제1 출력 노드와 제2 출력 노드는 마스크 패턴(42)에 비해 식각 대상 레이어(41)가 과도하게 식각되는 경우에 대응할 수 있다.
The first output node and the second output node may correspond to a case in which the etch target layer 41 is excessively etched compared to the mask pattern 42.