzanych techniką "zgrzewania dyfuzyjnego" objętą kontrolą według pozycji 2E003.b.;8. Wytrzymałych na uszkodzenia wirujących elementów silników turbogazowych, wytwarzanych techniką metalurgii proszkowej objętą kontrolą według pozycji 1C002.b;9."FADEC" przeznaczonych do silników turbogazowych lub silników o kombinowanym cyklu roboczym oraz do ich odpowiednich elementów diagnostycznych, czujników i specjalnie skonstruowanych elementów;10. Kanałów przepływowych o zmiennej geometrii i odpowiednich układów sterowania do:a. Turbin do wytwornic gazów;b. Turbin do napędu wentylatorów lub energetycznych;c. Dysz napędowych;Uwaga 1: Do kanałów przepływowych o zmiennej geometrii oraz odpowiednich układów do sterowania nimi, wymienionych w pozycji 9E003.a.10, nie zalicza się wlotowych łopatek kierowniczych, wentylatorów o zmiennym skoku, zmiennych stójek ani zaworów upustowych w sprężarkach.Uwaga 2: Pozycja 9E003.a.10 nie obejmuje kontrolą technologii do "rozwoju" lub "produkcji" kanałów o zmiennej geometrii opracowanych do odwracaczy ciągu.11. Drążonych (pustych w środku) łopatek wentylatorowych;b."Technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji":1. Modeli lotniczych do tuneli aerodynamicznych wyposażonych w czujniki nieinwazyjne zdolne do przenoszenia danych z czujników do systemu gromadzenia i przetwarzania danych; lub2. Wykonanych z materiałów "kompozytowych" łopat śmigieł lub śmigłowentylatorów zdolnych do rozwijania mocy 2000 kW przy prędkościach lotu powyżej Mach 0,55;c."Technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji" elementów silników turbogazowych, w których zastosowano techniki wiercenia za pomocą "laserów", dysz wodnych lub technik elektromechanicznych albo elektroiskrowych (ECM/EDM) otworów o jednym z poniższych zespołów parametrów:1. Wszystkie z poniższych:a. Głębokości czterokrotnie większe od średnicy;b. średnice mniejsze od 0,76 mm; orazc. Kąty osi otworu równe lub mniejsze niż 25 °; lub2. Wszystkie z poniższych:a. Głębokości pięciokrotnie większe od średnicy;b. średnice mniejsze od 0,4 mm; orazc. Kąty osi otworu powyżej 25 °;Uwaga techniczna:Dla celów pozycji 9E003.c kąt osi otworu mierzy się od płaszczyzny stycznej do powierzchni profilu w punkcie, w którym oś otworu przebija powierzchnię profilu.d."Technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji" układów przenoszenia napędu w śmigłowcach lub układów przenoszenia napędu w "statkach powietrznych" z odchylanymi wirnikami lub skrzydłami;e."Technologie" do "rozwoju" lub "produkcji" systemów napędowych pojazdów naziemnych napędzanych wysokoprężnymi silnikami tłokowymi o następujących parametrach:1.'Objętość komory silnikowej' 1,2 m3 lub mniejsza;2. Całkowita moc użyteczna powyżej 750 kW, określana według normy 80/1269/EEC, ISO 2534 lub ich krajowych odpowiedników; oraz3. Gęstość mocy powyżej 700 kW/m3'pojemności komory silnikowej';Uwaga techniczna:Pojemność komory silnikowej w pozycji 9E003.e oznacza iloczyn trzech prostopadłych do siebie wymiarów mierzonych w następujący sposób:Długość | : | Długość wału korbowego od kołnierza przedniego do czoła koła zamachowego; |Szerokość | : | Największy z następujących wymiarów: a.Odległość zewnętrzna od pokrywy zaworów do pokrywy zaworów; b.Wymiary zewnętrznych krawędzi głowic cylindrów; lub c.Średnica obudowy koła zamachowego; |Wysokość | : | Największy z następujących wymiarów: a.Odległość osi wału korbowego od górnej płaszczyzny pokrywy zaworów (lub głowicy cylindrów) plus podwójny skok; lub b.Średnica obudowy koła zamachowego. |f."Technologie""niezbędne" do "produkcji" następujących specjalnych elementów przeznaczonych do wysokociśnieniowych silników wysokoprężnych:1."Technologie""niezbędne" do "produkcji" instalacji silnikowych wyposażonych we wszystkie następujące elementy wykonane z materiałów ceramicznych objętych kontrolą według pozycji 1C007:a. Wkładki do cylindrów;b. Tłoki;c. Głowice cylindrów; orazd. Jeden albo więcej innych elementów (włącznie ze szczelinami wylotowymi, turbodoładowarkami, prowadnicami zaworów, zespołami zaworów lub izolowanymi wtryskiwaczami paliwa);2."Technologie""niezbędne" do "produkcji" układów do turbodoładowania, wyposażonych w sprężarki jednostopniowe, mające wszystkie następujące cechy charakterystyczne:a. Sprężanie (stopień sprężania) 4:1 lub wyższy;b. Wydatek (masowe natężenie przepływu) w zakresie od 30 do 130 kg na minutę; orazc. Możliwość zmiany pola przepływu w zespole sprężarki lub turbiny;3."Technologie""niezbędne" do "produkcji" instalacji wtryskowych paliwa ze specjalnymi układami wielopaliwowymi (np. wysokoprężnymi lub iskrowymi) w zakresie lepkości od paliw do silników wysokoprężnych (2,5 cSt w temperaturze 310,8 K (37,8 °C)) do paliw benzynowych (0,5 cSt w temperaturze 310,8 K (37,8 °C)), i posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:a. Objętość wtrysku powyżej 230 mm3 na wtrysk na cylinder; orazb. Specjalnie skonstruowane elektroniczne zespoły sterujące, przeznaczone do automatycznego przełączania, za pomocą odpowiednich czujników, charakterystyk regulacyjnych w zależności od właściwości paliwa w celu utrzymania tej samej charakterystyki momentu obrotowego;g."Technologie""niezbędne" do "rozwoju" lub "produkcji" wysokociśnieniowych silników wysokoprężnych ze smarowaniem cylindrów za pomocą smarów stałych, z fazy gazowej lub filmu cieczowego (lub metodą kombinowaną), umożliwiającym pracę silnika do temperatur powyżej 723 K (450 °C), mierzonych na ściance cylindra w górnym położeniu górnego pierścienia tłokowego.Uwaga techniczna:Wysokociśnieniowe silniki wysokoprężne: Silniki wysokoprężne (Diesla) o średnim ciśnieniu użytecznym 1,8 MPa lub wyższym przy prędkościach obrotowych 2300 obrotów na minutę, pod warunkiem że ich prędkość nominalna wynosi 2300 obrotów na minutę lub więcej.9E101"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" wyrobów wymienionych w pozycjach 9A101, 9A104 do 9A111 lub 9A115 do 9A119.9E102"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub wyrobów wymienionych w pozycjach 9A005 do 9A011, 9A101, 9A104 do 9A111, 9A115 do 9A119, 9B105, 9B106, 9B115, 9B116, 9B117, 9D101 lub 9D103. 