(2) JP 2017-66261 A 2017.4.6 【特許請求の範囲】 有機極性溶媒中、硫⻩源とジハロゲン化芳⾹族化合物とを反応させてポリアリーレンスル フィドを製造する際に、反応系内の硫⻩原⼦１モルに対し、下記⼀般式（Ａ）で表される 反応性官能基Ｗを有するモノハロゲン化化合物を、０．１モルを越え０．４モル以下、か つアルカリ⾦属⽔酸化物を、１．２モルを超え２．０モル以下の範囲内で反応させること を特徴とするポリアリーレンスルフィドの製造⽅法。 【化１】 （式（Ａ）中、Ｖはハロゲンを⽰し、Ｗはカルボキシル基、ヒドロキシル基、酸無⽔物基 、イソシアネート基、エポキシ基、アミノ基、アミド基、アセトアミド基、スルホン酸基 、スルホンアミド基、シラノール基、アルコキシシラン基、アルデヒド基、アセチル基、 またはそれらの誘導体から選ばれる官能基⽰す。）  前記反応性官能基Ｗを有するモノハロゲン化化合物を、反応系内の硫⻩原⼦１モルに対 し、０．２モルを越え０．３５モル以下の範囲内で反応させることを特徴とする請求項１ 記載のポリアリーレンスルフィドの製造⽅法。 ⼀般式（Ｂ）で表される構造を有し、官能基含有量が５００μｍｏｌ／ｇ以上であって、 かつ融点が２７０℃以上であることを特徴とするポリアリーレンスルフィド。 （ここで、⼀般式（Ｂ）におけるＷは、カルボキシル基、ヒドロキシル基、酸無⽔物基、 イソシアネート基、エポキシ基、アミノ基、アミド基、アセトアミド基、スルホン酸基、 スルホンアミド基、シラノール基、アルコキシシラン基、アルデヒド基、アセチル基、ま たはそれらの誘導体から選ばれる官能基であり、ｍは５以上の整数を表す。） 下記で定義される末端官能基率が８５％以上であることを特徴とする請求項３記載のポリ アリーレンスルフィド。 末端官能基率（％）＝（官能基含有量（ｍｏｌ／ｇ）／（１／数平均分⼦量（ｇ／ｍｏｌ ）×２））×１００（％） 塩素含有量が３５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項３〜４のいずれかに記載 のポリアリーレンスルフィド。 塩素含有量が１０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のポリアリーレ ンスルフィド。 【請求項７】 重量平均分⼦量／数平均分⼦量で表される分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．５以下であること を特徴とする請求項３〜６のいずれかに記載のポリアリーレンスルフィド。 クロロホルム抽出成分が１重量％以上であることを特徴とする請求項３〜７のいずれかに 【請求項８】 【請求項６】 【請求項５】 【請求項４】 【化２】 【請求項３】 【請求項２】 【請求項１】 (A) Ks)