제3 절연층(160)은, 예를 들어 질화실리콘막, 또는 질화실리콘막과 산화실리콘막이 적층된 구조를 갖는다.
The third insulating layer 160 has a structure in which, for example, a silicon nitride film or a silicon nitride film and a silicon oxide film are stacked.