여기서, 기판 처리 장치란, 약액이 현상액이면 현상 장치, 에칭액이면 에칭 장치, 박리액이면 박리 장치 등의 것이다.
Here, the substrate processing device refers to a developing device if the chemical liquid is a developer, an etching device if the etching liquid, and a peeling device if the peeling liquid.