도전층(SL)은 게이트 전극(613)과 동일한 층에 형성되거나, 소스 전극(621) 및 드레인 전극(623)과 동일한 층에 형성될 수 있다.
The conductive layer SL may be formed on the same layer as the gate electrode 613, or on the same layer as the source electrode 621 and the drain electrode 623.