제1 도전형 반도체층(1111)은 메사(M)를 통해 노출되는 제1 컨택 영역(R1) 및 제2 컨택 영역(R2)을 포함할 수 있다.
The first conductivity type semiconductor layer 1111 may include a first contact region R1 and a second contact region R2 exposed through the mesa M.