본 발명의 일 태양에 따르면, 플라즈마 처리 장치의 상태의 변화에 추종해서 처리 결과 지표를 고정밀도로 예측할 수 있다.
According to one aspect of the present invention, it is possible to predict a treatment result index with high accuracy by following a change in the state of the plasma treatment apparatus.