반도체층을 도핑하여 제1 및 제2 도전형 영역을 형성하고, 반도체 기판의 전면을 도핑하여 전계 영역을 형성하였다.
The semiconductor layer is doped to form first and second conductivity type regions, and a front surface of the semiconductor substrate is doped to form an electric field region.