스텝 앤드 리피트 공정에서는 개별 필드 노광 시에 웨이퍼(W)가 레티클(R) 및 투영 옵팁스(46)에 대해 고정 위치에 있다.
In a step-and-repeat process, the wafer W is in a fixed position relative to the reticle R and projection optips 46 during individual field exposures.