습식 에칭에 사용하는 에칭액으로서, 인산과 아세트산과 질산의 혼합 용액, 또는 시트르산 또는 옥살산 등의 유기산을 사용할 수 있다.
As an etchant used for wet etching, a mixed solution of phosphoric acid, acetic acid, and nitric acid, or an organic acid such as citric acid or oxalic acid may be used.