부하, 특히 플라즈마 챔버로부터 발생된 총 전력 및/또는 반사된 전력이 결정될 수 있으며 고차 제어부에 공급될 수 있다.
The load, in particular the total power generated from the plasma chamber and/or the reflected power may be determined and supplied to the higher order control.