동작 시에는 불필요한 화학 물질 혹은 불순물이 존재해서 반도체 처리 단계가 방해받는 일이 없도록, 처리 챔버는 진공 상태가 되어야 한다.
During operation, the processing chamber should be evacuated so that the presence of unnecessary chemicals or impurities does not interfere with the semiconductor processing steps.