විශේෂිත ක්‍රම විශාල ප්‍රමාණයක් පවතී. මෙම ක්‍රම වර්ගීකරණය  කිරිම සඳහා විශේෂිත වූ ක්‍රම විශාල සංඛ්‍යාවක් පවතී. මෙම ක්‍රම වර්ගීකරණය කිරීමේදී ඵල වශයෙන් ලැබෙන ZnO හි ස්වරූපය (රාශියක්, තුනී පටල, නැනෝ ප්‍රමාණයේ) උෂ්ණත්වය (කාමර උෂ්ණත්වයට ආසන්න "පහත" මට්ටමේ හෝ T~1000°C වූ "ඉහළ මට්ටමේ"),  ක්‍රියාවලි ආකාරය ( වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම හෝ ද්‍රාවණයේ සිට වර්ධනය කර ගැනීම) යනාදී වශයෙන් වර්ග කළ හැක.විශාල තනි ස්ඵටික (ඝන සෙන්ටිමීටර විශාල ප්‍රමාණයක්) සාමාන්‍යයෙන් වාෂ්ප පරිවහනයේදී (වාෂ්ප අවස්ථාවේ තැන්පත් කිරීමෙන්), හයිඩ්‍රොතර්මල් සංශ්ලේෂණයේදී හෝ විලීන කිරීමේදී ලබා ගත හැක.[16][20][21] කෙසේ වෙතත්, ZnO වල ඉහළ වාෂ්ප පීඩනය  හේතුවෙන් විලීන කර වර්ධනය කර ගැනීම ගැටලු සහගත වේ. වාෂ්ප පරිවහන ක්‍රමය මගින්ද වර්ධනය පාලනය කර ගැනීම අපහසු වන අතර වඩාත්ම යෝග්‍ය ක්‍රමය වනුයේ හයිඩ්‍රොතර්මල් ක්‍රමයයි. තුනී පටල වශයෙන් නිපදවාගැනීමේදී, රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම, කාබන් අඩංගු ලෝහ සංයෝග වාෂ්ප අවස්ථාවේ ස්ඵටිකරූපී උපස්ථරයක් මත වර්ධනය කර ගැනීම, විද්‍යුතාවසාදනය, ස්පන්දිත කිරණ තැන්පත් කිරීම, පේෂණය, සොල්-ජෙල් සංශ්ලේෂණය, පරමාණුක ස්ථර තැන්පත් කිර