유전 막(DL)은 하프늄 산화 막(HOL), 제1 산화 시드 막(OSL1), 및 제2 산화 시드 막을 포함할 수 있다.
The dielectric layer DL may include a hafnium oxide layer HOL, a first oxidation seed layer OSL1, and a second oxidation seed layer OSL2.