감지층은 스퍼터링 과정에서 침전 시간을 변경하여 100 nm에서 1 µm에 이르는 다양한 두께의 필름으로 침전된다.
The sensing layer is deposited with different thicknesses of the film ranging from 100 nm to 1 µm by changing the deposition times during the sputtering process.