구리층 (4) 에 있어서의 스퍼터링법의 조건도, 투명 도전층 (3) 의 형성에서 예시한 조건과 동일한 것을 들 수 있다.
The conditions of the sputtering method in the copper layer 4 are also the same as those exemplified in the formation of the transparent conductive layer 3.