394/2006 Art. 1 i załącznikZAŁĄCZNIK IIGENERALNE WSPÓLNOTOWE ZEZWOLENIE NA EKSPORT NR EU001( o którym mowa w odnoszący się do art. 6 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000)Organ wydający: Wspólnota Europejskaò nowyWszelki powrotny wywóz odbywający się na warunkach niezgodnych z ustalonymi w niniejszym zezwoleniu wymaga wyraźnej zgody właściwych organów krajowych państwa, w którym znajduje się siedziba eksportera. 394/2006 Art. 1 i załącznikCzęść 1Niniejsze zezwolenie na eksport obejmuje następujące towary:Wszystkie towary podwójnego zastosowania określone w którejkolwiek pozycji załącznika dowolnymi pozycjami w załączniku I do niniejszego rozporządzenia, z wyjątkiem wymienionych w części 2 poniżej.Część 2— | Wszystkie towary określone w załączniku V IV. |— | 0C001 | „Uran naturalny” lub „uran zubożony” lub tor w formie metalu, stopu, związku chemicznego lub koncentratu i dowolnego innego materiału zawierającego jeden lub więcej z powyższych materiałów. |— | 0C002 | „Specjalne materiały rozszczepialne”, inne niż określone w załączniku V IV. |— | 0D001 | „Oprogramowanie” specjalnie opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów określonych w kategorii 0 w zakresie, w jakim odnosi się do produktów z pozycji 0C001 lub do produktów określonych w pozycji 0C002, które są wyłączone z załącznika V IV. |— | 0E001 | „Technologia”, według uwagi do technologii jądrowej, do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów wyszczególnionych w kategorii 0 w zakresie, w jakim odnosi się do produktów z pozycji 0C001 lub do produktów określonych w pozycji 0C002, które są wyłączone z załącznika V IV. |— | 1A102 | Elementy z przesyconego pirolizowanego materiału typu węgiel-węgiel przeznaczone do kosmicznych pojazdów nośnych określonych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych określonych w pozycji 9A104. |— | 1C351 | Ludzkie czynniki chorobotwórcze, choroby przenoszone przez zwierzęta oraz „toksyny”. |— | 1C352 | Zwierzęce czynniki chorobotwórcze. |— | 1C353 | Elementy genetyczne i organizmy zmodyfikowane genetycznie. |— | 1C354 | Szczepy chorobotwórcze. |— | 7E104 | „Technologia” scalania danych z systemów sterowania lotem, naprowadzania i napędu w system zarządzania lotem w celu optymalizacji toru lotu rakiet. |— | 9A009.a. | Hybrydowe systemy napędowe rakiet o impulsie całkowitym powyżej 1,1 MNs. |— | 9A117 | Mechanizmy do łączenia stopni, mechanizmy do rozłączania stopni oraz mechanizmy międzystopniowe, nadające się do wykorzystania w „pociskach rakietowych”. |Część 3Niniejsze zezwolenie na eksport obowiązuje w całej Wspólnocie w przypadku eksportu do następujących miejsc przeznaczenia:AustraliaKanadaJaponiaNowa ZelandiaNorwegiaSzwajcariaStany Zjednoczone AmerykiUwaga: Części 2 i 3 mogą zostać zmienione tylko zgodnie z odpowiednimi obowiązkami i zobowiązaniami, które każde z państw członkowskich przyjęło jako członek międzynarodowych systemów nierozprzestrzeniana i mechanizmów kontroli eksportu oraz zgodnie z interesem bezpieczeństwa publicznego każdego z państw członkowskich, znajdującym odzwierciedlenie w odpowiedzialności za podejmowanie decyzji w sprawie wniosków o zezwolenia na eksport towarów podwójnego zastosowania na podstawie art. 6 ust. 2 niniejszego rozporządzenia.Warunki i wymagania w odniesieniu do stosowania niniejszego zezwolenia1. Niniejsze zezwolenie generalne nie może być stosowane, jeżeli eksporter został powiadomiony przez właściwe władze państwa członkowskiego, w którym ma swoją siedzibę, że dane produkty są wykorzystywane, lub ich wykorzystanie może być przeznaczone, w całości lub w części, do celów związanych z rozwojem, produkcją, obsługą, eksploatacją, konserwacją, przechowywaniem, wykrywaniem, identyfikacją lub upowszechnianiem broni chemicznej, biologicznej lub jądrowej, albo innych wybuchowych urządzeń jądrowych, albo rozwojem, produkcją konserwacją, przechowywaniem „pocisków rakietowych” zdolnych do przenoszenia takich broni lub, jeśli eksporter jest świadomy, że dane produkty są przeznaczone do takiego wykorzystania.2. Niniejsze zezwolenie generalne nie może być stosowane, jeżeli eksporter został powiadomiony przez właściwe władze państwa członkowskiego, w którym ma swoją siedzibę, że dane produkty są wykorzystywane, lub ich wykorzystanie może być przeznaczone do końcowego użycia wojskowego, określonego w art. 4 ust. 2 rozporządzenia, w państwie objętym embargiem UE, OBWE lub ONZ na broń lub, jeśli eksporter jest świadomy, że produkty te przeznaczone są do takiego użycia.3. Niniejsze zezwolenie generalne nie może być stosowane, jeśli odpowiednie produkty wywożone są do stref wolnocłowych lub składów wolnocłowych, które znajdują się w miejscu przeznaczenia objętym niniejszym zezwoleniem.4. Wymagania dotyczące rejestracji i sprawozdawczości związane ze stosowaniem niniejszego zezwolenia generalnego oraz dodatkowe informacje, jakich może wymagać państwo członkowskie, z którego odbywa się eksport, w odniesieniu do produktów eksportowanych na podstawie niniejszego zezwolenia, są określane przez państwa członkowskie. Wymagania te muszą być oparte na wymaganiach określonych dla stosowania generalnych zezwoleń na eksport, przyznawanych przez te państwa członkowskie, które przewidują stosowanie takich zezwoleń. 