본 발명은, 하이브리드 스캔 이온주입장치 및 2차원 기계적 웨이퍼 스캔 이온주입장치 어느 것에도 적용될 수 있다.
The present invention can be applied to both a hybrid scan ion implantation apparatus and a two-dimensional mechanical wafer scan ion implantation apparatus.