도핑 단계 동안 도펀트를 실리콘에 첨가하기 위해 표면 확산, 이온 주입 및 다양한 다른 제조 단계들이 사용될 수 있다.
Surface diffusion, ion implantation, and various other fabrication steps may be used to add dopants to the silicon during the doping step.