희생 재료가 에칭 제거될 때, 정의된 갭(19), 즉 광학 공동이 가동 반사층(14)과 광학 적층물(16) 사이에 형성될 수 있다.
When the sacrificial material is etched away, a defined gap 19, that is, an optical cavity, may be formed between the movable reflective layer 14 and the optical stack 16.