394/2006 Art. 1 i załącznikð nowyZAŁĄCZNIK III a(wzór formularza ð indywidualnych lub globalnych zezwoleń na eksport, w tym na eksport niematerialny, oraz na świadczenie usług pośrednictwa ï )(o którym mowa określony w art. 10 ust. 1)ò nowyUdzielając zezwoleń na eksport, państwa członkowskie powinny dokładać starań w celu wyraźnego zaznaczania na formularzu rodzaju wydawanego zezwolenia (indywidualne lub globalne)Niniejszy dokument stanowi zezwolenie na eksport ważne we wszystkich państwach członkowskich Unii Europejskiej do daty jego wygaśnięcia. 394/2006 Art. 1 i załącznikð nowyWSPÓLNOTA EUROPEJSKA | EKSPORT PRODUKTÓW PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIA ð , W TYM EKSPORT NIEMATERIALNY ORAZ śWIADCZENIE USłUG POśREDNICTWA ï (rozporządzenie (WE) nr …) |1 | 1 Eksporter | Nr | 3. Data ważności (jeśli ma zastosowanie) |KONCESJA | 4. Szczegóły dotyczące punktu kontaktowego |5 Odbiorca ðjeśli ma zastosowanie w przypadku transferów informatycznych ï | 6. Organ wydający zezwolenie |7 Agent / przedstawiciel (jeśli inny niż eksporter) | Nr |8. Kraj pochodzenia | Kod [20] |9 Kraj wysyłki towaru | Kod1 |10. Użytkownik końcowy (jeżeli inny niż odbiorca) | 11. Państwo członkowskie obecnego lub przyszłego umiejscowienia towarów produktów ð (jeśli ma zastosowanie w przypadku niematerialnych transferów technologii oraz w przypadku świadczenia usług pośrednictwa) ï | Kod1 |12. Państwo członkowskie planowanego objęcia produktów towaru wywozowymi procedurami celnymi ð (jeśli ma zastosowanie w przypadku niematerialnych transferów technologii oraz w przypadku świadczenia usług pośrednictwa) ï | Kod1 |1 | 13. Kraj końcowego przeznaczenia | Kod1 |14. Opis produktów[21] | 15. Kod towaru ð Systemu Zharmonizowanego lub Nomenklatury Scalonej ï (jeśli ma zastosowanie ð ; kod 8-cyfrowy; nr CAS, jeśli ma zastosowanie ï ) | 16. Nr kontrolny Nr wykazu kontrolnego ð (dla produktów ujętych w wykazie) ï |17. Waluta i wartość ð (jeśli ma zastosowanie w przypadku niematerialnych transferów technologii oraz świadczenia ï usług pośrednictwa) | 18. Ilość produktów ð jeśli ma zastosowanie w przypadku transferów informatycznych ï |19. Zastosowanie końcowe Przeznaczenie towaru | 20. Data zawarcia umowy (jeśli ma zastosowanie) | 21. Celna procedura wywozu ð (jeśli ma zastosowanie w przypadku niematerialnych transferów technologii oraz świadczenia usług pośrednictwa) ï |22. Dodatkowe informacje wymagane przez ustawodawstwo krajowe (do określenia w formularzu) |Dostępne w odniesieniu do informacji wydrukowanej uprzednio Według uznania państwa członkowskiego |Wypełnia organ wydający Podpis Organ wydający | Pieczęć |Data |WSPÓLNOTA EUROPEJSKA | EKSPORT PRODUKTÓW PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIA ð , W TYM EKSPORT NIEMATERIALNY ORAZ śWIADCZENIE USłUG POśREDNICTWA ï (rozporządzenie (WE) nr …) |1 Bis | 1. Eksporter | 2 . Numer identyfikacyjny |KONCESJA |14. Opis produktów | 15. Kod towaru ð (jeśli ma zastosowanie; kod 8-cyfrowy; nr CAS, jeśli ma zastosowanie) ï | 16. Nr kontrolny Nr wykazu kontrolnego ð (dla produktów ujętych w wykazie) ï |17. Waluta i wartość ð (jeśli ma zastosowanie w przypadku niematerialnych transferów technologii oraz świadczenia ï usług pośrednictwa) | 18. Ilość produktów ðjeśli ma zastosowanie w przypadku transferów informatycznych ï |14. Opis produktów | 15. Kod towaru ð (jeśli ma zastosowanie; kod 8-cyfrowy; nr CAS, jeśli ma zastosowanie) ï | 16. Nr kontrolny Nr wykazu kontrolnego ð (dla produktów ujętych w wykazie) ï |17. Waluta i wartość ð (jeśli ma zastosowanie w przypadku niematerialnych transferów technologii oraz świadczenia usług pośrednictwa) ï | 18. Ilość produktów ðjeśli ma zastosowanie w przypadku transferów informatycznych ï |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |14. Opis produktów | 15. Kod towaru | 16. Numer kontrolny Nr wykazu kontrolnego |17. Waluta i wartość | 18. Ilość produktów |Uwaga: W części 1 kolumny 24 wpisać ilość nadal dostępną, a w części 2 kolumny 24 wpisać ilość, o jaką pomniejszył się zasób. |23. Ilość / wartość netto (Masa netto / inna jednostka ze wskazaniem jednostki) | 26. Dokument celny (Rodzaj i numer) lub wyciąg (Nr) i data pomniejszenia zasobu | 27. Państwo członkowskie, nazwisko i podpis, pieczęć potwierdzająca pomniejszenie zasobu |24. W ujęciu liczbowym | 25. Ilość / wartość pomniejszenia zasobu słownie |1 |2 |1 |2 |1 |2 |1 |2 |1 |2 |1 |2 |1 |2 |1 |2 | 394/2006 Art. 1 i załącznik (dostosowany)Załącznik III bIVWSPÓLNE ELEMENTY DOTYCZĄCE PUBLIKACJI WYDAWANIA √ KRAJOWYCH  GENERALNYCH ZEZWOLEŃ NA EKSPORT √ W KRAJOWYCH DZIENNIKACH URZĘDOWYCH ( o których mowa określone w art. 10 ust. 3 √ i w art. 6 ust. 3  )ò nowyWszelki powrotny wywóz odbywający się na warunkach niezgodnych z ustalonymi w niniejszym zezwoleniu wymaga wyraźnej zgody właściwych organów krajowych państwa, w którym znajduje się siedziba eksportera. 394/2006 Art. 1 i załącznik (dostosowany)1. Tytuł generalnego zezwolenia na eksport2. Organ Władze wydającye zezwolenie3. Moc obowiązująca w WE. Wykorzystuje się następujący tekst:«„Jest to generalne zezwolenie na eksport na podstawie warunków art. 6 ust. 2 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 √ […]  . Niniejsze zezwolenie, zgodnie z art. 6 ust. 2 √ i art. 6 ust. 3  tego rozporządzenia, obowiązuje we wszystkich państwach członkowskich Wspólnoty √ Unii  Europejskiej”.»ò nowyMoc obowiązująca w danym kraju: należy określić okres ważności zezwolenia. 