Wake Shield Facility - artist's impression.jpg
NASA/Marshall Space Flight Center
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Wake Shield Facility artist's impression, Wake Shield Facility (WSF) satellite released from space shuttle - artist's impression.
* The Wake Shield Facility is a free-flying research and development facility that is designed to use the pure vacuum of space to conduct scientific research in the development of new materials. The thin film materials technology developed by the WSF could some day lead to applications such as faster electronics components for computers. The WSF Free-Flyer is a 12-foot-diameter stainless steel disk that, while traveling in orbit at approximately 18,000 mph, leaves in its wake a vacuum 1,000 to 10,000 times better than the best vacuums currently achieved on Earth. While it is carried into orbit by the Space Shuttle, the WSF is a fully equipped spacecraft in its own right, with cold gas propulsion for separation from the orbiter and a momentum bias attitude control system. All WSF functions are undertaken by a spacecraft computer with the WSF remotely controlled from the ground. The ultra vacuum, nearly empty of all molecules, is then used to conduct a series of thin film growths by a process called epitaxy which produces exceptionally pure and atomically ordered thin films of semiconductor compounds such as gallium arsenide. Using this process, the WSF offers the potential of producing thin film materials, and the devices they will make possible.
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Wake Shield Facility artist's impression, Illustrations of spacecraft, Art from NASA, Wake Shield Facility
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ウェイクシールド ファシリティアーティストの印象、ウェイクシールドファシリティ(WSF) スペースシャトルから放出された衛星 -アーティストの印象。*ウェイクシールドファシリティは、新しい材料の開発において科学的研究を行うために空間の純粋な真空を使用するように設計されたフリーフライトの研究開発施設。WSFが開発した薄膜材料技術は、いつかコンピューター用のより高速な電子部品などのアプリケーションにつながる可能性がある。WSFフリーフライヤーは直径12フィートのステンレス鋼板で、軌道上を約18,000 mphで移動している間に、真空が現在地球で達成されている最高の真空よりも1,000〜10,000倍優れている。スペースシャトルによって軌道に運ばれる間、WSFはそれ自体が完全に装備された宇宙船であり、オービターから分離するための冷たいガス推進と、モーメンタムバイアス姿勢制御システムを備えている。WSF機能はすべて、地上から遠隔操作されたWSFを備えた宇宙船コンピューターによって提供される。次に、すべての分子がほぼ空の状態で超真空を使用して、ガリウムヒ化物などの半導体化合物の例外的に純粋で原子的に秩序のある薄膜を生成するエピタキシーと呼ばれるプロセスによって一連の薄膜成長を行う。このプロセスを使用すると、WSFは薄膜材料と可能なデバイスを製造することができる。
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ウェイクシールド ファシリティアーティストの印象、宇宙船のイラスト、NASAのアート、ウェイクシールド施設
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