상기 범위이면, 노광 공정에서 고정화되지 않았던 잔존 분자가 현상 공정에 있어서 격벽으로부터 씻겨지기 쉽다.
Within the range, residual molecules that have not been immobilized in the exposure step are likely to be washed away from the partition wall in the developing step.