394/2006 Art. 1 i załącznikð nowy4. Produkty, których dotyczy zezwolenie: wykorzystuje się następujący tekst wprowadzający:«„Niniejsze zezwolenie na eksport obejmuje następujące towary”»5. Miejsca przeznaczenia, których dotyczy zezwolenie: wykorzystuje się następujący tekst wprowadzający:«„Niniejsze zezwolenie jest ważne w odniesieniu do eksportu do następujących miejsc przeznaczenia”»6. Warunki i wymagania ð : eksporterzy mają obowiązek zarejestrować wykorzystanie lub zamiar wykorzystania krajowego generalnego zezwolenia we właściwych organach krajowych państwa członkowskiego, w którym mają siedzibę, najpóźniej 30 dni po pierwszej wysyłce. ï 394/2006 Art. 1 i załącznik (dostosowany)ZAŁĄCZNIK V IV(Wykaz , o którym mowa określony w art. 25 21 ust. 1 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 √ […]  )Pozycje nie zawsze zawierają pełny opis towaru i związane z nim uwagi z załącznika I[22]. Tylko załącznik I zapewnia pełny opis towarów.Wymienienie towaru w niniejszym załączniku nie wpływa na stosowanie przepisów dotyczących produktów rynków masowych określonych w załączniku I.Część I(możliwość stosowania Krajowego Zezwolenia Generalnego na handel wewnątrzwspólnotowy)Produkty technologii zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych („stealth”)1C001 | Materiały specjalnie opracowane do wykorzystania jako pochłaniacze fal elektromagnetycznych, albo polimery przewodzące samoistnie. UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 1C101. |1C101 | Materiały i urządzenia do obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w nadfiolecie i podczerwieni oraz śladów akustycznych, inne niż określone w pozycji 1C001, możliwe do zastosowania w 'pociskach rakietowych', podsystemach „pocisków rakietowych” lub bezzałogowych statkach powietrznych określonych w pozycji 9A012. |1D103 | „Oprogramowanie” specjalnie opracowane do badania obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w zakresie promieniowania nadfioletowego/podczerwonego i śladów akustycznych. |1E101 | „Technologia” stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycjach 1C101 lub 1D103. |1E102 | „Technologia”, stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” „oprogramowania” określonego w pozycji 1D103. |6B008 | Systemy do impulsowych pomiarów radarowego przekroju czynnego o szerokościach impulsu przesyłowego 100 ns lub mniejszych oraz specjalnie dla nich przeznaczone elementy. UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 6B108. |6B108 | Systemy specjalnie przeznaczone do pomiarów radarowego przekroju czynnego, znajdujące zastosowanie w „pociskach rakietowych” i innych podzespołach. |Produkty objęte wspólnotową kontrolą strategiczną1C239 | Kruszące materiały wybuchowe, różne od wyszczególnionych w uregulowaniach dotyczących towarów wojskowych, substancje lub mieszaniny zawierające wagowo więcej niż 2 % tych materiałów, o gęstości krystalicznej większej niż 1,8 g/cm3 i prędkości detonacji powyżej 8000 m/s. |1E201 | „Technologia” stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycji 1C239. |3A229 | Instalacje zapłonowe i równoważne generatory impulsów wysokoprądowych ... UWAGA: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA. |3A232 | Detonatory i wielopunktowe instalacje inicjujące … UWAGA: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA. |3E201 | „Technologia” stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” urządzeń określonych w pozycjach 3A229 lub 3A232. |6A001 | Urządzenia akustyczne ograniczone do następujących: |6A001.a.1.b. | Systemy do wykrywania lub lokalizacji obiektów posiadające jedną z wymienionych właściwości: 1. Częstotliwość nośna poniżej 5 kHz; 6. Skonstruowane tak, aby wytrzymać ... . |6A001.a.2.a.2. | Hydrofony ... złożone ... |6A001.a.2.a.3. | Hydrofony ... wyposażone w jeden z ... |6A001.a.2.a.6. | Hydrofony ... przeznaczone do ... |6A001.a.2.b. | Holowane zestawy matrycowe hydrofonów akustycznych ... |6A001.a.2.c. | Urządzenia przetwarzające, specjalnie opracowane do zastosowania w czasie rzeczywistym z holowanymi zestawami matrycowymi hydrofonów akustycznych posiadające „możliwość dostępu użytkownika do oprogramowania” oraz możliwość przetwarzania i korelacji w funkcji czasu lub częstotliwości, włącznie z analizą spektralną, filtrowaniem cyfrowym i kształtowaniem wiązki za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub innych transformat lub procesów. |6A001.a.2.e. | Denne lub przybrzeżne układy kablowe posiadające jakąkolwiek z poniższych właściwości: 1. Zawierające hydrofony ... lub 2. Zawierające moduły multiplesowanych sygnałów grup hydrofonów ... . |6A001.a.2.f. | Urządzenia przetwarzające, specjalnie opracowane do stosowania w czasie rzeczywistym z dennymi lub przybrzeżnymi systemami kablowymi, posiadające„programowalność dostępną dla użytkownika” oraz przetwarzanie i korelację w dziedzinie czasu lub częstotliwości, w tym analizę widmową oraz cyfrowe kształtowanie wiązki za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub innych przekształceń lub procesów. |6D003.a. | „Oprogramowanie” do „przetwarzania w czasie rzeczywistym” danych akustycznych. |8A002.o.3. | Następujące układy do tłumienia szumów, przeznaczone dla jednostek pływających o wyporności 1000 t lub wyższej: b) aktywne układy tłumienia lub eliminacji szumów albo łożyska magnetyczne, specjalnie opracowane do układów przenoszenia napędu, wyposażone w elektroniczne układy sterowania umożliwiające aktywne zmniejszanie wibracji urządzeń przez bezpośrednie generowanie do źródła dźwięków sygnałów tłumiących dźwięki i wibracje. |8E002.a. | „Technologie” do „rozwoju”, „produkcji”, napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej obróbki skrawaniem) śrub, specjalnie skonstruowanych w celu tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów. |Produkty wspólnotowego sterowania strategicznego – Kryptografia – Kategoria 5 część 25A002.a.2. | Urządzenia zaprojektowane lub zmodyfikowane dla realizacji funkcji analizy kryptoanalitycznych. |5D002.c.1 | Wyłącznie oprogramowanie posiadające właściwości, albo realizujące lub symulujące funkcje urządzeń określonych w pozycji 5A002.a.2. |5E002 | Wyłącznie „technologie” do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów określonych w pozycji 5A002.a.2 lub 5D002.c.1 powyżej. |Produkty technologii MTCR7A117 | „Instalacje do naprowadzania”, znajdujące