Abstract-Bland alla former av skulptur, bas-relief är utan tvekan närmast målning. Även om det till sin natur är en skulptur med två dimensioner, antyder en basrelief en visuell rumslig förlängning av scenen i djupet genom kombinationen av komposition, perspektiv och skuggning. Senast har det funnits betydande resultat på digital bas-relief generering men många av de befintliga teknikerna kan tvätta bort hög nivå ytdetaljer under komprimeringsprocessen. Det primära målet med detta arbete är att ta itu med problemet med fina egenskaper genom att skräddarsy en filtreringsteknik som uppnår god kompression utan att kompromissa med ytdetaljernas kvalitet. Som en sekundär tillämpning utforskar vi den generation av konstnärlig relief som efterliknar kubism i måleri och vi visar hur den kan användas för att skapa Picasso som porträtt.
Kerber m.fl. REF tar itu med problemet med fina funktioner som undertrycks genom att skräddarsy en filtreringsteknik som uppnår god kompression utan att kompromissa med ytdetaljernas kvalitet.
Feature sensitive bas relief generation
{'venue': '2009 IEEE International Conference on Shape Modeling and Applications', 'journal': '2009 IEEE International Conference on Shape Modeling and Applications', 'mag_field_of_study': ['Computer Science']}