웨이퍼에 도포된 포토레지스트층을 노광하고 현상하는 것과 같은 포토리소그래픽 처리는 제1 제조 클러스터(802)를 사용하여 수행될 수 있다.
Photolithographic processing, such as exposing and developing a photoresist layer applied to the wafer, may be performed using the first fabrication cluster 802.