zastosowanie w „pociskach rakietowych”, umożliwiające uzyskanie dokładności instalacji 3,33 % zasięgu lub lepszej (np. „CEP” – krąg równego prawdopodobieństwa 10 km lub mniej w zasięgu 300 km) z wyjątkiem „instalacji do naprowadzania” opracowanych do pocisków rakietowych o zasięgu poniżej 300 km lub samolotów załogowych. |7B001 | Urządzenia do testowania, wzorcowania lub strojenia, specjalnie opracowane do urządzeń określonych w pozycji 7A117 powyżej. Uwaga: Pozycja 7B001 nie obejmuje kontrolą urządzeń do testowania, wzorcowania lub strojenia specjalnie przeznaczonych do I i II Poziomu Obsługi. |7B003 | Urządzenia specjalnie opracowane do „produkcji” urządzeń określonych w pozycji 7A117 powyżej. |7B103 | Specjalnie opracowane „instalacje produkcyjne” do urządzeń określonych w pozycji 7A117 powyżej. |7D101 | „Oprogramowanie” specjalnie opracowane do „użytkowania” urządzeń określonych w pozycjach 7B003 lub 7B103 powyżej. |7E001 | „Technologie” według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” urządzeń lub „oprogramowania” określonych w pozycjach 7A117, 7B003, 7B103 lub 7D101 powyżej. |7E002 | „Technologie” według uwagi ogólnej do technologii do „produkcji” urządzeń określonych w pozycjach 7A117, 7B003 i 7B103 powyżej. |7E101 | „Technologie” według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” urządzeń określonych w pozycjach 7A117, 7B003, 7B103 i 7D101 oprogramowania powyżej. |9A004 | Kosmiczne pojazdy nośne zdolne do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego na odległość co najmniej 300 km. NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A104. Uwaga 1: Pozycja 9A004 nie obejmuje kontrolą ładunku użytecznego. |9A005 | Rakietowe systemy napędowe na paliwo ciekłe zawierające jeden z systemów lub elementów określonych w pozycji 9A006, możliwe do wykorzystania w kosmicznych pojazdach nośnych określonych w pozycji 9A004 powyżej, lub rakietach meteorologicznych określonych w pozycji 9A104 poniżej. NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 9A105 I 9A119. |9A007.a. | Systemy napędowe rakiet na paliwo stałe, możliwe do wykorzystania w kosmicznych pojazdach nośnych określonych w pozycji 9A004 powyżej, lub rakietach meteorologicznych określonych w pozycji 9A104 powyżej, posiadające jakąkolwiek z następujących właściwości: NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119. a. Impuls całkowity powyżej 1,1 MNs; |9A008.d. | Następujące elementy opracowane do rakietowych układów napędowych na paliwo stałe: NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9A108.c. d. Dysze ruchome lub systemy sterowania wektorem ciągu za pomocą pomocniczego wtrysku płynów, możliwe do wykorzystania w kosmicznych pojazdach nośnych określonych w pozycji 9A004 powyżej, lub rakietach meteorologicznych określonych w pozycji 9A104 poniżej, o jednym z następujących parametrów: 1. Ruch okrężny z odchyleniem kątowym powyżej ± 5 °; 2. Kątowy obrót wektora ciągu rzędu 20 °/s lub więcej; lub 3. Przyspieszenia kątowe wektora ciągu rzędu 40 °/s2 lub większe. |9A104 | Rakiety meteorologiczne, zdolne do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego na odległość co najmniej 300 km. NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A004. |9A105.a. | Następujące silniki rakietowe na paliwo ciekłe: NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119. a. Silniki rakietowe na paliwo ciekłe nadające się do „pocisków rakietowych”, różne od wymienionych w pozycji 9A005 i posiadające impuls całkowity równy lub większy niż 1,1 MNs; z wyjątkiem silników na paliwo płynne ostatnich stopni, przeznaczonych lub zmodyfikowanych do zastosowań satelitarnych i posiadające wszystkie następujące właściwości: 1.średnica gardzieli dyszy 20 mm lub mniejsza; oraz 2. ciśnienie w komorze spalania 15 barów lub mniejsze. |9A106.c. | Następujące systemy lub podzespoły, inne niż określone w pozycji 9A006, nadające się do stosowania w „pociskach rakietowych”, specjalnie opracowane do układów napędowych rakiet na paliwo ciekłe: c. Podzespoły do sterowania wektorem ciągu, z wyjątkiem przeznaczonych do systemów rakietowych niezdolnych do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego na odległość co najmniej 300 km. Uwaga techniczna: Do sposobów sterowania wektorem ciągu wymienionych w pozycji 9A106.c. należą np.: 1.Dysza regulowana; 2.Dodatkowy wtrysk cieczy lub gazu; 3.Ruchoma komora silnika lub dysza wylotowa; 4.Odchylanie strumienia gazów wylotowych za pomocą łopatek kierowanych (nastawnych) lub systemów wtryskiwaczy; lub 5.Używanie klapek oporowych. |9A108.c. | Następujące podzespoły, inne niż określone w pozycji 9A008, nadające się do wykorzystania w „pociskach rakietowych”, specjalnie opracowane do układów napędowych do rakiet na paliwo stałe: c. Podzespoły do sterowania wektorem ciągu, z wyjątkiem przeznaczonych do systemów rakietowych niezdolnych do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego na odległość co najmniej 300 km. Uwaga techniczna: Do sposobów sterowania wektorem ciągu wymienionych w pozycji 9A108.c należą np.: 1.Dysza regulowana; 2.Dodatkowy wtrysk cieczy lub gazu; 3.Ruchoma komora silnika lub dysza wylotowa; 4.Odchylanie strumienia gazów wylotowych za pomocą łopatek kierowanych (nastawnych) lub systemów wtryskiwaczy; lub 5.Używanie klapek oporowych. |9A116 | Następujące statki kosmiczne zdolne do powrotu na ziemię nadające się do „pocisków rakietowych” oraz opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do nich podzespoły z wyjątkiem statków kosmicznych zdolnych do powrotu na ziemię przeznaczonych dla ładunków użytecznych niebędących bronią: a. Statki kosmiczne zdolne do lądowania na ziemi; b. Osłony ciepłochronne i elementy do nich wykonane z materiałów ceramicznych lub ablacyjnych; c. Urządzenia pochłaniające ciepło i elementy do nich, wykonane