Det finns i allt större utsträckning ett behov av snabb, exakt och känslig upptäckt av utrustning och processfel för att upprätthålla hög processavkastning och snabb felklassificering (diagnos) av orsaken till att minimera driftstopp vid halvledartillverkning. Nuvarande metoder behandlar feldetektering och klassificering som en tvåstegsprocess. Vi presenterar en ny metod för att samtidigt upptäcka och klassificera fel i ett enda steg med hjälp av felspecifika kontrolldiagram. Dessa kontrolltabeller är utformade för att skilja mellan specifika felklasser och normal processdrift samt alla andra felklasser. Med hjälp av en uppsättning experimentella data som samlats in från en industriell plasma etc, visar vi att om de felspecifika diagram konstrueras med en ortogonal linjär discriminant metod, de är effektiva för att samtidigt upptäcka och klassificera ett givet fel. Vi visar också att denna metod har förbättrat känsligheten för upptäckt av fel jämfört med andra vanliga metoder för feldetektering.
Goodlin et al REF föreslog att man skulle bygga ett särskilt kontrolldiagram för att upptäcka specifika typer av fel.
Simultaneous Fault Detection and Classification for Semiconductor Manufacturing Tools
{'venue': None, 'journal': None, 'mag_field_of_study': ['Chemistry']}