이를 통해, 마스크의 들뜸 또는 마스크의 미스 얼라인에 따른 침투 성막 불량이 발생한다는 문제점을 개선할 수 있다.
Through this, it is possible to improve a problem in that a penetration film formation defect occurs due to lift of the mask or misalignment of the mask.