z lekkich materiałów o wysokiej pojemności cieplnej; d. Urządzenia elektroniczne specjalnie przeznaczone do statków kosmicznych zdolnych do lądowania na ziemi. |9A119 | Pojedyncze stopnie do rakiet, nadające się do kompletnych systemów rakietowych i bezzałogowych statków powietrznych, zdolnych do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego i o zasięgu, co najmniej 300 km, inne niż określone w pozycji 9A005 lub 9A007.a powyżej. |9B115 | Specjalne „urządzenia produkcyjne” do systemów, podsystemów i podzespołów, określonych w pozycjach 9A005, 9A007.a., 9A008.d., 9A105.a., 9A106.c., 9A108.c., 9A116 lub 9A119 powyżej. |9B116 | „Instalacje produkcyjne” specjalnie opracowane do kosmicznych pojazdów nośnych, określonych w pozycji 9A004 lub systemów, podsystemów i elementów, określonych w pozycjach 9A005, 9A007.a., 9A008.d, 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 lub 9A119 powyżej. |9D101 | „Oprogramowanie” specjalnie opracowane do „użytkowania” towarów określonych w pozycji 9B116 powyżej. |9E001 | „Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” urządzeń lub „oprogramowania” określone w pozycjach 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115, 9B116 lub 9D101 powyżej. |9E002 | „Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „produkcji” urządzeń określonych w pozycjach 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115 lub 9B116 powyżej. Uwaga: Dla potrzeb kontroli technologii napraw konstrukcji, laminatów lub materiałów sprawdź pozycję 1E002.f. |9E101 | „Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” lub „produkcji” towarów określonych w pozycjach 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 lub 9A119 powyżej. |9E102 | „Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” kosmicznych pojazdów nośnych określonych w pozycjach 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116, 9A119, 9B115, 9B116 lub 9D101 powyżej. |— Wyłączenia:Załącznik V IV nie obejmuje kontrolą następujących produktów technologii MTCR:1. które są przekazywane na podstawie zamówień na mocy stosunku umownego ustanawianego przez Europejską Agencję Kosmiczną (ESA) lub które są przekazywane przez ESA w celu realizacji jej zadań urzędowych;2. które są przekazywane na podstawie zamówień na mocy stosunku umownego ustanawianego przez krajowe organizacje kosmiczne państw członkowskich lub które są przekazywane przez te organizacje w celu realizacji ich zadań urzędowych;3. które są przekazywane na podstawie zamówień na mocy stosunku umownego ustanawianego w związku ze wspólnotowym programem rozwoju i produkcji wyrzutni kosmicznych, podpisanym przez dwa lub więcej rządów państw europejskich;4. które są przekazywane do kontrolowanego przez państwo miejsca startów kosmicznych położonych na terytorium państwa członkowskiego, jeżeli to państwo członkowskie nie kontroluje takich transferów na podstawie warunków niniejszego rozporządzenia.CZęść II(Krajowe Zezwolenie Generalne nie jest wymagane dla handlu wewnątrzwspólnotowego)Produkty w ramach Konwencji o Zakazie Broni Chemicznej (CWC)1C351.d.4. | Rycyna |1C351.d.5. | Saksytoksyna |Produkty technologii NSGCała kategoria 0 załącznika I została włączona do załącznika V IV, z zastrzeżeniem następujących pozycji :-  0C001: pozycja nie jest objęta załącznikiem IV V.-  0C002: pozycja nie jest objęta załącznikiem IV V, z wyjątkiem następujących specjalnych materiałów rozszczepialnych:a. wydzielony pluton;b.„uran wzbogacony w izotopy 233 lub 235”, do ponad 20 %.-  0D001 (oprogramowanie) jest objęte załącznikiem IV V z wyjątkiem przypadków, kiedy odnosi się do pozycji 0C001, lub do tych elementów pozycji 0C002, które nie są objęte załącznikiem IV V .-  0E001 (technologia) jest objęta załącznikiem IV V, z wyjątkiem przypadków, kiedy odnosi się do pozycji 0C001, lub do tych elementów pozycji 0C002, które nie są objęte załącznikiem IV V .NB. : Pozycje 0C003 i 0C004 , tylko w przypadku zastosowania w „reaktorach jądrowych” (w ramach pozycji 0A001.a.).1B226 | Elektromagnetyczne separatory izotopów, skonstruowane z przeznaczeniem do współpracy lub połączone z jednym lub wieloma źródłami jonów zdolnymi do uzyskania wiązki jonów o całkowitym natężeniu rzędu 50 mA lub więcej. Uwaga: Pozycja 1B226 obejmuje następujące separatory: a.zdolne do wzbogacania izotopów trwałych; b.ze źródłami i kolektorami jonów zarówno w polu magnetycznym, jak i w takich instalacjach, w których zespoły te znajdują się na zewnątrz pola. |1C012 | Następujące materiały: Uwaga techniczna: Materiały te są typowo wykorzystywane do jądrowych źródeł ciepła. b. „Uprzednio separowany” neptun-237 w dowolnej formie. Uwaga: Pozycja 1C012.b nie obejmuje kontrolą dostaw zawierających neptun-237 w ilości 1 grama lub mniejszej. |1B231 | Następujące urządzenia i instalacje do obróbki trytu lub ich podzespoły: a. Urządzenia lub instalacje do produkcji, odzyskiwania, ekstrakcji, stężania lub manipulowania trytem; b. Następujące urządzenia instalacji lub fabryk trytu: 1. Urządzenia do chłodzenia wodoru lub helu zdolne do chłodzenia do temperatury 23 K (– 250 °C) lub poniżej, o wydajności odprowadzania ciepła wyższej niż 150 W; 2. Instalacje do składowania i oczyszczania izotopów wodoru za pomocą wodorków metali jako środków do magazynowania lub oczyszczania. |1B233 | Następujące urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu lub ich podzespoły: a. Urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu; b. Następujące podzespoły do separacji izotopów litu: 1. Kolumny z wypełnieniem do wymiany cieczowo-cieczowej specjalnie przeznaczone do amalgamatów litu; 2. Pompy do pompowania rtęci oraz (lub) amalgamatu litu; 3. Cele do elektrolizy amalgamatu litu; 4. Aparaty wyparne do zagęszczonych roztworów wodorotlenku litu. |1C233 | Lit wzbogacony w izotop 6 (6Li) do stężenia