결론적으로 Ni 타깃 전력 밀도 증가로 인해 증가된 원자의 스퍼터링의 증가는 박막의 나노 결정화에 기여하게 된다.
In conclusion, the increase in atomic sputtering due to the increase in the Ni target power density contributes to the nano-crystallization of the thin film.