기판 표면의 특정 영역에서 원하는 프로세싱 품질 또는 프로세싱 양은 또한 특정 빔 특징의 선택에 결정적일 수 있다.
The desired processing quality or amount of processing in a particular region of ​​the substrate surface may also be critical to the selection of a particular beam feature.