powyżej naturalnego, produkty albo urządzenia zawierające lit wzbogacony jak następuje: lit pierwiastkowy, stopy, związki, mieszaniny zawierające lit, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych. Uwaga: Pozycja 1C233 nie obejmuje kontrolą dozymetrów termoluminescencyjnych. Uwaga techniczna: Naturalna liczebność izotopowa litu-6 wynosi wagowo ok. 6,5 % (atomowo 7,5 %). |1C235 | Tryt, związki trytu i mieszanki zawierające tryt, w których stosunek atomów trytu do wodoru wynosi 1 część na 1000 oraz wyroby lub urządzenia zawierające te materiały. Uwaga: Pozycja 1C235 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń zawierających nie więcej niż 1,48 × 103 GBq (40 Ci) trytu. |1E001 | „Technologia” według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” lub „produkcji” urządzeń lub materiałów określonych w pozycji 1C012.b. |1E201 | „Technologia” według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycjach 1B226, 1B231, 1B233, 1C233 lub 1C235. |3A228 | Następujące urządzenia przełączające: a. Lampy elektronowe o zimnej katodzie, bez względu na to, czy są napełnione gazem, czy też nie, pracujące podobnie do iskiernika i posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne: 1. Składające się z trzech lub więcej elektrod; 2. Szczytowa wartość napięcia anody równa 2500 V lub więcej; 3. Szczytowa wartość natężenia prądu anodowego równa 100 A lub więcej; oraz 4. Czas zwłoki dla anody równy 10 μs lub mniej. Uwaga: Pozycja 3A228 obejmuje gazowe lampy kriotronowe i próżniowe lampy sprytronowe. b. Iskierniki wyzwalane posiadające obie następujące właściwości: 1. Czas zwłoki dla anody równy 15 μs lub mniej; oraz 2. Przystosowane do prądów o natężeniach szczytowych równych 500 A lub większych. |3A231 | Generatory neutronów, w tym lampy, posiadające obie następujące właściwości: a. Przeznaczone do pracy bez zewnętrznych instalacji próżniowych; oraz b. W których zastosowano przyspieszanie elektrostatyczne do wzbudzania reakcji jądrowej trytu z deuterem. |3E201 | „Technologia” według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycjach 3A228.a, 3A228.b lub 3A231. |6A203 | Następujące kamery filmowe i ich podzespoły, inne niż określone w pozycji 6A003: a. Następujące kamery z wirującym zwierciadłem napędzanym mechanicznie oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły: 1. Kamery filmowe z kadrowaniem z szybkością powyżej 225000 klatek zdjęciowych na sekundę; 2. Kamery smugowe z prędkościami zapisu powyżej 0,5 mm na mikrosekundę; Uwaga: W pozycji 6A203.a do podzespołów kamer tego typu zalicza się specjalnie skonstruowane elektroniczne elementy synchronizujące oraz specjalne zespoły wirników składające się z turbinek, zwierciadeł i łożysk. |6A225 | Interferometry do pomiaru prędkości w zakresie powyżej 1 km/s w odstępach czasowych poniżej 10 mikrosekund. Uwaga: Pozycja 6A225 obejmuje doplerowskie interferometry laserowe, jak VISAR'y, DLI itp. |6A226 | Następujące czujniki ciśnienia: a. Czujniki wykonane z manganinu z przeznaczeniem do pomiaru ciśnień powyżej 10 GPa; lub b. Kwarcowe przetworniki ciśnień do pomiarów ciśnień powyżej 10 GPa. |ò nowyCzęść IIFormularz wstępnego powiadomienia – do wypełnienia przez dostawcę zamierzającego dokonywać transferu materialnych produktów podwójnego zastosowania do innego państwa członkowskiego w UE. Formularz należy skierować do właściwych organów krajowych (określonych w art. 6 ust. 5) kraju, w którym znajduje się produkt.A- Dane dostawcyNazwa lub nazwiskoAdresB-Punkt kontaktowy dla kontroli eksportu i zobowiązań w ramach IAEA (we właściwych przypadkach):Nazwa lub nazwiskoTel.FaksE-mailTel. komórkowy (jeśli dostępny)C- Opis produktów- Nr pozycji zgodnie z rozporządzeniem WE- Charakterystyka (techniczna), w tym w odpowiednich przypadkach objętość, pojemność- ilości- potencjalne zastosowania końcowe produktuD- Opis planowanego zastosowania końcowego produktu przez użytkowników końcowychE- Nazwa kraju odbiorcyF- Dane użytkownika końcowegoNazwa lub nazwiskoAdresTel.FaksE-mailG-Lokalizacja produktu używanego przez użytkownika końcowego (jeśli jest inna, niż adres użytkownika końcowego)H-Data wysyłkiUwaga: w fakturze dla klienta dostawca ma obowiązek zaznaczyć, że:a) w razie eksportu produktu wymagane jest zezwolenie na eksport zgodnie z rozporządzeniem (WE) nr …b) produkt nie może być powtórnie transferowany do innego użytkownika końcowego w innym państwie członkowskim bez uprzedniego powiadomienia dokonanego 8 dni przed wysyłką.I- Nazwa lub nazwisko składającego deklarację (jeśli różni się od nazwy lub nazwiska dostawcy)Data powiadomieniaPodpisñ⎡ZAłąCZNIK VIUchylone rozporządzenie oraz jego kolejne zmianyRozporządzenie Rady (WE) nr 1334/2000 | (Dz.U. L 159 z 30.6.2000, str. 1) |Rozporządzenie Rady (WE) nr 2889/2000 | (Dz.U. L 336 z 30.12.2000, str. 14) |Rozporządzenie Rady (WE) nr 458/2001 Rozporządzenie Rady (WE) nr 2432/2001 | (Dz.U. L 65 z 7.3.2001, str. 19) (Dz.U. L 338 z 20.12.2001, str. 1) |Rozporządzenie Rady (WE) nr 880/2002 Rozporządzenie Rady (WE) nr 149/2003 Rozporządzenie Rady (WE) nr 1504/2004 Rozporządzenie Rady (WE) nr 394/2006 | (Dz.U. L 139 z 29.5.2002, str. 7) (Dz.U. L 30 z 5.2.2003, str. 1) (Dz.U. L 281 z 31.8.2004, str. 1) (Dz.U. L 74 z 13.3.2006, str. 1) |_____________ZAłąCZNIK VIITabela korelacjiRozporządzenie Rady (WE) nr 1334/2000 | Niniejsze rozporządzenie |Art. 1 | Art. 1 |Art. 2, sformułowanie wprowadzające | Art. 2, sformułowanie wprowadzające |Art. 2 lit. a) | Art. 2 lit. a) |Art. 2 lit. b), sformułowanie wprowadzające | Art. 2 lit. b), sformułowanie wprowadzające |Art. 2 lit. b) ppkt. (i) | Art. 2 lit. b) ppkt. (i) |Art. 2 lit. b) ppkt. (ii) | Art. 2 lit. b) ppkt. (ii) |Art. 2 lit. b) ppkt. (iii) | Art. 2 lit. b) ppkt. (iii) |- | Art. 2 lit. b) ppkt. (iv) |Art. 2 lit. c) ppkt. (i) | Art. 2 