얇은 막의 구조 안정화와 강유전 성을 증가를 위해 얇은 막은 질소 분위기에서 135℃로 2시간 열 처리 하였다.
To stabilize the structure of the thin film and increase its ferroelectricity, the thin film was heat-treated at 135°C for 2 h in a nitrogen atmosphere.