반도체층(134)은 비정질 반도체 물질, 다결정 반도체 물질 및 산화물 반도체 물질 중 적어도 어느 하나로 형성된다.
The semiconductor layer 134 is formed of at least one of an amorphous semiconductor material, a polycrystalline semiconductor material, and an oxide semiconductor material.