I detta dokument presenteras ett mallbaserat visionssystem för att upptäcka och klassificera de icke-uniformationer som förekommer på halvledarplattornas ytor. Designmål är bland annat upptäckt av brister och korrelation av defekta egenskaper baserat på branschexpertens kunskap om halvledare. Mönstret genereras och behålls som referens i förväg från experter inom halvledarindustrin. Systemet kan identifiera defekterna på plattorna efter sågningen. Varje unik defektstruktur definieras som ett objekt. Objekt grupperas i användardefinierade kategorier som flisning, metallisering peeling, kisel damm förorening, etc., efter die sågning och mikro-crack, repa, bläck prick tvättas bort, överbryggande, etc., från wafer. Detta dokument beskriver också visionssystemet i termer av dess hårdvarumoduler, samt de bildbehandlingsalgoritmer som används för att utföra funktionerna.
Shankar m.fl. REF beskrev ett visionsbaserat system för att upptäcka fel på halvledare.
Classification of Defects on Semiconductor Wafers Using Priority Rules
{'venue': None, 'journal': 'Defect and Diffusion Forum', 'mag_field_of_study': ['Materials Science']}