콘텍스트 맵에 포함된 임의의 정보는 웨이퍼 검사 프로세스의 1 이상의 매개변수를 변경하기 위해 전술한 실시예에서 사용할 수 있다.
Any information contained in the context map may be used in the embodiments described above to modify one or more parameters of the wafer inspection process.