lit. c) ppkt. (i) |Art. 2 lit. c) ppkt. (ii) | Art. 2 lit. c) ppkt. (ii) |Art. 2 lit. d) | Art. 2 lit. d) |- | Art. 2 lit. e)–l) |Art. 3 ust. 1 | Art. 3 ust. 1 |Art. 3 ust. 2 | Art. 3 ust. 2 |Art. 3 ust. 3 | Art. 3 ust. 5 |- | Art. 3 ust. 3 |Art. 3 ust. 4 | - |- | Art. 3 ust. 4 |Art. 4 ust. 1 | Art. 4 ust. 1 |Art. 4 ust. 2 | Art. 4 ust. 2 |Art. 4 ust. 3 | Art. 4 ust. 3 |Art. 4 ust. 4 | Art. 4 ust. 4 |Art. 4 ust. 5 | Art. 4 ust. 5 |Art. 4 ust. 6 | Art. 4 ust. 6 |Art. 4 ust. 7 | Art. 4 ust. 7 |- | Art. 4 ust. 8 |Art. 4 ust. 8 | Art. 4 ust. 9 |Art. 5 | Art. 5 |Art. 6 ust. 1 | Art. 6 ust. 1, sformułowanie wprowadzające |Art. 6 ust. 2 | Art. 6 ust. 2 |Art. 6 ust. 3 | Art. 6 ust. 3 lit. a) |- | Art. 6 ust. 3 lit. b) |Art. 6 ust. 4 | Art. 6 ust. 3 lit. c) |Art. 6 ust. 5 | Art. 6 ust. 4 |Art. 6 ust. 6, akapit pierwszy | Art. 6 ust. 5, sformułowanie wprowadzające i lit. a) |- | Art. 6 ust. 5 lit. b)–d) |Art. 6 ust. 6, akapit drugi | Art. 6 ust. 5, sformułowanie końcowe |Art. 7 | Art. 7 |Art. 8 | Art. 8 ust. 1 |- | Art. 8 ust. 2 |Art. 9 ust. 1 | Art. 9 ust. 1 |Art. 9 ust. 2 | Art. 9 ust. 2 |Art. 9 ust. 3 | Art. 9 ust. 3 |- | Art. 9 ust. 4 |Art. 10 ust. 1 | Art. 10 ust. 1 |Art. 10 ust. 2 | Art. 10 ust. 2 |Art. 10 ust. 3 | Art. 10 ust. 3 |- | Art. 10 ust. 4 |Art. 11 | Art. 11 |Art. 12 | Art. 12 |Art. 13 | Art. 13 |Art. 14 | Art. 14 |Art. 15 ust. 1 | Art. 15 ust. 1 |Art. 15 ust. 2 | Art. 15 ust. 2, sformułowanie wprowadzające |- | Art. 15 ust. 2 lit. a)–b) |Art. 15 ust. 3 | Art. 15 ust. 3 |- | Art. 15 ust. 4, Art. 15 ust. 5 i Art. 16 ust. 1 |Art. 16 ust. 1 | Art. 16 ust. 2 (i) |- | Art. 16 ust. 2 ppkt (ii)–(iii) |Art. 16 ust. 2 | Art. 16 ust. 3 |Art. 17 | Art. 17 |Art. 18 ust. 1, sformułowanie wprowadzające | Art. 18 ust. 1, sformułowanie wprowadzające |Art. 18 ust. 1 lit. a) | Art. 18 ust. 1 lit. a) |Art. 18 ust. 1 lit. b) | - |- | Art. 18 ust. 1 lit. b)–d) i sformułowanie końcowe |Art. 18 ust. 2 | Art. 18 ust. 2 |- | Art. 19–20 |Art. 19 | Art. 21 |- | Art. 22–23 |Art. 20 | Art. 24 |Art. 21 ust. 1 | - |Art. 21 ust. 2 lit. a) | - |Art. 21 ust. 2 lit. b) | - |- | Art. 25 ust. 1–2 i art. 25 ust. 3, akapit pierwszy i drugi |Art. 21 ust. 2 lit. c) | Art. 25 ust. 3, akapit trzeci |Art. 21 ust. 2 lit. d) | - |Art. 21 ust. 3 | Art. 25 ust. 4 |Art. 21 ust. 4 | Art. 25 ust. 5 |Art. 21 ust. 5 | - |Art. 21 ust. 6 | Art. 25 ust. 6 |Art. 21 ust. 7 | Art. 25 ust. 7 |Art. 22 | Art. 26 |Art. 23 | Art. 27, akapit pierwszy i drugi |- | Art. 27, akapit trzeci |Art. 24 | Art. 28 |Załącznik I | Załącznik I |Załącznik II Część 1 | Załącznik II Część 1 |Załącznik II Część 2 | Załącznik II Część 2 |Załącznik II Część 3 | Załącznik II Część 3 |Załącznik II uwaga | - |Załącznik II, „Warunki i wymagania w odniesieniu do stosowania niniejszego zezwolenia” | Art. 6 ust. 1 lit. a)–b) |Załącznik III a | Załącznik III |Załącznik III b | Załącznik IV |Załącznik IV Część I | Załącznik V Część I: „Produkty technologii zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych („stealth”), „Produkty objęte wspólnotową kontrolą strategiczną,” „Produkty wspólnotowego sterowania strategicznego – Kryptografia – Kategoria 5 część 2” i „Produkty technologii MTCR” |Załącznik IV Część II | Załącznik V, Część I: „Produkty w ramach Konwencji o Zakazie Broni Chemicznej (CWC)” i „Produkty technologii NSG” |- | Załącznik V Część II |- | Załączniki VI–VII |_____________[1] Takie zezwolenia są udzielane przez 8 państw członkowskich. Niektóre spośród nich wydały ponad 10 tych instrumentów ułatwiających wymianę handlową, opiewających na różne rodzaje produktów lub transakcji (produkty związane z naprawami, wystawiennictwem, produkty chemiczne, produkty objęte porozumieniem z Wassenaar niepodlegające szczególnej ochronie) oraz różne miejsca docelowe.[2] Dz.U. L 159 z 30.6.2000, str. 1. Rozporządzenie ostatnio zmienione rozporządzeniem (WE) nr 394/2006 (Dz.U. L 74 z 13.3.2006, str. 1).[3] Dz.U. L 367 z 31.12.1994, str. 1. Rozporządzenie zmienione rozporządzeniem (WE) nr 837/95 (Dz.U. L 90 z 21.4.1995, str. 1).[4] Dz.U. L 367 z 31.12.1994, str. 8. Decyzja ostatnio zmieniona decyzją 2000/243 WPZB (Dz.U. L 82 z 1.4.2000, str. 1).[5] Dz.U. L 324 z 27.12.1969, str. 25. Rozporządzenie ostatnio zmienione rozporządzeniem (EWG) nr 3918/91 (Dz.U. L 372 z 31.12.1991, str. 31).[6] Dz.U. L 302 z 19.10.1992, str. 1. Rozporządzenie ostatnio zmienione rozporządzeniem (WE) nr 955/1999 Parlamentu Europejskiego i Rady (Dz.U. L 119 z 7.5.1999, str. 1).[7] Dz.U. L 253 z 11.10.1993, str. 1. Rozporządzenie ostatnio zmienione rozporządzeniem (WE) nr 1662/1999 (Dz.U. L 197 z 29.7.1999, str. 25).[8] Dz.U. C 219 z 30.7.1999, str. 34.[9] Dz.U. L 82 z 22.3.1997, str. 1.[10] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[11] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[12] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[13] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[14] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[15] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[16] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[17] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[18] Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.[19] Indeksy w nawiasach odnoszą się do uwag zamieszczonych pod tabelą.[20] Zob. rozporządzenie (WE) nr 1172/95 (Dz.U. L 118 z 25.5.1995, str. 10) z późniejszymi zmianami[21] W razie potrzeby opis ten można przedstawić w załączniku lub załącznikach do niniejszego formularza (1bis). W takim wypadku należy w tej ramce wskazać dokładną liczbę załączników. Opis powinien być możliwie jak najdokładniejszy i obejmować w uzasadnionych przypadkach numer CAS lub inne odniesienia, szczególnie w przypadku produktów chemicznych.[22] Różnice w brzmieniu/zakresie między załącznikiem I a załącznikiem IVV są zaznaczone pogrubioną kursywą.