방법은 패턴의 제2 구역에서 기판을 에칭하여, 제2 구역에서 기판에 바이너리 격자 구조를 생성하는 단계를 더 포함한다.
The method further includes a step of etching the substrate in a second region of the pattern to generate a binary grating structure in the substrate in the second region.